氧化铈抛光粉

氧化铈抛光粉
简介：
氧化铈抛光粉广泛用于玻璃抛光，具有切削力强、抛光时间短、使用寿命长、抛光精度高的优点。

氧化铈抛光粉根据氧化铈的含量分为低铈、中铈、高铈抛光粉，其切削力和使用寿命也由低到高
微观形貌(北京国瑞升科技有限公司）(2张)。

成分结构：
氧化铈抛光粉主要成份为二氧化铈（CeO2），其次分别为氧化镧
（La2O3）、氧化镨（Pr2O3），此外还含有微量的氧化硅、氧化铝和氧化钙。

发展历史：
随着稀土工业的发展，于二十世纪 30 年代，首先在欧洲出现了用稀土氧化物作抛光粉来抛光玻璃。

在第二次世界大战中，稀土抛光粉很快在抛光精密光学仪器方面获得成功。

由于稀土抛光粉具有抛光效率高、质量好、污染小等优点，激发了西方国家的研究热情。

这样，稀土抛光粉就以取代传统抛光粉的趋势迅速发展起来。

国外于 60 年前开始生产稀土抛光粉，二十世纪 90 年代已形成各种标准化、系列化的产品达30多种。

目前，国外的稀土抛光粉生产厂家主要有15家（年生产能力为 200 吨以上者。

其中，法国罗地亚公司年生产能力为 2200 多吨，是目前世界上最大的稀土抛光粉生产厂家。

美国的抛光粉年产量达1500 吨以上。

日本生产稀土抛光粉的原料采用氟碳铈矿、粗氯化铈和氯化稀土三种，工艺上各不相同。

日本稀土抛光粉的生产在烧结设备和技术上均具特色。

1968 年，我国在上海跃龙化工厂首次研制成功稀土抛光粉。

目前国内已有14 个稀土抛光粉生产厂家（年生产能力达30 吨以上者），但与国外相比仍有较大差距，主要是稀土抛光粉的产品质量不稳定，未能达到标准化、系列化，还不能完全满足各种工业领域的抛光要求。

生产工艺：
原料：
目前，我国生产铈系稀土抛光粉的原料有下列几种：(1) 氧化铈(CeO2) ，由混合稀土盐类经分离后所得 (w(CeO2)=99%)；(2) 混合稀土氢氧化物 (RE(OH)3) ，为稀土精矿(w(REO)≥50%) 化学处理后的中间原料(w(REO)=65% ，w(CeO2)≥48%)；(3) 混合氯化稀土(RECl3) ，从混合氯化稀土中萃取分离得到的少铕氯化稀土(主要含La ，Ce ，Pr 和Nd ，
w(REO)≥45% ，w(CeO2)≥50%)；(4) 高品位稀土精矿(w(REO)≥60% ，
w(CeO2)≥48%) ，有内蒙古包头混合型稀土精矿，山东微山和四川冕宁的氟碳铈矿精矿。

工艺：
高铈系稀土抛光粉的生产
以稀土混合物分离后的氧化铈为原料，以物理化学方法加工成硬度大、粒度均匀、细小，呈面心立方晶体的粉末产品。

其主要工艺过程为 : 原料→ 高温→ 煅烧→ 水淬→ 水力分级
→ 过滤→ 烘干→ 高铈稀土抛光粉产品。

主要设备有 : 煅烧炉，水淬槽，分级器，过滤机，烘干箱。

主要指标 : 产品中w(REO)=99% ，
w(CeO2)=99%; 稀土回收率约95%。

该产品适用于高速抛光。

这种高铈抛光粉最早代替了古典抛光的氧化铁粉（红粉）。

中铈系稀土抛光粉的制备
用混合稀土氢氧化物(w(REO)=65% ，w(CeO2)≥48%) 为原料，以化学方法预处理得稀土盐溶液，加入中间体( 沉淀剂) 使转化成
w(CeO2)=80% ～ 85% 的中级铈系稀土抛光粉产品。

其主要工艺过程为: 原料→ 氧化→ 优溶→ 过滤→ 酸溶→ 沉淀→ 洗涤过滤→ 高温煅烧→ 细磨筛分→ 中级铈系稀土抛光粉产品。

主要设备有 : 氧化槽，优溶槽，酸溶槽，沉淀槽，过滤机，煅烧炉，细磨筛分机及包装机。

主要指标 : 产品中 w(REO)=90% ， w(CeO2) =80% ～ 85% ; 稀土回收率约 95% ; 平均粒度 0.4 微米～ 1.3微米。

该产品适用于高速抛光，比高级铈稀土抛光粉进行高速抛光的性能更为优良。

低铈系稀土抛光粉的制备
以少铕氯化稀土(w(REO)≥45% ，w(CeO2)≥48%) 为原料，以合成中间体( 沉淀剂) 进行复盐沉淀等处理，可制备低级铈系稀土抛光粉产品。

其主要工艺过程为 : 原料→ 溶解→ 复盐沉淀→ 过滤洗涤→
高温煅烧→ 粉碎→ 细磨筛分→ 低级铈系稀土抛光粉产品。

主要设备有 : 溶解槽，沉淀槽，过滤机，煅烧炉，粉碎机，细磨筛分机。

主要指标 : 产品中 w(REO)=85% ～ 90% ， w(CeO2)=48% ～ 50%; 稀土回收率约 95%; 平均粒径 0.5微米～ 1.5微米。

目前，国内生产的低级铈系稀土抛光粉的量最多，约占总产量的 90% 以上。

应用领域：
由于铈系稀土抛光粉具有较优的化学与物理性能，所以在工业制品抛光中获得了广泛的应用，如已在各种光学玻璃器件、电视机显像管、光学眼镜片、示波管、平板玻璃、半导体晶片和金属精密制品等的抛光。

高铈系稀土抛光粉，主要适用于精密光学镜头的高速抛光。

该抛光粉的性能优良，抛光效果较好，由于价格较高，国内的使用量较少。

中铈系稀土抛光粉，主要适用于光学仪器的中等精度中小球面镜头的高速抛光，该抛光粉与高铈粉比较，可使抛光粉的液体浓度降低11% ，抛光速率提高35% ，制品的光洁度可提高一级，抛光粉的使用寿命可提高30% 。

目前国内使用这种抛光粉的用量尚少，有待于今后继续开发新用途。

低铈系稀土抛光粉，适用于电视机显象管、眼镜片和平板玻璃等的抛光。

此外，其它抛光粉用于对光学仪器，摄像机和照相机镜头等的抛光，这类抛光粉国内用量最多，约国内总用量 85% 以上。