氮化硅陶瓷的制备及性能研究进展

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高强韧高导热氮化硅陶瓷弹簧的制备及性能研究方案(二)

高强韧高导热氮化硅陶瓷弹簧的制备及性能研究方案(二)

高强韧高导热氮化硅陶瓷弹簧的制备及性能研究方案一、实施背景随着科技的快速发展和产业结构的不断变革,新型材料的需求日益增长。

氮化硅陶瓷作为一种具有优异性能的新型陶瓷材料,其高强韧、高导热的特性使其在许多领域具有广泛的应用前景。

本研究方案旨在制备高强韧、高导热氮化硅陶瓷弹簧,并对其性能进行深入探讨,以满足产业结构改革的需求。

二、工作原理氮化硅陶瓷的制备原理主要基于硅和氮元素的化学反应。

在高温高压条件下,硅和氮元素反应生成氮化硅陶瓷。

通过控制反应条件,如温度、压力、原料比例等,可以调节氮化硅陶瓷的显微结构和性能。

在制备弹簧形状时,首先将氮化硅陶瓷粉末进行成型和干燥,然后进行烧结。

烧结过程中,陶瓷颗粒之间会发生致密化,形成具有一定弹性的三维网络结构。

通过控制烧结温度和时间,可以调整弹簧的力学性能和导热性能。

三、实施计划步骤1.原料准备:选择纯度较高的硅粉和氮气作为原料,确保原料中杂质含量较低,以获得高质量的氮化硅陶瓷。

2.成型和干燥:将硅粉和氮气混合并成型为弹簧形状,然后进行干燥,以去除原料中的水分。

3.烧结:将干燥后的样品在高温下进行烧结,使硅粉和氮气发生化学反应,生成氮化硅陶瓷。

通过控制烧结温度和时间,调节陶瓷的显微结构和性能。

4.性能测试:对制备得到的氮化硅陶瓷弹簧进行力学性能和导热性能的测试,包括弹性模量、抗拉强度、导热系数等。

5.数据分析:根据测试结果,分析氮化硅陶瓷弹簧的力学性能和导热性能与制备条件的关系,优化制备工艺。

四、适用范围本研究的成果可应用于以下领域:1.机械工程:高强韧、高导热的氮化硅陶瓷弹簧可用于制造高性能机械部件,如轴承、齿轮等。

其优良的力学性能和导热性能可以提高机械设备的稳定性和使用寿命。

2.汽车工业:氮化硅陶瓷弹簧在汽车工业中具有广泛的应用前景,如发动机部件、传动系统等。

其高导热性能有助于提高发动机效率,同时高强韧性能可以提高汽车的安全性。

3.航空航天:在航空航天领域,氮化硅陶瓷弹簧因其高强韧性和轻质特性,可用于制造航空航天器中的高性能弹性元件。

氮化硅材料的制备与优化

氮化硅材料的制备与优化

氮化硅材料的制备与优化氮化硅是一种先进的材料,具有高温、高硬度、高耐磨、高化学稳定性等优良性能,被广泛应用于半导体、能源、照明、航空航天等领域。

氮化硅材料的制备与优化是实现其广泛应用的必要步骤。

一、氮化硅材料的制备方法1.氮化硅粉末制备法氮化硅粉末是制备氮化硅陶瓷的最基础材料。

目前制备氮化硅粉末的方法主要有两种:气相法和固相法。

气相法是将硅源和氨气混合,在高温下反应生成氮化硅粉末。

但气相法制备的氮化硅粉末成本高,难以控制粒径分布,通常用于制备高纯度、细颗粒的氮化硅粉末。

固相法是将硅和氨在高温下进行固相反应,生成氮化硅粉末。

这种方法简单易行,材料成本低,但是氮化硅粉末的纯度和晶相受到限制。

2.氮化硅制备法除了粉末制备法,氮化硅还可以通过其他方式进行制备,如反应烧结法、热压法、等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)、离子束沉积法(IBAD)等。

* 反应烧结法:将氮化硅粉末与其他添加剂混合后,在高温下进行烧结得到氮化硅陶瓷。

该法制备的氮化硅陶瓷密度高、硬度大,但是制备周期长、成本高。

* 热压法:将氮化硅粉末以及其他添加剂加热至一定温度,随后利用高压使粉末烧结,形成氮化硅陶瓷。

与反应烧结法相比,热压法的制备周期短、精度高,但成本仍然相对较高。

* PECVD法:该法通过等离子体对硅源和氨气反应生成氮化硅薄膜。

PECVD法制备的薄膜具有良好的光学、电学、力学性能,可以应用于光学涂层、电子器件等领域。

* IBAD法:该法通过电子束或离子束轰击氮化硅陶瓷基板并沉积氮化硅薄膜,可以制备高质量、高均匀性的氮化硅陶瓷基板和薄膜。

二、氮化硅材料的优化设计除了制备方法,氮化硅材料的优化设计也是提高其性能的重要方法。

氮化硅的优化设计主要包括以下几个方面:1.控制晶相晶相是氮化硅材料的一个重要性能指标。

硅-氮化硅体系共有3种晶相:α-氮化硅,β-氮化硅和δ-氮化硅。

α-氮化硅具有高硬度、高熔点、低膨胀系数等优良性能。

但是,α-氮化硅的加工难度大,易出现裂纹;β-氮化硅制备成本低,加工性良好;δ-氮化硅的抗裂纹性能最好,但硬度较低。

高导热氮化硅陶瓷制备方法

高导热氮化硅陶瓷制备方法

高导热氮化硅陶瓷制备方法
氮化硅陶瓷的制备方法有很多种,包括以下两种方法:
第一种,以β-Si3N4粉体与外加10%-15%高纯AlN粉体和外加10%-20%助熔剂质量比例混合,采用热压烧结技术制备。

在制备过程中,先将混合后的粉料放在4MPa压力下成型,然后放入石墨模具中,在10-35MPa,1650℃-1850℃,保温时间1-10h条件下热压烧结。

第二种,卤化硅氨解法。

硅的卤化物(SiCl4、SiBr等)或硅的氢卤化物(SiHCl3、SiH2Cl2、SiHI等)与二氧化氮或是N2产生有机化学气相反应,转化成氮化硅。

在超低温下先由硅的卤化物或氢卤化物转化成硅亚胺,再由硅亚胺加温溶解获得氮化硅。

以上是氮化硅陶瓷制备方法的大致介绍,具体的操作流程和所需条件可能会有所不同,可以根据实验需要查阅相关的资料进行更详细地了解。

氮化硅材料的合成及应用研究

氮化硅材料的合成及应用研究

氮化硅材料的合成及应用研究氮化硅(Si3N4)是一种高温、高强度、高硬度、高氧化性的陶瓷材料。

它的硬度可以达到9.5,比钢或者钨钢还要硬。

加上氮化硅的高温性能,使得氮化硅成为了众多领域中的最佳选择。

它被广泛应用于电子、机械、化学、医药等多个领域。

氮化硅的合成方法有多种。

其中比较常用的方法有热氮化法、共沉淀法、热等静压法和光化学气相沉积(CVD)法等。

这里对其中几种方法做简单介绍:一、热氮化法热氮化法是利用硅和氨气反应生成氨基硅烷后进行高温煅烧制备氮化硅的一种方法。

此过程首先通过加热硅和氨气反应生成氨基硅烷,然后将其置于高温下,使氮化硅形成。

这种方法比较简单,但需要高温下进行,因此能生成的氮化硅块材或晶粒尺寸较大。

二、共沉淀法共沉淀法是将硅和氨水、硝酸等反应生成富含Si和N元素的溶胶群簇,然后通过热处理或者自行燃烧等方式制备出氮化硅陶瓷。

此法合成氮化硅陶瓷的过程中形成的氮化硅粒子尺寸较小,物理和机械性质均较好。

三、热等静压法热等静压法将混合氮化硅陶瓷和氮化硼添加剂,进行一定压制,然后进行烧结和热等静压。

此法制备出的氮化硅陶瓷具有较大的抗断裂强度和低气蚀性。

四、CVD法CVD法是通过在氮和硅源气体中沉积氮化硅。

CVD技术制备高纯度、高品质的氮化硅薄膜和单晶。

此法能使氮化硅的晶界密度更小,氧化皮更薄,纯度更高,尺寸更均匀。

除了上述合成方法外,还有较为注重的一种“溶胶-凝胶”法。

此法首先通过硅与氨水等反应生成富含Si、N元素的凝胶,然后辅由高温处理制备出氮化硅陶瓷。

此法制备出的氮化硅陶瓷具有密度大、无明显孔隙、耐热、抗腐蚀、强韧性等特点。

同时,工艺简单,适合批量生产,因此在许多领域得到了广泛应用。

氮化硅材料的应用十分广泛,其中最为显著的是用于制造电子和光电器件。

例如,氮化硅可以用来制造制备LED的芯片、蓝光激光器的制造、太阳能电池的制造等。

此外,在制造有耐高温性能要求的零部件时,氮化硅也被广泛应用。

例如,氮化硅可用于生产转子、引擎配件、钻头等工业部件。

高强高热导氮化硅陶瓷的制备及性能研究的开题报告

高强高热导氮化硅陶瓷的制备及性能研究的开题报告

高强高热导氮化硅陶瓷的制备及性能研究的开题报告
一、选题背景
随着科学技术的不断发展,人们对材料的要求也越来越高。

特别是在高温、高压、高速等极端环境下,材料必须具有良好的机械性能、耐磨性能和耐高温、高热性能。

氮化硅陶瓷作为一种高强度、高硬度、高耐热、高耐腐蚀性能的陶瓷材料,已经成为
了高端工业领域的热门材料之一。

然而,氮化硅陶瓷的导热系数无法满足某些特殊领
域的需求,因此开发高强高热导氮化硅陶瓷是非常有必要的。

二、研究目的
本研究旨在制备一种高强高热导的氮化硅陶瓷材料,探究其热导特性和力学性能,为高端工业领域提供优质的材料选择。

三、研究内容
1. 氮化硅陶瓷的制备:采用高温烧结和反应烧结法制备高强高热导氮化硅陶瓷。

2. 材料性能测试:对制备的氮化硅陶瓷进行热传导性能、力学性能等多方面的测试,分析其输运行为。

3. 结构表征:利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪等方法对氮化硅陶瓷的微观结构进行表征。

四、预期成果
通过本研究,可以得到一种高强高热导的氮化硅陶瓷材料,为高端工业领域提供优质的材料选择。

同时,对氮化硅陶瓷的制备和性能特征的深入研究也可以为相关领
域的研究提供借鉴和推动。

氮化硅陶瓷牙科修复材料研究进展

氮化硅陶瓷牙科修复材料研究进展

氮化硅陶瓷牙科修复材料研究进展摘要:氮化硅陶瓷牙科修复材料作为一种新型高性能陶瓷牙科修复材料已经引起广泛关注。

其优点包括高硬度、高强度、高温度稳定性、良好的生物相容性等。

本文综述氮化硅陶瓷牙科修复材料的制备及应用领域,着重介绍了其在全瓷牙修复、全口修复、种植修复、颜色修复、外科修复和辅助设备制作等方面的应用。

同时,还对当前研究中存在的问题及未来研究方向进行了分析和探讨。

关键词:氮化硅陶瓷;牙科修复材料;研究一、氮化硅胶瓷的基本特性1. 化学成分和微观结构特性:氮化硅陶瓷是由氮化硅(Si3N4)颗粒和玻璃相组成的复合材料。

其中,氮化硅晶体的晶粒尺寸一般为0.5~3μm,玻璃相的成分包括硅酸盐和氧化铝。

氮化硅陶瓷具有高硬度,高抗磨性、高强度、高耐热性、低密度、低热膨胀系数、优异的绝缘性能和化学稳定性。

2. 物理力学性能:氮化硅陶瓷具有极高的硬度(达到20GPa以上)、优异的抗弯强度、抗压强度和断裂韧性。

其力学性能取决于氮化硅晶体和玻璃相之间的相互作用,因此,材料的制备方法和烧结工艺对其力学性能有很大影响。

3. 生物相容性:氮化硅陶瓷在医学领域应用广泛,如人工关节、牙科种植体等医疗器械中均有使用。

其生物相容性良好,不会引起明显的毒性反应和排斥反应,而且能够促进骨细胞的附着和生长,有利于修复和再生骨组织。

然而,其使用仍需谨慎,需要充分考虑材料的生物相容性、力学性能和制备工艺等因素。

二、氮化硅陶瓷牙科修复材料的优缺点氮化硅陶瓷牙科修复材料被广泛应用于牙科修复领域,并受到了牙医和患者的认可。

以下是氮化硅陶瓷牙科修复材料的优缺点。

(一)优点1. 良好的生物相容性:氮化硅陶瓷材料具有良好的生物相容性,不引起过敏、溶解或其他不良反应。

2. 良好的美观性:氮化硅陶瓷材料具有良好的透明度和颜色稳定性,与牙齿自然相似,可以有效地改善牙齿的外表美观度。

1 北京中医药大学东直门医院口腔科3. 良好的力学性能:氮化硅陶瓷材料具有良好的强度和硬度,可以承受牙齿的咬合力和咀嚼力。

氮化硅陶瓷的制备及其应用

氮化硅陶瓷的制备及其应用

氮化硅陶瓷的制备及其应用The document was finally revised on 2021氮化硅陶瓷的制备及其应用摘要:氮化硅陶瓷是一种具有广阔发展前景的高温、高强度结构陶瓷,它具有强度高、抗热震稳定性好、疲劳韧性高、室温抗弯强度高、耐磨、抗氧化、耐腐蚀性能好等高性能,已被广泛应用于各行业。

关键词:氮化硅陶瓷,制备方法,增韧,研究进展,应用基本性质:Si3N4 陶瓷是一种共价键化合物,基本结构单元为[SiN4 ]四面体,硅原子位于四面体的中心,在其有四个氮原子,分别位于四面体的四个顶点,然后以每三个四面体共用一个原子的形式,在三维空间形成连续而又坚固的网络结构。

氮化硅的很多性能都归结于此结构。

纯Si3N4有α和β两种晶体结构,均为六角晶形,其分解温度在空气中为1800℃,在011MPa氮中为1850℃。

Si3N4 热膨胀系数低、导热率高,故其耐热冲击性极佳。

热压烧结的氮化硅加热到l000℃后投入冷水中也不会破裂。

在不太高的温度下,Si3N4 具有较高的强度和抗冲击性,但在1200℃以上会随使用时间的增长而出现破损,使其强度降低,在1450℃以上更易出现疲劳损坏,所以Si3N4 的使用温度一般不超过1300℃。

由于Si3N4 的理论密度低,比钢和工程超耐热合金钢轻得多,所以,在那些要求材料具有高强度、低密度、耐高温等性质的地方用Si3N4 陶瓷去代替合金钢是再合适不过了。

制备方法:氮化硅陶瓷的制备技术发展很快,由于Si3N4是强共价化合物,其扩散系数、致密化所必须的体积扩散及晶界扩散速度、烧结驱动力很小,这决定了纯氮化硅不能靠常规固相烧结达到致密化。

目前氮化硅陶瓷烧结工艺方法主要有:常压烧结、反应烧结、热压烧结、气压烧结等。

1:常压烧结:常压烧结是以高纯、超细、高α相含量的氮化硅粉末与少量助烧剂混合,通过成形、烧结等工序制备而成。

由于常压烧结法很难制备高密度的纯氮化硅材料,为了获得高性能的氮化硅材料,需要加入助烧剂与Si3N4粉体表面的SiO2反应,在高温下形成液相,活化烧结过程,通过溶解析出机制使其致密。

氮化硅材料的制备及应用研究

氮化硅材料的制备及应用研究

氮化硅材料的制备及应用研究氮化硅(Si3N4)是一种重要的陶瓷材料,具有许多优异的特性,如高硬度、高强度、高耐腐蚀性、高温稳定性、低导热性和高绝缘性。

因此,氮化硅在航空航天、汽车、电子和工业等领域具有广泛的应用前景。

本文将介绍氮化硅材料的制备及其应用研究。

一、氮化硅的制备方法氮化硅的制备方法包括烧结法、化学气相沉积法(CVD法)、热解法、熔体浸渍法和溶胶-凝胶法等。

其中,CVD法和溶胶-凝胶法是最常用的方法。

CVD法是将氮化硅前体气体通过加热分解在衬底上进行生长的方法。

该方法制备的氮化硅可以控制成薄膜、管状物或纳米颗粒。

该方法的优点是制备简单、精度高、工艺可控,但成本相对较高。

溶胶-凝胶法是将氮化硅前体的溶胶凝胶化后进行加热烧结得到氮化硅的方法。

该方法制备的氮化硅具有高密度、均匀、无孔、无裂纹的特点。

该方法的优点是成本低、可制备成形材料,但工艺门槛较高,难度较大。

二、氮化硅的应用研究1. 电子工业作为高性能半导体材料,氮化硅被广泛应用于电子工业中。

例如,氮化硅薄膜可以用于制造高频率元件和光电子器件,如GaN PHEMT和LED。

此外,氮化硅也可以用于制造高功率密度电子器件,如高电压、高频率和高温度功率器件等。

2. 航空航天由于氮化硅具有高温稳定性、高强度和高硬度等特点,因此被广泛应用于航天器的发动机、热防护和涡轮机叶片等零部件的制造中。

例如,将热解制备的氮化硅纤维用于制造碳基复合材料可以提高其高温稳定性和耐压性能,将氮化硅涂层应用于航空航天器表面可以有效提高其热防护能力。

3. 汽车工业氮化硅可以用作汽车零部件的制造材料,如氮化硅纤维可以用于制造刹车片和轮胎帘布等,具有高温稳定性和高耐磨性,可以有效提高汽车的制动性能和耐久性。

4. 工业机械氮化硅的高硬度、高耐磨性和低摩擦系数等特点也使其被广泛应用于工业机械领域。

例如,氮化硅可以用于制造高强度刀具、磨料、轴承和阀门等,可以提高机械的使用寿命和效率。

氮化硅陶瓷材料的制备及其应用研究

氮化硅陶瓷材料的制备及其应用研究

氮化硅陶瓷材料的制备及其应用研究氮化硅陶瓷材料作为一种新型高科技材料,被广泛应用于机械、电子、航空航天等领域,具有高硬度、高耐磨性、高温稳定性、良好的导热性、电绝缘性等优良的物理、化学和机械性能。

本文将从氮化硅陶瓷材料的制备方法、表征和性能分析、以及其在各个领域的应用研究方面进行探讨。

一、氮化硅陶瓷材料的制备方法氮化硅陶瓷材料的制备方法主要分为两种:传统烧结法和化学气相沉积法(CVD),其中烧结法主要包括热压烧结法、热等静压烧结法和热处理法等。

1、传统烧结法(1)热压烧结法热压烧结法是指通过机械压制将高纯度的氮化硅(Si3N4)粉末制成所需形状的绿体,然后进行热压烧结,使其形成致密的氮化硅陶瓷。

这种方法具有制备工艺简单、工艺可控等优点,但其工艺条件比较苛刻,热压烧结温度一般在1700℃以上,而且需要长时间的焙烧时间。

(2)热等静压烧结法热等静压烧结法是在高温高压环境下进行烧结,利用压力传递和热引起微观形变来实现致密化的方法。

该方法可以在较低的温度下进行制备,且可制备出致密度高、粒度均匀的氮化硅陶瓷材料。

(3)热处理法热处理法是指在高温氮气气氛下对氧硅化物(SiO2)或氮硅化物(SiNx)进行煅烧处理,使其发生反应生成氮化硅陶瓷。

该方法不需要压制和热压烧结,具有工艺简单、成型自由度高等特点,但生成的氮化硅陶瓷密度较低。

2、化学气相沉积法化学气相沉积法是指通过热解含氮有机气体制备氮化硅陶瓷材料,包括低压化学气相沉积法和等离子体增强化学气相沉积法两种。

该方法制备出的氮化硅陶瓷材料致密度高、气孔率低、气密性好、强度高,但相对传统烧结法而言,该方法所需设备较复杂,工艺条件较多。

二、氮化硅陶瓷材料的表征和性能分析氮化硅陶瓷的表征主要包括显微结构分析、物理性能测试和力学性能测试等。

其物理性能方面包括热膨胀系数、导热系数、电绝缘性等,而力学性能方面则包括硬度、抗弯强度、断裂韧度等。

氮化硅陶瓷材料拥有非常高的硬度和优异的耐磨性,其硬度处于莫氏硬度9~10之间,游离碳辊处理时与钻石轴承材料相比,氮化硅材料的磨损减少了70%。

氮化硅陶瓷材料范文

氮化硅陶瓷材料范文

氮化硅陶瓷材料范文氮化硅陶瓷材料是一种新型的高性能陶瓷材料,具有优异的机械性能、耐热性能、化学稳定性和电磁性能等特点,被广泛应用于航空航天、光电、电子、化工等领域。

本文将从氮化硅陶瓷材料的制备方法、结构和性能、应用领域等方面进行详细介绍。

一、氮化硅陶瓷材料的制备方法氮化硅陶瓷材料的制备方法主要有热压烧结和反应烧结两种。

热压烧结是将粉末状的氮化硅材料加热压制成坯体,然后在高温下烧结得到成品陶瓷材料。

反应烧结是将氮化硅粉末与碳或氧化镁等添加剂混合后,在高温下反应生成氮化硅陶瓷材料。

二、氮化硅陶瓷材料的结构和性能氮化硅陶瓷材料具有密实的结构和优异的机械性能。

其晶体结构为六方晶系,硬度高达HRA90以上。

同时,氮化硅陶瓷材料具有优异的耐热性能,可在高温下长时间稳定工作,耐高温性能可达到1800°C以上。

此外,氮化硅陶瓷材料还具有出色的化学稳定性,对酸、碱、有机溶剂等介质具有良好的抵抗能力。

此外,氮化硅陶瓷材料还具有优秀的电磁性能,具有较高的介电常数和电阻率,可用于电子器件的绝缘和封装。

三、氮化硅陶瓷材料的应用领域由于其优异的性能,氮化硅陶瓷材料在众多领域有广泛的应用。

首先,氮化硅陶瓷材料在航空航天领域被广泛应用于航空发动机零部件、导航系统和航天器隔热系统等。

其次,氮化硅陶瓷材料在光电器件方面也有广泛的应用,如光纤连接器、激光窗口和红外窗口等。

此外,氮化硅陶瓷材料还可用于化工领域的耐腐蚀设备和电子领域的半导体工艺设备等。

四、氮化硅陶瓷材料的发展趋势氮化硅陶瓷材料具有很高的烧结温度要求和很高的制备成本,限制了其在大规模工业化生产中的应用。

目前,研究人员正致力于寻找更低制备温度和更高制备效率的制备方法,以降低成本。

同时,研究人员还在探索氮化硅陶瓷材料的微观结构和性能之间的关系,进一步提高其综合性能。

总之,氮化硅陶瓷材料是一种具有重要应用前景的高性能陶瓷材料。

它的制备方法多样,结构和性能出色,并且在航空航天、光电、电子、化工等多个领域都有广泛的应用。

氮化硅陶瓷制备

氮化硅陶瓷制备

氮化硅陶瓷制备1. 引言氮化硅陶瓷是一种具有优异性能的陶瓷材料,广泛应用于高温、高压、耐腐蚀等极端环境下的工业领域。

本文将介绍氮化硅陶瓷的制备方法,包括原料选择、工艺流程和关键工序等。

2. 原料选择氮化硅陶瓷的主要原料是富含氮和硅的化合物,常用的原料有氨基硅烷、二甲基乙醇胺、三甲胺等。

这些原料具有较高的反应活性和稳定性,能够在高温条件下与其他添加剂反应生成氮化硅。

3. 工艺流程3.1 原料预处理首先对所选原料进行预处理,包括溶解、过滤和干燥等步骤。

这些步骤旨在提高原料的纯度和活性,以便在后续步骤中更好地参与反应。

3.2 反应体系构建将经过预处理的原料与其他添加剂按一定比例混合,并加入适量溶剂。

通过搅拌和加热等方式,使反应体系充分均匀地混合,并提供适宜的反应环境。

3.3 反应条件控制将反应体系置于高温高压条件下进行反应。

反应温度一般在1000~1500摄氏度之间,压力则根据具体要求进行调节。

同时,还需控制反应时间,使原料能够充分反应生成氮化硅。

3.4 陶瓷成型将反应后的物料进行成型处理。

常用的成型方法有注射成型、压制成型和挤出成型等。

这些方法可以根据具体需求选择,以获得所需形状和尺寸的陶瓷坯体。

3.5 烧结处理将陶瓷坯体置于高温环境中进行烧结处理。

通过烧结过程中的温度控制和保持一定时间,使陶瓷坯体中的颗粒相互结合并形成致密的氮化硅陶瓷。

4. 关键工序4.1 反应条件控制在制备过程中,控制好反应条件是关键工序之一。

合适的温度和压力可以促进原料的反应,从而获得高纯度和致密度的氮化硅陶瓷。

4.2 成型工艺控制不同的成型方法对最终产品的性能有着重要影响。

通过合理选择成型方法,并控制好成型过程中的温度、压力和速度等参数,可以获得具有良好力学性能和致密结构的陶瓷坯体。

4.3 烧结条件控制烧结过程中,温度和保持时间是关键因素。

适当提高温度可以加快颗粒结合速率,而保持一定时间可以使陶瓷坯体更加致密,提高其力学性能和耐磨性。

氮化硅多孔陶瓷制备技术的研究进展

氮化硅多孔陶瓷制备技术的研究进展

氮化硅多孔陶瓷制备技术的研究进展3李坊森,周万城,胡汉军,罗 发,朱冬梅(西北工业大学凝固技术国家重点实验室,西安710072)摘要 多孔氮化硅陶瓷具有优良的机械性能,成为人们研究的热点问题。

首次从原料成分设计、成型方法和烧结条件等方面出发阐述了国内外多孔氮化硅陶瓷主要制备技术的最新研究状况,分析了各种制备技术的优缺点,并指出多孔氮化硅陶瓷未来研究的重点是高性能氮化硅陶瓷制备工艺的量化和实际生产的低成本化。

关键词 多孔氮化硅陶瓷 成分设计 成型方法 烧结工艺R esearch Development of Preparation T echnology of Porous Si 3N 4CeramicsL I Fangsen ,ZHOU Wancheng ,HU Hanjun ,L UO Fa ,ZHU Dongmei(State Key Laboratory of Solidifying Technology ,Northwestern Polytechnical University ,Xi ’an 710072)Abstract Porous Si 3N 4ceramics have been a hot research area because of the excellent mechanical behavior.The main preparation methods are reviewed in the paper ,in view of the composite design ,the molding methods and the sintering condition respectively.The advantages and disadvantages existing in these preparation methods are analyzed.The f uture research work will be focused on the quantification of these preparation methods for excellent porous ceram 2ics and new ones for the low 2cost preparation technology.K ey w ords porous Si 3N 4ceramics ,composite design ,molding methods ,sintering techniques 3国家科学自然基金(90305016) 李坊森:男,1984年生,博士研究生 Tel :029********* E 2mail :sanmulf s @ 周万城:男,1953年生,教授,博士生导师,主要从事特种陶瓷和玻璃的研究 E 2mail :wczhou @ 多孔陶瓷作为一种新型的陶瓷材料,具有体积密度小、比表面积大及独特的物理表面特性,对液体和气体介质有选择性透过性,具有能量吸收或阻尼特性,并具有陶瓷特有的耐高温、耐腐蚀、高的化学稳定性和尺寸稳定性,使其在过滤、净化分离、化工催化载体、吸声减震、高级保温材料和传感材料等多方面得到广泛应用[1]。

多孔氮化硅陶瓷制备方法研究报告进展

多孔氮化硅陶瓷制备方法研究报告进展

多孔氮化硅陶瓷制备方法的研究进展摘要:氮化硅基多孔陶瓷充分发挥了氮化硅陶瓷和多孔陶瓷的特性, 受到全球材料界的广泛关注。

总结了国内外氮化硅基多孔陶瓷的研究现状,介绍了多孔氮化硅陶瓷的主要制备方法,最后展望了多孔氮化硅陶瓷的发展前景。

关键词:多孔氮化硅,陶瓷,制备方法Abstract Silicon nitride based porous ceramics are subject to the global materials communit y because ofthecharacteristics of silicon nitride ceramics and porous ceramics.The research status of silicon nitride based porous ceramics at home and abr -oad is summarized,the preparation methods of porous silicon nitride ceramics weresummaried.From these,theporousceramics will have a very good prospect for the industrial application in the future.Key words: porous silicon nitride , ceramic , preparat ionmethods1 引言多孔陶瓷材料是指经高温烧制而成, 体内具有相通或闭合气孔的陶瓷材料。

多孔陶瓷作为一种新型功能陶瓷,已广泛应用于化工、能源、环保、冶金、电子及生物等领域,作为过滤、分离、布气、吸音、催化剂载体及生物陶瓷等,是一个非常活跃的研究热点。

氮化硅多孔陶瓷作为一种新型的结构、功能一体化陶瓷材料, 除了具有氮化硅陶瓷的优异性能外, 还具有下列多孔特性[1] : ( 1> 耐热性好。

氮化硅陶瓷的制备及其性能研究

氮化硅陶瓷的制备及其性能研究

氮化硅陶瓷的制备及其性能研究氮化硅陶瓷是一种硬度高、耐磨性好的高性能陶瓷材料,具有广泛的应用前景。

本文将从氮化硅陶瓷的制备入手,探讨其性能研究的相关问题。

一、氮化硅陶瓷的制备1. 原材料选择氮化硅陶瓷的制备需要选用高纯度的硅粉和氨气作为原材料。

硅粉的纯度可以达到99.999%,氨气的纯度则需要在99.99%以上。

2. 制备工艺氮化硅陶瓷的制备主要分为两个步骤,先是将硅粉和氨气放入高温炉中进行反应,然后将反应产物进行烧结。

在反应过程中,硅粉会与氨气发生化学反应,生成氮化硅颗粒。

而在烧结过程中,氮化硅颗粒之间会发生结合,形成坚硬的氮化硅陶瓷。

3. 制备条件氮化硅陶瓷的制备需要保证一定的制备条件。

反应温度需要控制在1400°C以上,烧结温度需要控制在约1900°C左右,烧结压力需要控制在20MPa左右。

此外,反应和烧结的时间也很关键,需要根据不同的工艺参数进行调整。

二、氮化硅陶瓷的性能研究1. 硬度氮化硅陶瓷的硬度非常高,一般可以达到25GPa以上,比传统的陶瓷材料高出很多。

这种高硬度表明氮化硅陶瓷对于磨损和划痕的抵抗能力很强,因此可以广泛应用于磨损和摩擦等方面。

2. 耐磨性由于氮化硅陶瓷的硬度非常高,所以其耐磨性也非常好。

实验结果表明,氮化硅陶瓷的耐磨性比普通的陶瓷材料高出数倍,可以在高速旋转的设备中长期稳定地运行,广泛应用于各种机械设备中。

3. 耐腐蚀性氮化硅陶瓷由于本身不易被化学物质所侵蚀,因此具有非常好的耐腐蚀性。

在强酸和强碱中均不会发生化学反应,因此可以广泛应用于各种化学相关的领域。

4. 热稳定性由于氮化硅陶瓷本身具有高熔点和高强度的特点,因此其具有非常好的热稳定性。

在高温环境下其不会熔化或变形,因此可以广泛应用于高温环境下的各种领域。

5. 电绝缘性氮化硅陶瓷不易导电,具有非常好的电绝缘性能。

这一特点使得氮化硅陶瓷可以广泛应用于电子和电气工程领域。

三、结语综上所述,氮化硅陶瓷具有非常好的硬度、耐磨性、耐腐蚀性、热稳定性和电绝缘性等特点。

氮化硅陶瓷的研究进展_王正军

氮化硅陶瓷的研究进展_王正军

第17卷 第2期2009年4月材 料 科 学 与 工 艺MATER I A LS SC I ENCE &TEC HNOLOGYVo l 17N o 2Apr .,2009氮化硅陶瓷的研究进展王正军(宿迁学院江苏宿迁223800)摘 要:氮化硅陶瓷是一种有广阔发展前景的高温高强度结构陶瓷.其具有高性能(如强度高、抗热震稳定性好、疲劳韧性高、室温抗弯强度高、耐磨、抗氧化、耐腐蚀性好等).已广泛应用于各行各业.氮化硅的制备方法主要有反应烧结法(RS)、热压烧结法(HPS)、常压烧结法(PLS)和气压烧结法(GPS )等.目前存在的主要问题是氮化硅陶瓷产品韧性低、成本较高.今后应改善制粉、成型和烧结工艺及氮化硅与碳化硅的复合化,研制出更加优良的氮化硅陶瓷.关键词:氮化硅;陶瓷;反应烧结法;热压烧结法;常压烧结法;气压烧结法;进展中图分类号:TG174 44文献标识码:A 文章编号:1005-0299(2009)02-0155-04Research progress of sili con nitri de cera m icWANG Zheng j u n(Suq i an Co lleg e Jiangsu P rov i ne Suqian 223800,Chi na)Abst ract :S ilicon n itri d e cera m i c is w ide ly used for its properti e s o f h i g h strength ,ther m al shock resistance ,fracture toughness ,h i g h bending strength at roo m te m perat u re ,w ear resistance ,ox i d ation resistance ,corro si o n resistance ,etc .The popular preparation m ethods of silicon n itride cera m ic are reacti v e si n tering (RS ),hot pressing sinteri n g (H PS),pressure less si n tering (HPS)and gas pressi n g si n teri n g (GPS ).To solve the probe le m s of l o w ductility and h i g h cost o f n itri d e cera m ic products .po wder m anufacturi n g ,confecti o n i n g ,si n teri n g technique ,shou l d be i m proved silicon nitride and silicon carbide should be synthesized to obtain the silicon n itr i d e w ith h i g h perfor m ance .K ey w ords :sili c on n itri d e ;cera m ic ;R eactive Sinteri n g ;H ot Pressi n g S i n tering ;Pressureless S i n ter i n g ;Gas Pressing S i n ter i n g ;prog ress收稿日期:2006-01-14.基金项目:江苏省2008年度高校青蓝工程资助项目;国家科技攻关计划(2003DFBA0010)资助项目.作者简介:王正军(1975-),男,硕士,讲师.随着现代科学技术的发展,对新材料的研究和应用不断提出更高的要求,传统的金属材料越来越难以满足这种日益发展的要求,及待开发新型材料.多年来,研究工作者们进行了不懈的努力,在材料的制备工艺和性能方面取得了很大的进展.由于人们认识到陶瓷的潜在优势和金不可克服的弱点,工程陶瓷材料越来越受到世界上许多材料研究单位的高度重视,并取得了许多突破性进展.二次大战结束后,科学技术发展迅速,原子能、火箭、燃气轮机等技术领域对材料提出了更高的要求,迫使人们去寻找比耐热合金更能承受高温,比普通陶瓷更能抵御化学腐蚀的材料.Si 3N 4的出色表现,激起了人们对它的热情和兴趣.20世纪60年代,英、法的一些研究机构和大学率先开始对S i 3N 4进行系统研究,深入认识它的结构、性能、探索烧结方法、开拓应用领域[1].从20世纪60年代到70年代,S i 3N 4陶瓷的研发工作相继在世界各国开展起来.到了20世纪80年代S i 3N 4陶瓷制品已经开始向产业化、实用化迈进了[2].近二十年多来,人们通过广泛、深入、仔细的研究[3,4],发现陶瓷材料是被认为是最有希望在高科技领域中能得到广泛应用的候选材料[5,6,7].S i 3N 4陶瓷作为一种高温结构陶瓷,具有强度高、抗热震稳定性好、高温蠕变小、耐磨、优良的抗氧化性和化学稳定性高等特点,是结构陶瓷研究中最为深入的材料,被广泛地应用于制造燃气发动机的耐高温部件、化学工业中耐腐蚀部件、半导体工业中的坩埚、以及高温陶瓷轴承、高速切削工具、雷达天线罩、核反应堆的支撑、隔离件和裂变物质的载体等[8].正因为S i 3N 4具有其它材料不可比拟的优异性能,人们对S i 3N 4陶瓷的研究深度与力度不断加大,除高纯度、超细S i 3N 4粉体合成新方法不断涌现外.人们更多地致力于开展先进实用的成型工艺及烧结工艺技术研究,以使S i 3N 4制品能够在某些高技术领域实用化并进一步工业化生产.1 氮化硅陶瓷的基本性质S i 3N 4陶瓷是一种共价键化合物,基本结构单元为[Si N 4]四面体,硅原子位于四面体的中心,在其有四个氮原子,分别位于四面体的四个顶点,然后以每三个四面体共用一个原子的形式,在三维空间形成连续而又坚固的网络结构.氮化硅的很多性能都归结于此结构.纯Si 3N 4比重为3 19,有 和 两种晶体结构,均为六角晶形,其分解温度在空气中为1800 ,在0 1M Pa 氮气中为1850 .S i 3N 4热膨胀系数低、导热率高,故其耐热冲击性极佳.热压烧结的氮化硅加热到l 000 后投入冷水中也不会破裂.在不太高的温度下,S i 3N 4具有较高的强度和抗冲击性,但在1200 以上会随使用时间的增长而出现破损,使其强度降低,在1450 以上更易出现疲劳损坏,所以Si 3N 4的使用温度一般不超过1300 .由于S i 3N 4的理论密度低,比钢和工程超耐热合金钢轻得多,所以,在那些要求材料具有高强度、低密度、耐高温等性质的地方用S i 3N 4陶瓷去代替合金钢是再合适不过了.2 氮化硅陶瓷的制备方法S i 3N 4陶瓷的制备技术在过去几年发展很快,制备工艺主要集中在反应烧结法、热压烧结法和常压烧结法、气压烧结法等类型.由于制备工艺不同,各类型氮化硅陶瓷具有不同的微观结构(如孔隙度和孔隙形貌、晶粒形貌、晶间形貌以及晶间第二相含量等).因而各项性能差别很大[9].要得到性能优良的S i 3N 4陶瓷材料,首先应制备高质量的S i 3N 4粉末.用不同方法制备的Si 3N 4粉质量不完全相同,这就导致了其在用途上的差异,许多陶瓷材料应用的失败,往往归咎于开发者不了解各种陶瓷粉末之间的差别,对其性质认识不足.一般来说,高质量的Si 3N 4粉应具有 相含量高,组成均匀,杂质少且在陶瓷中分布均匀,粒径小且粒度分布窄及分散性好等特性.好的S i 3N 4粉中 相至少应占90%,这是由于S i 3N 4在烧结过程中,部分 相会转变成 相,而没有足够的 相含量,就会降低陶瓷材料的强度.2 1 反应烧结法(R S)是采用一般成型法,先将硅粉压制成所需形状的生坯,放入氮化炉经预氮化(部分氮化)烧结处理,预氮化后的生坯已具有一定的强度,可以进行各种机械加工(如车、刨、铣、钻).最后,在硅熔点的温度以上;将生坯再一次进行完全氮化烧结,得到尺寸变化很小的产品(即生坯烧结后,收缩率很小,线收缩率<0 1%).该产品一般不需研磨加工即可使用.反应烧结法适于制造形状复杂,尺寸精确的零件,成本也低,但氮化时间很长.2 2 热压烧结法(HPS)是将Si 3N 4粉末和少量添加剂(如M g O 、A l 2O 3、M gF 2、Fe 2O 3等),在19 6MPa 以上的压强和1600 以上的温度进行热压成型烧结.英国和美国的一些公司采用的热压烧结S i 3N 4陶瓷,其强度高达981M Pa 以上.烧结时添加物和物相组成对产品性能有很大的影响.由于严格控制晶界相的组成,以及在S i 3N 4陶瓷烧结后进行适当的热处理,所以可以获得即使温度高达1300 时强度(可达490M Pa 以上)也不会明显下降的S i 3N 4系陶瓷材料,而且抗蠕变性可提高三个数量级.若对Si 3N 4陶瓷材料进行1400 1500 高温预氧化处理,则在陶瓷材料表面上形成S i 2N 2O 相,它能显著提高S i 3N 4陶瓷的耐氧化性和高温强度.热压烧结法生产的S i 3N 4陶瓷的机械性能比反应烧结的S i 3N 4要优异,强度高、密度大.但制造成本高、烧结设备复杂,由于烧结体收缩大,使产品的尺寸精度受到一定的限制,难以制造复杂零件,只能制造形状简单的零件制品,工件的机械加工也较困难.2 3 常压烧结法(PLS)在提高烧结氮气氛压力方面,利用S i 3N 4分解温度升高(通常在N 2=1at m 气压下,从1800 开始分解)的性质,在1700 1800 温度范围内进行常压烧结后,再在1800 2000 温度范围内进行气压烧结.该法目的在于采用气压能促进S i 3N 4陶瓷组织致密化,从而提高陶瓷的强度.所得产品的性能比热压烧结略低.这种方法的缺点与热压烧结相似.2 4 气压烧结法(GPS)近几年来,人们对气压烧结进行了大量的研156 材 料 科 学 与 工 艺 第17卷究,获得了很大的进展.气压烧结氮化硅在1~ 10MPa气压下,2000 左右温度下进行.高的氮气压抑制了氮化硅的高温分解.由于采用高温烧结,在添加较少烧结助剂情况下,也足以促进S i3N4晶粒生长,而获得密度>99%的含有原位生长的长柱状晶粒高韧性陶瓷.因此气压烧结无论在实验室还是在生产上都得到越来越大的重视.气压烧结氮化硅陶瓷具有高韧性、高强度和好的耐磨性,可直接制取接近最终形状的各种复杂形状制品,从而可大幅度降低生产成本和加工费用.而且其生产工艺接近于硬质合金生产工艺,适用于大规模生产.综上所述,要获得具有优良性能的陶瓷材料,必须提高原料的质量,并通过成分设计优化材料的微观结构,对陶瓷材料来说特别是优化晶界特性.除此之外,工艺条件起着决定作用.归纳起来,工艺条件主要有温度、时间、气氛和压力,有时还要使用特殊条件.一般来说,温度越高,处理时间越长,致密化效果越好.但由于氮化硅的分解和液相汽化的限制,温度不可能无限提高,况且长时间和高温将导致晶粒生长,并向等轴晶转变,这些微观结构的变化将使强度下降.另外,必须考虑经济上的因素.目前的问题是:利用热压方法制造复杂氮化硅陶瓷部件过于昂贵;反应烧结氮化硅的残余孔隙不仅使反应烧结强度降低,而且易被氧化,特别处中温区的氧化对蠕变、热冲击和热循环等性能有严重影响;各种技术制备的氮化硅陶瓷材料性能和利用先进技术制备大型复杂件的可靠性还不能令人满意.因此,工艺技术方面的未来课题将主要集中在:(1)加强制造复杂元件的更经济、更先进技术的研究;(2)提高材料性能、批量生产和大型件制造的可靠性,减少性能值的分散性;(3)探索更经济、更高效的制粉方法.3 氮化硅陶瓷的应用S i3N4陶瓷是一种重要的结构材料,它是一种超硬物质,本身具有润滑性,并且耐磨损;除氢氟酸外,它不与其他无机酸反应,抗腐蚀能力强,高温时抗氧化.而且它还能抵抗冷热冲击,在空气中加热到1,000 以上,急剧冷却再急剧加热,也不会碎裂.正是由于Si3N4陶瓷具有如此优异的特性,人们常常利用它来制造轴承、气轮机叶片、机械密封环、永久性模具等机械构件.如果用耐高温而且不易传热的氮化硅陶瓷来制造发动机部件的受热面,不仅可以提高柴油机质量,节省燃料,而且能够提高热效率.我国及美国、日本等国家都已研制出了这种柴油机.利用S i3N4重量轻和刚度大的特点,可用来制造滚珠轴承、它比金属轴承具有更高的精度,产生热量少,而且能在较高的温度和腐蚀性介质中操作.用Si3N4陶瓷制造的蒸汽喷嘴具有耐磨、耐热等特性,用于650 锅炉几个月后无明显损坏,而其它耐热耐蚀合金钢喷嘴在同样条件下只能使用1-2个月.由中科院上海硅酸盐研究所与机电部上海内燃机研究所共同研制的Si3N4电热塞,解决了柴油发动机冷态起动困难的问题,适用于直喷式或非直喷式柴油机.这种电热塞是当今最先进、最理想的柴油发动机点火装置.日本原子能研究所和三菱重工业公司研制成功了一种新的粗制泵,泵壳内装有由11个S i3N4陶瓷转盘组成的转子.由于该泵采用热膨胀系数很小的Si3N4陶瓷转子和精密的空气轴承,从而无需润滑和冷却介质就能正常运转.如果将这种泵与超真空泵如涡轮 分子泵结合起来,就能组成适合于核聚变反应堆或半导体处理设备使用的真空系统.以上只是S i3N4陶瓷作为结构材料的几个应用实例,相信随着Si3N4粉末生产、成型、烧结及加工技术的改进,其性能和可靠性将不断提高,氮化硅陶瓷将获得更加广泛的应用[10].近年来,由于Si3N4原料纯度的提高,Si3N4粉末的成型技术和烧结技术的迅速发展,以及应用领域的不断扩大,S i3N4正在作为工程结构陶瓷,在工业中占据越来越重要的地位[11].S i3N4陶瓷具有优异的综合性能和丰富的资源,是一种理想的高温结构材料,具有广阔的应用领域和市场,世界各国都在竞相研究和开发.陶瓷材料具有一般金属材料难以比拟的耐磨、耐蚀、耐高温、抗氧化性、抗热冲击及低比重等特点[12].可以承受金属或高分子材料难以胜任的严酷工作环境,具有广泛的应用前景.成为继金属材料、高分子材料之后支撑21世纪支柱产业的关键基础材料,并成为最为活跃的研究领域之一,当今世界各国都十分重视它的研究与发展,作为高温结构陶瓷家族中重要成员之一的S i3N4陶瓷,较其它高温结构陶瓷如氧化物陶瓷、碳化物陶瓷等具有更为优异的机械性能、热学性能及化学稳定性.因而被认为是高温结构陶瓷中最有应用潜力的材料.可以预言,随着陶瓷的基础研究和新技术开发的不断进步,特别是复杂件和大型件制备技术的日臻完善,S i3N4陶瓷材料作为性能优良的工程材料将得到更广泛的应用.157第2期王正军,等:氮化硅陶瓷的研究进展4 展望S i 3N 4陶瓷材料作为一种优异的高温工程材料,最能发挥优势的是其在高温领域中的应用.但是,目前人们对它的高温强度、抗热震性、高温蠕变及高温抗氧化性研究仍很少,距离高温下应用的要求还很远.特别是在1400 下的强度和断裂韧性还不能令人满意;高温和高应力环境中能否可靠地工作几千个小时,其高温下的动、静态疲劳性能如何等,还需做大量的研究工作.氮化硅材料强度低的主要原因之一是含有较多的孔隙,致使产品密度不高、强度较低.如何进一步提高氮化硅的密度从而改善其力学性能是人们普遍研究的课题之一.为了扩大Si 3N 4陶瓷的应用领域,首先必须使现有S i 3N 4陶瓷制品的质量更加稳定,要尽量避免和消除在成型后的各种变化因素.其次,需要研制一种与成型相适应的快速且柔软的技术.当今世界技术日新月异,经常发生变化.左右S i 3N 4最终成形制品的物理性能的主要因素之一是S i 3N 4原料粉末.目前必须对现有的制品进行改良,而且还应该采取有关措施对一部分制品进行专门化处理.另外,对投入生产的新制品,必须进一步积极进行高功能化的研制.从这一观点来看,关于研究者与S i 3N 4粉末的成型制造厂间的质量设计,应该进一步开展合作.与上述两点具有同样重要意义的是,由于S i 3N 4成本的降低,可以促进应用范围扩大.近年来,市场上对Si 3N 4陶瓷的需求很强烈.但同时认为Si 3N 4作为工业材料,为了取得牢固地位,还要经受实际考验.S i 3N 4陶瓷要想与硬质合金、耐热合金或S i C 、A l 2O 3等陶瓷进行竞争,或者S i 3N 4陶瓷作为本世纪的工业材料并在工业中占有一定位置,S i 3N 4粉末的价格高低是非常重要的因素.所以,对降低从原料粉末到最终成型零件之间的总成本应作为今后研究的焦点.S i 3N 4今后的发展方向是:(1)充分发挥和利用Si 3N 4本身所具有的优异特性;(2)在Si 3N 4粉末烧结时,开发一些新的助熔剂,研究和控制现有助熔剂的最佳成分;(3)改善制粉、成型和烧结工艺;(4)研制S i 3N 4与S i C 等材料的复合化,以便制取更多的高性能复合材料.S i 3N 4陶瓷等在汽车发动机上的应用,为新型高温结构材料的发展开创了新局面.汽车工业本身就是一项集各种科技之大成的多学科性工业,我国是具有悠久历史的文明古国,曾在陶瓷发展史上做出过辉煌的业绩,随着改革开放的进程,有朝一日,中国也必然挤身于世界汽车工业大国之列,为陶瓷事业的发展再创辉煌.参考文献:[1]HOFFMANN M J ,PETZOW G.M icro struct ure D es i 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for eng i nes .shangha,i China ,1994.[7]J ACK K H,J URGEN G.H ei n rich .P rospects for n i trogonceram i cs i n eng i ne applica ti ons [J].S ili con N itri de ,2003,10(4):32.[8]王裕芳.张志成.低成本氮化硅陶瓷[J].佛山陶瓷,2002,3(60):25.[9]刘治平.氮化硅陶瓷的制备[J].湖南冶金,1992,14(1):38~41.[10]杨晓勇.氮化硅陶瓷及应用[J].化工新型材料,1992,21(1):32~34.[11]缚绍漯.日本氮化硅陶瓷的最近动向[J].中国科技情报所重庆分所,1994,17(3):19~24.[12]黄瑞芬,罗建民,王春琴.激光熔覆技术的应用及其发展[J].兵器材料科学与工程,2005,28(4):57-58.(编辑 张积宾)158 材 料 科 学 与 工 艺 第17卷。

氮化硅陶瓷的制备工艺及其热力学性能分析

氮化硅陶瓷的制备工艺及其热力学性能分析

氮化硅陶瓷的制备工艺及其热力学性能分析氮化硅陶瓷是一种新型的高性能陶瓷材料,具有很高的硬度、热稳定性和化学稳定性,因此在航天、电子、汽车等领域得到了广泛的应用。

本文将重点介绍氮化硅陶瓷的制备工艺和热力学性能分析。

一、氮化硅陶瓷的制备工艺氮化硅陶瓷的制备工艺通常采用化学气相沉积(CVD)或反应烧结法。

其中,CVD是一种制备高质量氮化硅薄膜和涂层的重要方法,而反应烧结法则是一种制备块状氮化硅陶瓷的主要方法。

1. CVD制备氮化硅陶瓷CVD是一种通过在高温下将气体化学物质分解并沉积在衬底上的方法,常用的沉积物包括氧化物、氮化物和碳化物等。

在制备氮化硅陶瓷时,主要反应如下:SiH4 + NH3 → Si3N4 + 3H2其中,SiH4是硅烷,NH3是氨。

这个反应产生的氮化硅沉积物具有相对均匀的成分和微细的晶体尺寸,因此CVD是一种制备高质量氮化硅薄膜和涂层的重要方法。

2. 反应烧结法制备氮化硅陶瓷反应烧结法是指将粉末状的硅和氨在高温下反应生成氮化硅块状陶瓷。

这种方法主要有两个步骤:首先是化学反应生成氮化硅的粉末,然后在高温下进行烧结。

一般的反应方程式为:3Si + 4NH3 → Si3N4 + 6H2硅和氨的混合物首先被热反应生成Si3N4的粉末,然后这些粉末被压缩并烧结成块状氮化硅陶瓷。

反应的烧结温度通常在1700°C以上,并且需要在高真空或惰性气体气氛下进行,以避免氮化硅被氧化。

二、氮化硅陶瓷的热力学性能分析氮化硅陶瓷具有很高的硬度、热稳定性和化学稳定性,这些特性源于其良好的热力学性能。

本节将介绍氮化硅陶瓷的主要热力学性质,包括热膨胀系数、比热容和热导率。

1. 热膨胀系数热膨胀系数是指材料在温度变化下的长度变化率。

对于氮化硅陶瓷来说,其热膨胀系数相对较小,通常在4-5×10^-6/°C左右,这意味着该材料在高温下具有较好的热稳定性和机械稳定性。

2. 比热容比热容是指单位质量材料在吸热或放热过程中所需的热量。

纳米氮化硅陶瓷的制备及其热力学性能研究

纳米氮化硅陶瓷的制备及其热力学性能研究

纳米氮化硅陶瓷的制备及其热力学性能研究近年来,随着纳米科技的不断发展,纳米材料在许多领域都被广泛应用,其中纳米氮化硅材料在材料科学、化学等领域都具有广阔的应用前景。

本文将介绍纳米氮化硅陶瓷的制备及其热力学性能研究。

制备方法纳米氮化硅陶瓷的制备方法有很多种,目前最常用的方法包括溶胶-凝胶法、卤化物热分解法、氮化物还原法等。

其中,溶胶-凝胶法是目前应用最为广泛的方法之一。

溶胶-凝胶法是指把某些金属离子或有机物解离成溶胶,然后通过加热和干燥等过程使其凝结成凝胶,最后通过高温烧结成为氮化硅陶瓷。

这种方法的优点是制备过程简单、成本低、坯体易于成型,且其材料粒度可以控制在纳米级别,具有较高的比表面积和催化活性。

热力学性能研究热力学性能是指材料在高温下的稳定性、热导率、热膨胀系数、热容等性能。

纳米氮化硅陶瓷具有较高的热稳定性,可以耐受高温下的氧化和热膨胀。

此外,它还具有优异的热导率和热膨胀系数。

这些性能使得纳米氮化硅陶瓷被广泛应用于高温结构材料、电子器件、化学催化剂等领域。

热膨胀系数是材料在温度变化时长度的变化与原长度比值的度量。

纳米氮化硅陶瓷的热膨胀系数一般在2.6×10-6至4.7×10-6/K之间,随着温度的升高呈现先增大后减小的趋势。

热导率是材料传导热的能力,它与材料的导热系数、比热容等因素有关。

纳米氮化硅陶瓷的热导率一般在20~40 W/m·K之间,因其具有较高的热电子运动能力和相对稳定的结构,热导率较高。

总之,纳米氮化硅陶瓷具有优异的热力学性能,其制备方法简单、成本低。

随着其在材料科学、化学等领域的广泛应用,这种新型研究材料将为人们带来更多惊喜。

氮化硅陶瓷的制备及性能研究进展

氮化硅陶瓷的制备及性能研究进展

氮化硅陶瓷的制备及性能研究进展作者:王培张伟儒张哲来源:《中国科技博览》2016年第17期[摘要]氮化硅陶瓷是一种在烧结时不会发生收缩的无机材料。

它具有耐高温,强度比较高,抗腐蚀能力和氧化性能比较好等优势,已经成为目前工业领域中应用比较广泛的新型材料之一。

陶瓷材料和现在的一些金属材料进行比较,在抗腐蚀性、耐磨程度、抗氧化程度以及耐高温方面都有着巨大的优势,可以在金属材料难以承受的工作环境中进行正常的工作,随着相关工业技术的更进一步的发展,氮化硅陶瓷将会有更为广泛的应用前景。

文章对氮化硅陶瓷的基本性质有简单介绍,对于氮化硅陶瓷的制备工艺和性能方面的发展有一个综合概述,并且对氮化硅陶瓷的发展前景进行展望。

[关键词]氮化硅陶瓷;制备工艺;性能;研究进展中图分类号TQ174.1 文献标识码:A 文章编号:1009-914X(2016)17-0379-01随着科学技术的进步和社会发展的需求,在工业领域和其他行业的设备应用中,对于各种零部件的使用提出了更加严格的要求,传统的金属材料不能适应各种要求比较高的工作环境。

在此种情况下对于新材料的发展研究提出了新的要求,急需开发出一种可以取代金属材料的新型高性能材料。

陶瓷材料以其独特的优异性能和广泛的应用前景成为新世纪除了金属材料和高分子材料之后的又一个基础材料,并且成为当前最为热门的研究话题之一。

引起了世界各国的高度重视。

而作为高温陶瓷材料中比较重要的氮化硅陶瓷,有着更加优异的性能,因此被认为是高温陶瓷结构材料中应用潜力最大的材料。

文章针对氮化硅陶瓷的制备和性能研究做出了简要的阐述。

1 氮化硅陶瓷的基本性质概述氮化硅陶瓷是一种无机材料,作为一种共价键化合物,它是以[ SiN4 ]四面体作为最基本的构造单元,其中硅原子位于四面体的中心位置,4个氮原子则处于四面体的四个顶点,而其在三维空间中的构造是通过三个四面体共同使用一个原子的方式,借助这种结构,它在许多方面都有着优异的性能。

氮化硅材料的性能、合成方法及进展【范本模板】

氮化硅材料的性能、合成方法及进展【范本模板】

氮化硅材料的性能、合成方法及进展摘要:氮化硅作为一种新型无机材料,以其有良好的润滑性,耐磨性,抗氧化等特性受到广泛的关注和深入的研究。

以下对氮化硅的材料的性能、合成方法、意义和进展作简单介绍.关键词:无机材料;氮化硅;合成方法;性能;进展1前言由于科学技术的不断发展需要,科学家们一直在不停顿地寻找适用于苛刻条件下使用的理想的新材料。

在层出不穷的大量新材料队伍中,氮化硅陶瓷可算是脱颖而出,十分引人注目,日益受到世界各国科学家们的重视。

2氮化硅的材料的性能\合成方法、意义和进展2.1氮化硅的性能和应用氮化硅(Si3N4)是氮和硅的化合物。

在自然界里,氮、硅都是极其普通的元素。

氮是生命的基础,硅是无机世界的主角,这两种元素在我们生活的世界上无所不在,然而,至今人们还未发现自然界里存在这两种元素的化合物.氮化硅是在人工条件下合成的化合物.虽早在140多年前就直接合成了氮化硅,但当时仅仅作为一种稳定的“难熔”的氮化物留在人们的记忆中.二次大战后,科技的迅速发展,迫切需要耐高温、高硬度、高强度、抗腐蚀的材料。

经过长期的努力,直至1955年氮化硅才被重视,七十年代中期才真正制得了高质量、低成本,有广泛重要用途的氮化硅陶瓷制品。

开发过程为何如此艰难,这是因为氮化硅粉体和氮化硅陶瓷制品之间的性能和功能相差甚远,没有一个严格而精细的对氮化硅粉体再加工过程,是得不到具有优异性能的氮化硅陶瓷制品的。

没有氮化硅陶瓷就没有氮化硅如今的重要地位。

2.1.1优异的性能氮化硅陶瓷的优异的性能对于现代技术经常遇到的高温、高速、强腐蚀介质的工作环境,具有特殊的使用价值.比较突出的性能有:(1)机械强度高,硬度接近于刚玉,有自润滑性,耐磨。

室温抗弯强度可以高达980MPa以上,能与合金钢相比,而且强度可以一直维持到1200℃不下降.(2)热稳定性好,热膨胀系数小,有良好的导热性能,所以抗热震性很好,从室温到1000℃的热冲击不会开裂。

氮化硅的制备及其应用研究

氮化硅的制备及其应用研究

氮化硅的制备及其应用研究氮化硅(Nitride Silicon, Si3N4)是一种广泛应用于材料科学领域的陶瓷材料,具有耐高温、摩擦磨损性好、化学稳定性好等优点,适用于制造轴承、切割工具、防腐化工设备等领域。

本文将介绍氮化硅的制备方法和应用研究进展。

一、制备方法氮化硅的制备方法有多种,以下以反应烧结法和热压法为例,介绍其基本原理及步骤。

1. 反应烧结法反应烧结法主要是将硅粉末和氨气在高温下反应,生成氮化硅粉末,再通过高温烧结方法制成致密陶瓷。

反应烧结法的步骤如下:(1)采用球磨机对所需要的原料进行混合,将硅粉和氨气一定比例地混合并混合1-2h,使混合后的氮化硅颗粒分散均匀。

(2)将混合后的氮化硅粉料高温烧结制成陶瓷,需要设备较为复杂,工艺繁琐。

2. 热压法热压法主要是将氨气、氮气和硅粉按照一定比例混合后高温高压处理,形成致密的氮化硅坯体。

热压法适用于制备密度高、细晶粒的氮化硅陶瓷。

热压法的步骤如下:(1)将硅粉、氨气、氮气按照一定比例混合,混合后的粉料需混合均匀,同时需通过筛网过滤掉大小粗细不一的物料。

(2)将混合后的物料放入固体高温压机上,在高温高压的环境下制作氮化硅陶瓷。

二、应用研究氮化硅的应用领域非常广泛,在因耐火、化学稳定、高强度、高硬度、低摩擦、低磨损和绝缘性能优异等特性具备了优势的领域占有着很重要的地位。

1. 制成陶瓷材料氮化硅可用于制成耐高温、防腐化学中反应容器和保温材料,制成耐磨损齿轮和轴承。

同时,氮化硅还广泛应用于半导体的制造和支持材料、太阳能电池的接触层,以及机械领域的高温工具与耐磨件等。

2. 制成复合材料氮化硅与高分子材料混合后可制成新型的复合材料,例如聚酰亚胺复合氮化硅陶瓷层压板,这种材料具有优异的隔热性、耐高温性和化学稳定性,适用于高速列车挡板和飞机结构件等领域。

3. 应用于合金制造氮化硅可用于制造镍基高温合金和铝基复合材料,氮化硅薄膜可以在金属表面形成钝化层,以提高金属防腐蚀性能;此外,还可以在涂层或金属表面上进行涂覆,提高各种合金的耐高温性能。

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现在多孔氮化硅陶瓷的 制 备 方 法 主 [10-14] 要 有 添 加 造 孔 剂 、 有机泡沫浸渍、凝胶注模、冷冻干燥、反应烧结等。 表 3 为多孔 氮 化 硅 陶 瓷 制 备 方 法 比 较 [10]。
由表 3 可以看出,目前对多孔氮化硅陶瓷的气孔结构(气 孔率和气孔尺寸)的控制,以及材料组织结构的控制和力学性 能的改善仍未得到有效的解决, 这也将是今后重点的研究方 向,相对于其它多孔陶瓷材料,多孔氮化硅陶瓷的制备工艺要 求、成本都很高,在实际应用中受到很大限制,因此简化制备 工艺、降低工艺成本、实现批量工业化生产是今后研究的重 点。
(1)改变晶间相成分,提高耐火性。 在烧结过程中使用能 形 成 高 耐 火 度 晶 间 相 的 氧 化 物 作 助 烧 剂 , [15-16] 如 :Y2O3、La2O3、 SiO2-BaO-Al2O3 等 。 虽 然 此 种 方 法 可 以 提 高 氮 化 硅 陶 瓷 的 高 温性能,但是,由于形成烧结所需液相的温度高不利于材料的 致密化,而且需要提高烧结温度,增加成本。
3 Si3N4 陶瓷性能研究
3.1 Si3N4 陶瓷的高温性能 在氮化硅陶瓷的烧结过程中, 由于助烧剂与二氧化硅反
6 江苏陶瓷 Jiangsu Ceramics
2011 年 12 月 第 44 卷 第 6 期
表 3 多孔氮化硅陶瓷制备方法比较
制备方法
优点
缺点
添加造孔剂 孔隙率可以控制
孔隙分布不均匀
反应烧结是把硅粉或硅粉与氮化硅粉的混合物成形后, 在 1 200 ℃左右通氮气进行预氮化处理,之后机械加工成所需 零件,最后在 1 400 ℃左右进行最终氮化烧结。其主要反应有:
3Si+2N2圮Si3N4 (1) 在反应炉中,随着炉温的不断升高,氮气的活性增强,当 达到一定温度 1 100~1 200 ℃时,氮气和硅粉发生(1)式反应, 反应放出能量并传给周围硅原子,使之活化并继续反应,随着 反应不断深入坯体内部,硅粉也不断氮化生成氮化硅。 其工艺流程如图 1 所示[7]: 2.3 热压烧结 热 压 烧 结 是 将 Si3N4 粉 末 和 少 量 添 加 剂 (如 MgO、Al2O3、 MgF2、Fe2O3 等) 在 19.6 MPa 以 上 的 压 强 和 1 600 ℃以 上 的 温 度进行热压成型烧结。 英国和美国的一些公司采用热压烧结 Si3N4 陶瓷,其 强 度 达 到 981 MPa 以 上 。 热 压 烧 结 时 添 加 物 和
第 44 卷第 6 期
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2011 年 12 月
江苏陶瓷 Jiangsu Ceramics
Vol.44,No.6 December,2011
氮化硅陶瓷的制备及性能研究进展
王会阳 1,李承宇 1,刘德志 2
(1.中国矿业大学材料科学与工程学院,徐州 221116;2.江苏省陶瓷研究所有限公司,宜兴 214221)
多孔陶瓷材料是指经高温烧制而成, 体内具有相通或闭 合气孔的陶瓷材料。 因其具有优良的均匀透过性、较低的热传
导性、耐高温、抗腐蚀等性能被广泛地应用于多个科学领域。 对于多孔氮化硅陶瓷是建立在氮化硅陶瓷和多孔陶瓷的基础 上逐渐发展起来的一种新型多孔陶瓷材料, 因其能够发挥氮 化硅陶瓷和多孔陶瓷两者的优异性能而被国内外材料界广泛 关注。 多孔氮化硅陶瓷作为一种新型的“结构-功能”一体化陶 瓷材料具有很多特性,包括耐热性能好、化学稳定性好、几何 表面积与体积比高、具有高度开口内连的气孔、具有良好的机 械强度和刚度,在气压、液压或其它应力负载下多孔体的孔道 形 状 和 尺 寸 不 发 生 改 变 等 [10]。
(2)晶界玻璃相的晶化处理。 晶化处理就是烧结后的氮化 硅陶瓷再经过一定时间的热处理, 使晶界玻璃相析出高耐火 度的化合物、减少残余玻璃相来改善氮化硅陶瓷的高温性 能[17]。 但是由于晶间相结晶时伴随着较大体积的变化,在陶瓷 内部产生内 应 力 ,从 而 限 制 了 玻 璃 相 的 完 全 晶 化[18],可 能 会 使 氮化硅陶瓷内部产生裂纹降低陶瓷强度, 同时晶化所需较长 时间的热处理也会增加成本,限制了该方法的应用。
有机泡沫浸渍 孔隙率高、气孔为开气孔 形状受限、孔隙率难以控制
凝胶注模 坯体结构均匀、 强度相对 凝胶条件难以控制 较高
冷冻干燥 反应烧结
烧成收缩小、可加工性较好 孔隙结构难以控制
收缩小、能耗低
孔隙率难以控制
应形成的液相以玻璃相和部分结晶相存在于氮化硅陶瓷中, 而这些晶间玻璃相在高温下很容易软化, 从而大大降低了氮 化硅陶瓷的高温性能。 目前提高氮化硅陶瓷的高温性能主要 有以下 3 种方法:
硅材料

相互作用的结果
Y2O3
可形成促进烧结的液相, 该相在烧结 时的较高温度下与氮化硅反应形成耐
结 晶 相 有 Y2Si3O3N4、YSiO2N 、Y4Si2O7N2
相 沿 Si3N4 晶 界 分 布 ,既 保 障 材 料 的 较 高耐高温强度,又降低其抗氧化性(主
高温的粘结相
和 Y10(SiO4)6N2
重 烧 结 是 将 反 应 烧 结 的 Si3N4 烧 结 坯 在 助 烧 剂 存 在 的 情 况下, 置于氮化硅粉末中, 在高温下重烧结, 可得到致密的 Si3N4 制品,重烧结过程中的收缩仅有 6%~10%,可制备形状复 杂、性能优良的部件。 热等静压烧结是将氮化硅及助烧剂的混 合物粉末封装到金属或玻璃包套中, 抽真空后通过高压气体 在高温下烧结,制得的氮化硅陶瓷可达理论密度,但工艺复杂 成本较高。 此外,近年来还发展了如超高压烧结、化学气相沉 积、爆炸成形等烧结和致密化工艺均获得不错的效果[9]。 氮化 硅陶瓷烧结方法的比较见表 2。 2.6 多孔氮化硅陶瓷的制备
0 前言
随着现代科学技术的发展, 各种零部件的使用条件愈加 苛刻(如高温、强腐蚀等),对新材料的研究和应用提出了更高 的要求,传统的金属材料由于自身耐高温、抗腐蚀性能差等弱 点已难以满足科技日益发展对材料性能的要求, 现亟待开发 新材料。 由于陶瓷材料的出现可以克服传统材料的不足而越 来越被研究人员关注,经过努力研究,在陶瓷的制备工艺和性 能方面的研究已取得很大的进步,尤其是 Si3N4 陶瓷的优越性 能得到了人们的广泛认可,就其结构、性能、烧结及应用已经 开始系统的研究,本文就 Si3N4 陶瓷的制备工艺、增韧途径、高 温性能的改善及应用作一简要的坯处理
烧结
图 1 氮化硅反应烧结流程
陶瓷体处理
王会阳等:氮化硅陶瓷的制备及性能研究进展
学术研究
5
助烧剂名称 MgO
表 1 常用助烧剂
作 用效果
相的组成
备注
可 以 保 障 液 相 形 成 和 制 得 高 密 度 氮 化 含有 Mg-Si-O-N 4 种成分的较复杂成 液 相 的 形 成 是 由 于 氧 化 镁 与 二 氧 化 硅
保障形成 Y-Si-Al-O-N 液相
在该相参与下 Si3N4 烧结最充分
使材料具有优异的常温性能, 可提高 烧结初期,可形成硅酸盐液相;烧结后
MgO-CeO2 材料的高温性能
作用效果与单独使用某助烧剂不同 期,出现 MgO 的自动析晶减少玻璃相
烧结方法 常压烧结 反应烧结
热压烧结
气压烧结
表 2 氮化硅陶瓷烧结方法的比较
致密度高,制造周期短
高和形状复杂的零件、机械加工困难
获得的 Si3N4 陶瓷具有 致密 度高 、高韧 性 、高强 度、较 好 的耐磨性,可制造形状复杂的制品,适合大规模生产
烧结温度高
物相组成对材料的性能影响很大, 由于严格控制晶界相的组 成,以及在氮化硅陶瓷烧结后进行适当的热处理,可以获得在 高温时强度也不会下降很多的氮化硅陶瓷材料。 2.4 气压烧结
气压烧结是把 Si3N4 压坯在 5~12 MPa 的氮气中于 1 800~ 2 100 ℃下进行烧结。 由于氮气压力高,从而提高了 Si3N4 的分 解温度, 有利于选用能形成高耐火度晶间相的助烧剂提高氮 化硅陶瓷的高温性能。 近年来,人们对气压烧结进行了大量的 研究,获得了很大的进展,采用气压烧结的氮化硅陶瓷具有高 韧性、高强度和较好的耐磨性。 2.5 其它烧结方法
常压烧结是以高纯、超细、高 α 相含量的氮化硅粉末与少 量助烧剂混合,通过成形、烧结等工序制备而成。 由于常压烧 结法很难制备高密度的纯氮化硅材料, 为了获得高性能的氮 化硅材料, 需要加入助烧剂与 Si3N4 粉体表面的 SiO2 反应,在 高温下形成液相, 活化烧结过程, 通过溶解析出机制使其致 密。 因此,常压烧结 Si3N4 研究的关键在于选择合适的助烧剂。 目前常用 的 助 烧 剂 主 要 有 :MgO、Y2O3、稀 土 元 素 氧 化 物 、复 合 助烧剂等,这些助烧剂能控制液相粘度,提高相转变,防止固 溶 体 形 成 , 降 低 晶 格 氧 含 量 并 控 制 玻 璃 相 组 成 和 含 量 [8]。 2.2 反应烧结
氮化硅有晶体和非晶体之分, 所说的非晶氮化硅就是无 定 形 氮 化 硅[2],而 晶 体 氮 化 硅 主 要 有 早 期 的 四 方 氮 化 硅 (晶 格 常 数 为 a=9.245 魡, c=8.48 魡)、常 见 的 六 方 晶 系 氮 化 硅 (有 两 种晶形, 即针状结晶体 α-Si3N4 和颗粒状结晶体 β-Si3N4)、立 方氮化硅[3]。 根据目前的认识,氮化硅结构有以下几种:
要是由氧化带来的体积效应造成)
稀土氧化物
Si3N4 材料在较高温度下具有极高强度
因 复 杂 氧 化 氮 化 物 的 形 成 而 在 陶 瓷 结 稀 土 多 存 在 于 Si3N4 的 晶 界 处 ,经 热 处
构中产生热强晶间相
理易于析出二次小晶粒
复合 助烧剂
可使氮化硅达到最佳烧结, 可制得高
Y2O3-Al2O3 强度 Si3N4 陶瓷
摘 要 氮化硅陶瓷是一种具有广阔发展前景的高温、高强度结构陶瓷,它具有强度高、抗热震稳 定性好、疲劳韧性高、室温抗弯强度高、耐磨、抗氧化、耐腐蚀性能好等高性能,已被广泛应用于各行 业。本文介绍了氮化硅陶瓷的基本性质,综述了氮化硅陶瓷的制备工艺和提高其高温性能的方法以 及增韧的途径,并展望了氮化硅陶瓷的发展前景。 关键词 氮化硅;陶瓷;制备;增韧;研究进展
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