生物芯片表面氨基硅烷化修饰
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（华 东理 工大 学生物 工程 学 院 ， 海 ４ 上
２０ ３） ０ ２７
摘 要 ： 文 以 无 水 乙 醇 为 溶 剂 、一 基 丙 基 三 乙 氧 基 硅 烷 （ Ｐ Ｅ ） 修 饰 试 剂 、 酸 为 催 化 剂 ， 用 浸 泡 法 ， 生 物 芯 片 玻 璃 基 本 ３氨 Ａ Ｔ Ｓ为 醋 采 对 片 表 面 进 行 了 氨基 硅烷 化修 饰 。 到 了 一 种 基 片 表 面 氨 基 修 饰 的制 备方 法 。 着 重 研 究 了制 备 过 程 中浸 泡 时 间 、 Ｐ Ｅ 得 Ａ Ｔ Ｓ的 浓 度 、 酸 处 理 的 时 间 和 羟基 化 的 时 间对 基 片 噪 声 的影 响 过 对 以上 工 艺 参 数 的逐 步 优 化 ． 片 噪声 逐 渐 减 小 ， 小 值 为 １３ 通过 对 通 基 最 ９。 最 佳 修 饰 条 件 下 得 到 的 基 片 进 行 Ｄ Ａ 点样 和 杂 交 测 试 可 知 ． 方 法 制 备 得 到 的基 片能 够 有 效 结 合 基 因探 针 ． 杂 交 清 洗 后 信 Ｎ 此 且 号 强 度 可 达 １ ０ ０以 上 ． 噪 比在 ｌ０以上 。 Ｘ射 线 光 电子 能 谱 分 析 可 知 ， 用 浸 泡 法 可 以获 得 表 面 氨 基 修 饰 的 生 物 芯 片 基 ７０ 信 １ 由 采 片 最 后 通 过 对修 饰 前 后 基 片透 过 率 的 比较 可 知 ． 饰 过 程 对 透 过 率影 响 很 小 ． 透 过 率 在 ９ ％以上 ， 而 保 证 了后 续 杂 交 信 修 且 １ 从 号 与 微 阵 列 噪声 检 测 的准 确 性 关键词 ： 物芯片 ； 一 生 ３氨基 丙基 三 乙 氧基 硅 烷 ；氨基 修 饰 ；基 片 噪 声
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（华 东Ｘ － 大 学材料 科 学与 工程 学 院 ， 细材料 制备 与应 用教 育 部重 点 实验 室 ， Ｙ － － 超 上海 ２０ ３） ０２ ７
（华 东理 工 大学无机 材料 系 ， 海 ２ ０ ３ ） 上 ０ ２ ７ （华 东Ｘ ． 大学先进 聚 合物 材料 重 点 实验 室 ， 海 ２ ０ ３ ） ｚ － 上 ０２ ７
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第 ２ ８卷 第 ５期 ２ ２年 ５月 ０１
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生物芯片表面氨基硅烷化修饰
余 良春 １ 陈 奇 ２ 郎关东 ３ 叶邦策
中图分类号 ： ７９ Ｑ ８
文献标识码 ： Ａ
文 章 编 号 ：１０ －８ １ ０ ２０ ．９ ３０ ０ １４ ６ （ １）５０５ —６ ２
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摘 要 ： 文 以 无 水 乙 醇 为 溶 剂 、一 基 丙 基 三 乙 氧 基 硅 烷 （ Ｐ Ｅ ） 修 饰 试 剂 、 酸 为 催 化 剂 ， 用 浸 泡 法 ， 生 物 芯 片 玻 璃 基 本 ３氨 Ａ Ｔ Ｓ为 醋 采 对 片 表 面 进 行 了 氨基 硅烷 化修 饰 。 到 了 一 种 基 片 表 面 氨 基 修 饰 的制 备方 法 。 着 重 研 究 了制 备 过 程 中浸 泡 时 间 、 Ｐ Ｅ 得 Ａ Ｔ Ｓ的 浓 度 、 酸 处 理 的 时 间 和 羟基 化 的 时 间对 基 片 噪 声 的影 响 过 对 以上 工 艺 参 数 的逐 步 优 化 ． 片 噪声 逐 渐 减 小 ， 小 值 为 １３ 通过 对 通 基 最 ９。 最 佳 修 饰 条 件 下 得 到 的 基 片 进 行 Ｄ Ａ 点样 和 杂 交 测 试 可 知 ． 方 法 制 备 得 到 的基 片能 够 有 效 结 合 基 因探 针 ． 杂 交 清 洗 后 信 Ｎ 此 且 号 强 度 可 达 １ ０ ０以 上 ． 噪 比在 ｌ０以上 。 Ｘ射 线 光 电子 能 谱 分 析 可 知 ， 用 浸 泡 法 可 以获 得 表 面 氨 基 修 饰 的 生 物 芯 片 基 ７０ 信 １ 由 采 片 最 后 通 过 对修 饰 前 后 基 片透 过 率 的 比较 可 知 ． 饰 过 程 对 透 过 率影 响 很 小 ． 透 过 率 在 ９ ％以上 ， 而 保 证 了后 续 杂 交 信 修 且 １ 从 号 与 微 阵 列 噪声 检 测 的准 确 性 关键词 ： 物芯片 ； 一 生 ３氨基 丙基 三 乙 氧基 硅 烷 ；氨基 修 饰 ；基 片 噪 声
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（华 东理 工 大学无机 材料 系 ， 海 ２ ０ ３ ） 上 ０ ２ ７ （华 东Ｘ ． 大学先进 聚 合物 材料 重 点 实验 室 ， 海 ２ ０ ３ ） ｚ － 上 ０２ ７
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第 ２ ８卷 第 ５期 ２ ２年 ５月 ０１
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Ｖｏ ．８ Ｎｏ５ １ ． ２ ９ ３９ ８ ５ —５
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生物芯片表面氨基硅烷化修饰
余 良春 １ 陈 奇 ２ 郎关东 ３ 叶邦策
中图分类号 ： ７９ Ｑ ８
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