金属诱导间隙态
化学中间隙的名词解释
化学中间隙的名词解释化学中间体的名词解释化学中间体（Chemical Intermediate）是在化学反应中产生的产物，它通常是反应物与最终产物之间的一个中间步骤。
化学中间体在很多化学反应过程中起到重要的作用，它们可以作为反应物的转化产物，也可以是进一步转化为最终产物的中间化合物。
本文将通过解释三个常见的化学中间体，来探讨它们在不同反应中的功能和应用。
1. 活性氧化态（Active Oxidation State）活性氧化态是指具有高电子亲和性和强氧化能力的化学物质的一种状态。
它们通常是具有较高形式价电荷或带正电荷的氧化物离子或化合物。
活性氧化态常见的例子是过氧化氢（H2O2），一种含有氧气元素的化合物。
它能够进行强氧化反应，如氧化亚硫酸盐（S2O3^2-）或无机物染料，将它们转化为对应的氧化物。
活性氧化态也常在有机合成中用作氧化剂，参与多种有机化合物的氧化反应。
2. 活性还原态（Active Reduction State）活性还原态是指具有较高还原能力的化学物质的一种状态。
这些物质通常在反应中能够捐赠或接受电子，从而参与还原反应。
其中一个常见的例子是亚铁离子（Fe2+），它可以参与多种还原反应。
比如，在电化学中，亚铁离子被用作电池中的还原剂，捐赠电子来减少其它物质。
此外，活性还原态也广泛应用于有机合成反应，如还原羰基化合物以形成对应的醇。
3. 高活性中间体（Highly Reactive Intermediate）高活性中间体指在化学反应中产生的具有高度反应性的中间化合物。
这些中间体通常非常不稳定，很容易发生进一步的反应。
一个典型的例子是卡宾（Carbene），一种由碳原子和两个化学键组成的中间体。
卡宾具有一个未被完全填满的价层，使得它对其他物质具有高度的亲电性。
由于其高度反应性，卡宾可以参与许多碳-碳或碳-氮键的形成反应，是合成有机化合物中重要的中间体。
总结：化学中间体在化学反应中起到了至关重要的作用，它们可以作为反应物的转化产物，也可以是进一步转化为最终产物的中间物质。
优化感受态细胞制备方法提高转化效率的研究
第25卷第2期 齐 齐 哈 尔 大 学 学 报 Vol.25,No.2 2009年3月 Journal of Qiqihar University March,2009优化感受态细胞制备方法提高转化效率的研究王世伟1，李旭业2，张伟伟1（1. 齐齐哈尔大学 生命科学与工程学院，黑龙江 齐齐哈尔161006；2. 黑龙江省畜牧研究所，黑龙江 齐齐哈尔161005）摘要：通过研究不同生长状态、处理溶液、保存时间及热激时间对感受态细胞制备的影响，分析了影响大肠杆菌株JM109和DH5α感受态细胞形成因素，优化了制备感受态细胞的方法。
结果表明，OD 600为0.43的大肠杆菌菌液经处理液（20 mmol/L MgCl 2 + 80 mmol/L CaCl 2）处理，-85℃放置12～14 h，42℃热激处理90 s，转化效率最高，可达5.5×105～6×105cfu/µg DNA（pSilencer2.1-U6-neo），随着质粒放置时间增加，转化效率下降。
关键词：感受态细胞；制备方法；转化效率中图分类号：Q933 文献标识码：A 文章编号：1007-984X(2009)02-0086-05质粒转化进入大肠杆菌（Escherichia coli ）感受态细胞是分子克隆的关键步骤[1]，是基因克隆以及DNA 文库构建等研究中频繁使用的一项重要的常规操作。
一般实验室没有电穿孔技术所需要的特殊仪器，而利用氯化钙法将质粒重组入大肠杆菌细胞，操作方便、应用广泛，但是氯化钙法在实际操作中的转化效率常常不能完全满足试验的要求。
目前，实验室中常用的感受态细胞多为公司直接提供的，其价格昂贵，不适于普通基因克隆操作中的频繁使用[2，3]。
因此，对感受态细胞制备方法进行合理优化是提高转化效率的关键。
1 材料与方法1.1 菌种与质粒大肠杆菌（Escherichia coli ）DH5α由齐齐哈尔大学分子生物学实验室保存，含pSilencer2.1-U6-neo 质粒；大肠杆菌JM109由黑龙江大学分子生物学实验室赠送。
电场诱导二氧化钒绝缘-金属相变的研究进展
电场诱导二氧化钒绝缘-金属相变的研究进展孙肖宁;曲兆明;王庆国;袁扬;刘尚合【摘要】二氧化钒(VO2)是电子强关联体系的典型代表,其晶体结构在特定阈值的温度、电场、光照和压力等物理场作用下会发生由单斜金红石结构向四方金红石结构的可逆转变,从而引发绝缘-金属相变.其中,电场诱导VO2绝缘-金属相变后的电导率可提高2-5个数量级,在可重构缝隙天线、太赫兹辐射以及智能电磁防护材料等领域具有广阔的应用前景,成为近年来人们的研究热点.首先,简要概述了VO2发生绝缘-金属相变时晶体结构和能带结构的变化,进而从电场诱导VO2绝缘-金属相变的研究方法、响应时间、临界阈值场强调控以及相变机理几个方面系统总结和评述了近年来国内外学者在该领域的重要发现和研究进展.最后,指出了当前VO2绝缘-金属相变研究存在的问题,并展望了未来的发展方向.【期刊名称】《物理学报》【年(卷),期】2019(068)010【总页数】10页(P227-236)【关键词】二氧化钒;绝缘-金属相变;响应时间;相变机理【作者】孙肖宁;曲兆明;王庆国;袁扬;刘尚合【作者单位】陆军工程大学,电磁环境效应国家级重点实验室,石家庄 050003;陆军工程大学,电磁环境效应国家级重点实验室,石家庄 050003;陆军工程大学,电磁环境效应国家级重点实验室,石家庄 050003;陆军工程大学,电磁环境效应国家级重点实验室,石家庄 050003;陆军工程大学,电磁环境效应国家级重点实验室,石家庄050003【正文语种】中文1 引言1949年,Motto[1]通过能带理论预测了金属氧化物的绝缘-金属相变(metal-insulator transition,MIT),1959年,Morin[2]在贝尔实验室首次发现单晶二氧化钒(VO2)相变现象,自此VO2相变特性成为凝聚态物理领域关注的重要课题.实际上,要实现绝缘体转变成金属导体,电导率至少要提高12—14个数量级,目前VO2发生绝缘-金属相变后的电导率可提高2—5个数量级,严格意义上讲这种幅度的转变仍属于绝缘体到静电导体或亚导体的变化范围,但鉴于这种物理现象的新奇和巨大的应用价值,国内外学者通常仍然称之为绝缘-金属相变.近年来,得益于磁控溅射[3,4]、分子束外延[5]、溶胶-凝胶法[6]以及脉冲激光沉积(pulsed laserdeposition,PLD)[7,8]等多种制备工艺的不断成熟,特别是原子力显微镜、黑体光谱显微镜、超快相机技术[9]等先进表征技术的快速发展,使得国内外科研人员从原子水平和纳米尺度认识了VO2的相变过程,取得了丰硕成果,并在诸多领域得到了初步应用[10-12].2011年,哈佛大学Yang等[13]对金属氧化物的超快相变应用进行了报道,描述了相变材料在场效应开关、光学检测器、非线性电路元件和固态传感器等不同领域的应用.2016年,国内何云斌课题组[14]重点对VO2热致相变机理进行了综述,系统总结了VO2相变物理机制的理论体系以及相关理论体系的实验结果,为VO2热致相变新材料的设计和研究指明了方向.2000年,Stefanovich等[15]首次报道了电场或电子注入触发VO2产生绝缘-金属相变现象,相比热激励和光照激励,电场诱导VO2绝缘-金属相变(E-MIT)具有反应速度快、加载成本低、便于集成化、小型化和寿命长等优点,在可重构天线技术[16-18]、太赫兹技术[19-21]、毫米波相位调制器[22]、记忆和神经元计算机技术[23,24]、快速开关器件[25]以及智能电磁防护材料[26-29]等方面具有广阔的应用前景.2014年欧盟将VO2作为“2020地平线”(Horizon 2020)项目之一进行重点资助,并取得了积极进展.目前,针对VO2的电场诱导绝缘-金属相变已经得到了广泛研究,对相变过程中的晶体结构变化已经有了统一的认识(单斜金红石相与四方金红石相之间的可逆转变),且通过不同方法得到了电场作用下的相变响应时间(纳秒级),对于相变机制也从不同角度进行了积极探索,但至今仍缺乏该领域总结性的文章.本文在文献检索、调研和分析的基础上,从晶体结构、研究方法、响应时间、临界阈值场强调控和相变机制等方面系统总结和评述了国内外学者在电场诱导VO2绝缘-金属相变领域的研究进展.最后,总结了当前存在的问题并展望了VO2的研究前景.2 VO2晶体结构变化虽然目前为止VO2的绝缘-金属相变机理尚无定论,但对其相变前后晶体结构和能带结构变化的认识是统一的,这对于VO2相变特性的调控具有一定的指导意义.钒(V)原子在元素周期表中属于过渡族金属元素,在自然界中,金属钒与氧作用,可以形成十分复杂的金属氧化物体系,这些氧化物既能以单一价态存在于钒氧化物之中(如V2O3,VO2,V2O5等),也能以不同价态混合存在.钒的大部分氧化物具有绝缘-金属相变特性[30,31],其相变性能源于特殊的晶体结构,VO2晶体具有四方金红石相(R 相)和单斜金红石相(M相)两种不同的晶体构型,单斜晶系结构的对称性属于P21/c 空间群,而四方金红石结构的对称性属于P42/mnm空间群.图1给出了VO2两种不同的晶体结构图.在R相晶体结构中(图(b)),钒原子接近其中的一个氧原子,故具有一个接近于V：O的键,当VO2发生绝缘-金属相变时,R相中a轴上的V—V键两两成对出现,导致晶格扭曲,使晶体从正八面体结构变为偏八面体,两个V—O键之间的夹角从90°变为78°—79°.VO2由M相(绝缘态)变为R相(金属态),晶格参数也随之变化,amono=2ctetra,bmono= atetr,cmono= atetra—ctetra[13],M相晶胞大小为R相的两倍,导致块体材料易因膨胀而出现破裂,所以通常人们将这种材料制备成1维或2维结构.图1 VO2晶体结构图[32] (a)M相；(b)R相Fig.1.Crystal structure of VO2：(a)M phase；(b)R phase.实际上,在VO2从绝缘相到金属相转变时,其能带结构同时发生变化.金属态VO2费米能级落在π∗能带与d//能带之间的重叠部分,受到外界刺激时,d//能带分裂成两个能带(d//能带和d*//能带),在d//能带和π∗能带之间形成一个禁带,带宽约为Eg≈0.6—0.7eV,费米能级恰好落在禁带之间,从而使得VO2表现出绝缘性[14].而根据Morin理论[2],材料发生相变与否与材料中的临界载流子密度 nc有关( nc1/3aH≈0.2,其中 aH为材料的玻尔半径),一旦材料中的载流子密度大于 nc,则材料内部的电子-电子相互作用效应凸显,此时材料即发生相变.根据以上分析,从微观角度出发,绝缘-金属相变的调控手段可分为3类：温度控制、带宽控制和带填充控制[13].温度控制是最直接的方法,通过加热或冷却即可实现温度调控；带宽控制可以通过外部或内部压力引起,外部压力包括机械作用力、电场力等,内部应力可通过离子掺杂实现调控效果；带填充控制由供体或受体的浓度决定.3 相变研究方法随着摩尔定律接近物理瓶颈,电子器件的特征尺寸缩小和性能上升越来越难,亟需一种新型材料,而VO2E-MIT过程可在超快时间内完成,电阻率变化大,开关性能优越,是非常具有潜力的替代品.当前,室温下VO2的相变电场强度仍高达MV/m[33],但得益于制膜工艺的不断进步,VO2的相变研究得到了迅猛发展,已经可以实现小电压(电流)驱动作用的绝缘-金属相变.通常,在电场激励下,VO2薄膜相变阈值与电极之间的长度或厚度有关,根据实际应用和测试需要,往往希望电极之间的距离尽可能小.由文献[34,35]可知,电极间距通常小于10 μm,为了降低相变阈值电压,且便于测试,通常将VO2制备成平面结构、三端场效应管结构和三明治结构来开展研究工作. 平面结构(planar structure)是指VO2薄膜的测试或工作电极处于水平方向,通过调节测试电极之间的距离来控制外加场强的大小.韩国基础研究实验室Chae等[8]利用脉冲激光技术,在α-Al2O3基底上制备了VO2薄膜,在热作用和电场作用下均测到了相变的发生,且在65 ℃时相变幅度高达104 (如图2所示).Leroy等[36]使用阴影蒸发技术制备了基于VO2薄膜的双端器件(如图3(a)所示),电极间隙为125 nm,明显降低了制备成本和技术要求,在68 ℃及1—2 V条件下均发生了绝缘-金属相变.我们课题组也分别通过溶胶-凝胶法和磁控溅射工艺发展了形貌可控、临界温度和场强可调、成功率高的VO2薄膜制备技术,对平面型薄膜的电致相变规律及性能调控方法进行了深入研究[37-39].图2 电场作用下VO2薄膜中的电流变化曲线[8]Fig.2.Changes of currents by application ofthe electric field to VO2thin films[8].与双端VO2器件相比,三端场效应管结构[40](three-terminal gated field effect switches)可明显降低由电流引起热效应的可能性,有助于阐明VO2E-MIT过程中电场或焦耳热的作用,并对开关元器件的实际应用有很好的推动作用.Youn等[7]利用PLD法,在无定形SiO2/Si结构衬底上,制备得到了VO2薄膜,并将其设计成场效应管结构(如图3(b)所示),研究结果表明：在最佳生长条件下的VO2薄膜在临界温度66.85 ℃附近的电阻变化率约为102倍,当在三端子器件上施加电场时,源极-漏极电流发生突变,其两端电压随着栅极电场的变化而改变.图3 VO2器件结构示意图 (a)平面结构[36]；(b)三端场效应管结构[7]；(c)三明治结构[45]Fig.3.Diagram of VO2device structure：(a)Planar structure[36]；(b)three-terminal gated field effect switches[7]；(c)layered structure[45]. 三明治结构(layered structure)是使VO2薄膜处于上下电极层之间[23,41,42],以厚度取代长度,这种方法的优点是可以在垂直方向上进行测试[43],可将测试间隙降至纳米级别,同时可改变VO2薄膜的面积,进而实现对相变阈值电压的调控,其技术上易实现,精度上易控制.哈佛大学Ruzmetov等[44]基于磁控溅射技术在导电基板上制备了100 nm厚的VO2薄膜,并利用电子束光刻技术在薄膜上成功制备了200 nm直径的金触点,使用导电端原子力显微镜观察到了垂直方向的电流突变.国内上海科技大学Hao等[45]在FTO导电玻璃上制备了VO2薄膜(如图3(c)所示),并利用光刻和化学蚀刻技术制备了FTO/VO2/FTO三明治结构的薄膜,对其在不同温度和电压条件下的电阻和透光率进行了研究,结果表明：在电压作用下,薄膜具有明显的相变特性,20 ℃时相变电压为9.2 V,相变前后透光率变化31.4%.东华大学He等[46]报道了三明治结构VO2的能隙调制量子阱的负电容行为(如图4所示),通过测量电容变化来观测VO2相变现象,理论计算和实验研究均表明：器件的负电容变化源于VO2的E-MIT相变,证实了VO2仅在电场作用下就发生了MIT相变,为相变研究提供了一个新的研究方法.图4 量子阱结构示意图(内嵌图为量子阱结构的电容器件模型[46]Fig.4.Schematic of quantum well structure (inset shows a capacitance device model for the quantum well structure)[46].4 相变响应时间研究认为VO2相变可在亚皮秒时间内完成[13],是制备高性能逻辑器件和存储设备的优秀材料,相变时间为VO2晶体结构完成转变的时间,与之不同的是响应时间为材料对外界刺激做出相应变化的时间,即VO2在电压作用下完成从绝缘态到金属态的转变,电导率实现3—5个数量级的变化,是VO2器件性能的决定性因素.脉冲激励是一种比较直接和具有说服力的测试方法,在电磁防护器件的测试过程中被普遍应用.Leroy等[36]在VO2薄膜的电极两端施加短脉冲(如图5所示),可以看出VO2器件开关时间(VO2两端电压由最大值的10%到90%的时间)处于4.5—5 ns之间,哈佛大学Zhou等[23]研究认为,在室温下VO2在脉冲作用下的响应时间小于2 ns,恢复时间也处于纳秒级,并获得了大于2个数量级的变化率,经2000次重复测试后性能不下降,具有非常好的耐用性.图5 短脉冲响应曲线[36]Fig.5.Response curve of short pulse[36].Chae等[47]使用方波脉冲进行相变响应时间测试,更具有说服力,其使用Sawyer-Tower电路(如图6(a)所示),在器件两端施加开关电压脉冲(如图6(b)所示).在VO2薄膜中观察到脉冲电压高于7.1 V时,材料发生绝缘-金属相变,并通过大量实验观察到,当开关脉冲电压超过阈值电压时,材料即发生相变,并指出由于在薄膜材料中金属和绝缘状态的不均匀性,观察MIT本征开关时间是不可能的,故其通过线性拟合法,考虑测量的电流响应的延迟时间和上升时间,经理论推导得出：随着外部负载电阻降至零,其开关时间应处于纳秒级.图6 (a)Sawyer-Tower测试电路；(b)方波脉冲电压与峰值电流关系图(内嵌图为加载7 V和10 V开关电压时的电压和电流曲线)[47]Fig.6.(a)Sawyer-Tower test circuit；(b)peak current as a function of square wave pulse voltage (the inset illustrates voltage and current curves using applied switching pulses of 7 V and 10 V)[47].5 相变临界阈值场强调控方法VO2在电场(电压)激励下发生MIT相变,具有响应速度极快(小于1 ns)[48]、相变特性可重复(20亿次性能不降)等特点,均符合快速响应材料、智能电磁屏蔽材料等实际应用的要求,但在应用过程中仍然面临相变临界阈值场强度过高(约2MV/m)[23]的问题,所以降低VO2薄膜的相变阈值场强是研究的一个重点.目前关于电场诱导VO2相变调控方法的研究还相对较少,通过前面的分析表明：载流子浓度、能带和晶体结构的变化是VO2发生相变的微观因素,而现有研究成果已经表明通过离子掺杂和应力调节等手段可以增加载流子的浓度,降低VO2的费米能级,使其越易发生相变,最终达到相变.虽然对这些因素变化的直接驱动方式还不能确定,但现有研究成果已经能够对VO2相变的临界阈值场强调控进行指导.另外,从晶型角度出发,热致相变和电致相变均是由低温单斜畸变金石相(M相)向高温四方金红石相(R相)转变.我们研究发现：当VO2薄膜中Mo6+掺杂浓度从1%提高到3%时,相变临界场强由1.05 MV/m下降为0.45 MV/m,与Mo6+掺杂对相变温度的调控效应类似,因此热致相变调控方法对电致相变的调控具有一定的参考价值[49].实际上,离子掺杂、多价态钒氧化物混合掺杂、多物理场协同调控等多种手段[50]均可对热致相变进行调控,甚至可将相变温度降至室温,具有巨大的实际应用价值.离子掺杂法是一种能有效改变VO2相变临界阈值场强的方法,是目前研究最为深入、效果最好的方法.离子掺杂后绝缘态VO2d//和轨道交叠增加,相变阈值场强会有所降低.离子掺杂的方式有两种,一是目前报道较多的阳离子掺杂,如Mo6+[51],Ta5+[52],Cr3+[53]；二是阴离子掺杂,即氧位掺杂,目前研究较少,仅有F-离子掺杂有报道[54],也有学者探索进行了多种离子共掺杂法[55].Lu等[56]用sol-gel法掺杂,向VO2薄膜中分别掺入了Li+,Al3+和P5+离子,结果发现：Li+可以使薄膜相变阈值场强变低,相反的Al3+却使其相变阈值场强升高,而P5+对薄膜相变温度几乎没有影响.Jin等[57]用反应溅射法制备了W6+掺杂的VO2多晶薄膜的,检测发现每掺1%的W6+可使薄膜相变温度降低24 ℃.国内上海理工大学张娇等[42]在掺氟SnO2(FTO)导电玻璃基底上同样制备了高质量的掺钨VO2薄膜,并测得其阈值电压为4.2 V,明显低于非掺杂VO2薄膜的阈值电压(6 V).综合上述文献可知,选择掺杂离子时,如果是阳离子,则选择离子半径比V4+大、化合价比V4+高的,如W6+[58].相反,如果引入的是半径小、价态低、外层没有d轨道的离子,如A13+,Cr3+,Ga3+,Ge4+时,则会使相变温度升高.通常在VO2薄膜中掺杂的离子有W6+,Mo6+,Nb5+,F—,Cr3+等,而掺杂W6+对降低VO2薄膜的相变阈值场强效果最佳[59].事实上,在不掺杂其他元素的情况下,可以通过改变VO2制备工艺,如控制退火时间等,实现多价态共存,来调控薄膜的临界电场阈值,因为外部电场强度不改变的前提下,常温金属态钒氧化物的加入会增加VO2薄膜的电阻值,而电阻的降低会引起薄膜中载流子浓度的提高,从而降低费米能级,达到降低VO2相变电场阈值的效果,实现调控VO2薄膜相变电场的目的.我们课题组研究发现：当退火时间小于10 h时,薄膜为VO2,V6O13,V6O11、V2O5等多种价态氧化物的共存状态,随着退火时间的缩短,相变临界场强由1.8 MV/m降到0.4 MV/m,降低约3/4,调控作用明显,这对扩展电场诱导VO2相变的应用范围有深远的意义[49].两个或更多激励组合同样能够对VO2相变阈值产生调节作用[13],我们课题组在研究温度变化对VO2薄膜材料相变影响规律时,提出了多物理场共同作用来调控VO2薄膜材料相变阈值的方法[60].当环境温度从63.5 ℃上升到66 ℃时,相变场强阈值从0.17 MV/m下降到0.065 MV/m(如图7所示),同样的,随着外部电场强度由0.075 MV/m增加到0.2 MV/m时,相变温度从66 ℃降低到63.5 ℃(如图8所示).电子科技大学Liao等[61]通过实验也得到了类似的结果,他们利用有机分子束外延(organic molecular beam epitaxy,OMBE)技术在蓝宝石衬底上生长出高质量的二氧化钒单晶薄膜,并对不同温度下的相变电压值进行了测试,结果表明相变电压在50—65 ℃之间时,随着温度升高,相变电压逐渐降低,温度升至70 ℃之后,VO2薄膜变为金属态,失去相变特性.根据Mott相变的观点[1],当电子关联能与d/能带宽度可比拟且B/U比值变大到一定程度使,分裂的d//带变成半满的d//带,变为金属相,即完成相变.所以总体表现为随着温度的升高,达到相变的外加临界电场的值在不断的减小.图7 VO2薄膜温度调控相变电场曲线图(电极间距5 mm)[60]Fig.7.MIT electric field curve controlled by temperature for VO2thin film (the electrode spacing is 5 mm)[60].图8 电场强度调控相变温度的关系图[60]Fig.8.MIT temperature curve controlled by electric field intensity[60].上述3种方法对相变临界阈值场强的调控作用都比较明显,但在调控过程中均出现了电阻变化率减少的现象,而从晶体结构角度分析,VO2的相变过程是晶体结构中键角和键长变化的结果,现有的调控方法是提前对键角和键长进行了预设计,从而实现相变阈值场强的调控,但同时也降低了电阻率的变化幅度.如何能够在尽可能保持原有变化率的同时,降低相变电压阈值是下一步的研究难点,且上述调控方法对电场诱导VO2相变临界场调控规律仍需进一步深入研究.6 相变机理探究VO2作为一种人们广泛关注的强关联体系,在受到外加物理场作用的相变反应过程非常复杂.2016年国内湖北大学何云斌课题组[14]曾对相变物理机理进行了总结,综述了VO2发生相变的3种理论体系,分别为：电子关联驱动相变(Mott相变)、结构驱动相变(Peierls转变)以及电子关联和结构共同驱动相变,但目前仍没有统一的认识.电场诱导VO2相变响应时间快,影响因素多,对测试方法和测试仪器要求较高,且研究时间短,其相变机制同样处于探索研究阶段,当前主流观点包括焦耳热机制和纯电场机制.焦耳热机制是指因电压作用而产生焦耳热触发材料相变,导致电阻发生突变,这种观点认为电场诱导VO2相变的本质是一种因电场作用产生焦耳热而触发热能驱动的电阻急剧变化现象,焦耳热是VO2发生绝缘-金属相变的根本原因.美国惠普实验室的Kumar等[62]采用多种先进技术手段观察发现：在相变前VO2薄膜局部产生桥接电极的金属相“导电丝”,并随着电流的增大逐步加宽,最终实现整个材料的“导通”,并在导通瞬间出现局部温度跳跃.Freeman等[63]利用纳米级高透力X-ray也同样观测到了导电金属纤维的出现.从导电丝再现的角度分析焦耳热的作用,美国Singh等[64]利用逐步水热法制备了单晶VO2纳米纤维,并将单个VO2纳米纤维喷射在基底上(如图9所示),通过对器件两端电压和电流信号的测量,发现在相变过程中,同样从微观角度发现VO2纤维中首先形成随机电阻网络,然后才出现“雪崩”,即相变,随后对电流信号进行了谐波分析,发现在转变过程中也不存在类似于Poole-Frenkel-Like的纯电场诱导的相变现象,证明了焦耳热的主要作用.在宏观尺度上,Bongjin等[65]通过实验计算得出VO2相变起始电压的平方与环境温度具有相关性,并发现VO2在发生相变之后,仍有部分绝缘状态的VO2存在,被认为是焦耳热的不均匀性造成的.2016年,Li等[66]则利用计算机仿真技术进一步证实了焦耳热的作用,研究了不同温度阶段下直流和脉冲电压相变特性,认为导致VO2发生相变的电功率随温度的增加而线性减少,模拟结果与实验结果完全相同,因此认为电场诱导VO2相变完全是由热效应引发,并指出其他文献中的数据差异是因为衬底加热较慢造成的.图9 (a)VO2纳米纤维；(b)测试器件；(c)温度响应曲线[64]Fig.9.(a)VO2nanofibers；(b)test device；(c)curve of temperature response.[64].电场机制也称为Mott绝缘体的莫特齐纳击穿现象[67,68],当外部强电场激发VO2薄膜发生相变时,将以注入载流子的方式或者增大电子密度的方式,使VO2晶体内电子间关联能和费米能级发生变化,而当电子间关联能与费米能级满足一定条件时,VO2薄膜则会发生绝缘-金属相变.这种机制认为VO2薄膜的相变过程为其包含的所有颗粒在电场作用下发生相变的共同作用结果,不同晶粒相变电压具有微小差异,随着电压的升高,VO2薄膜颗粒逐步转变为金属相,当足够数量的晶粒转变为金属相时,孤立金属颗粒相互连接,从而完成绝缘-金属相变[69,70].天津大学梁继然等[71]根据上述理论,通过实验进行了验证.电容结构(三明治结构)可通过隔离电流作用来研究相变过程中电场的作用,这是研究电场作用的最佳选择,东京大学的Matsunami等[72]通过电容结构对VO2薄膜加载0—3 V电压实现了VO2的相变,并通过热平衡方程计算出在相变过程中温度变化仅为3.8 ℃,不足以引起晶粒的相变发生.国内He等[46]利用这一结构,严格控制了实验VO2薄膜中的电流产生,因此相变过程中产生的焦耳热完全可忽略不计,同样观察到了相变的发生,这些结果都有力地证明了VO2MIT可完全仅由外部电场引起.近期,美国宾夕法尼亚洲大学的Shi和Chen[73]从动力学角度出发,制定了一个相位场理论模型,模拟了理想化的等温MIT相变过程,证明了电流可以通过引起电子相关性弱化效应实现几纳秒时间内的电阻突变.文献[15,36]利用反证法验证了电热模型与实验结果的矛盾所在,基于电热模型计算出相变过程中理论时间高出实际相变时间(小于5 ns)数十倍.Zhou等[23]通过对比文献[74]和[33],也发现了同样的结果.2018年,北京工业大学王泽霖等[9]对VO2纳米线开展了测试研究,通过控制测试电路中的最大电流,使产生的焦耳热不随两端电势差的降低而减小,证明单晶VO2纳米线在由高温相R到低温相M1相变瞬间,并不是焦耳热变化导致的热致相变过程.Gopalakrishnan等[75]利用Comsol仿真软件对文献报道的实验进行了计算机仿真,模拟结果表明：由VO2器件“关闭”状态下的漏电流引起的焦耳热,引发的温度上升小于10 ℃,不足以触发MIT,文献[76]则利用了德拜特征温度与压力之间的线性关系实验证明了焦耳热机制的缺陷,其在室温、2 GPa静水压力下研究了电场引起的电阻突变(EIRS),但实验结果发现不同于热引起的低电阻状态(T-LRS),电场引起的低电阻状态(E-LRS)中的电阻对静水压力不敏感,且随着压力的增加E-LRS的临界电流增加,但临界电压不变,说明外界压力使得VO2体积变小键长缩短,但外力压力作用下的结晶结构变化并没有影响到临界阈值场强,说明晶体结构变化不是影响相变阈值场强的决定性因素.上述研究表明：利用电热模型在解释电场诱导相变现象中仍存在不足,进而说明VO2的电场诱导相变机制更容易给出合理的解释.而Joushaghani等[77]则认为相变电路的开启源于电场诱导作用,但导电通路打开后金属相的维持依靠焦耳热作用,且在由金属相向绝缘相转变过程中焦耳热起主导作用,这种观点认为在VO2相变过程中,首先发生Mott型结构转变,而后进行Peierls型结构转变,整个相变过程中两种相变机制都在发挥作用.目前,关于VO2绝缘-金属相变物理机制的争论仍然没有结束,不同相变机制之间存在何种内在联系尚无统一认识,迫切需要理论物理和材料领域的专家学者开展深入。
材料化学期末复习
材料化学期末复习第⼀章⼀、名词解释：1.材料：材料（⼀般）是指⼈类社会所能够接受的、可以经济地制造有⽤器件的（固体）物质。
2.材料科学：是研究材料的组织结构、性质、⽣产流程和使⽤效能，以及他们之间相互关系的学科。
3.材料科学与⼯程：材料科学是⼀门与⼯程密不可分的应⽤科学，材料科学与材料⼯程合起来称为“材料科学与⼯程”。
4.材料四要素：组成、结构、⼯艺、性能。
5.复合材料：复合材料是由两种或两种以上物理和化学性质不同的物质组合成的⼀种多相固体材料。
⼆、什么是材料化学？其主要特点是什么？材料化学是从化学的⾓度研究材料设计、制备、组成、结构、表征、性质和应⽤的⼀门科学。
跨学科性和实践性。
三、材料与化学试剂的主要区别是什么?化学试剂在使⽤过程中通常被消耗，并转化为别的物质；材料⼀般可以重复、持续使⽤，除了正常损耗，它是不会不可逆地转变成为别的物质。
四、观察⼀只灯泡，列举出制造灯泡所需要的材料。
⽩炽灯泡主要由灯丝、玻璃壳体、灯头等⼏部分组成。
五、材料按其化学组成和结构可以分为哪⼏类?⾦属材料、⽆机⾮⾦属材料、⾼分⼦材料、复合材料。
六、简述材料化学的主要内容。
材料化学是关于材料的结构、性能、制备和应⽤的化学。
根据化学理论，通过⼀定的合成和制备⼯艺，可获得具有特定组成、结构和性能的材料，进⽽产⽣相应的⽤途。
◆第⼆章⼀、名词解释1.电负性：是元素的原⼦在化合物中吸引电⼦能⼒的标度。
2.晶体：由原⼦、分⼦或离⼦等微粒在空间按⼀定规律、周期性地重复排列的固体物质称为晶体。
3.晶格：晶体中质点中⼼⽤直线连起来构成的空间格架。
4.晶胞：构成晶格最基本的⼏何单元。
5.晶⾯间距：具有相同密勒指数的两个相邻平⾏晶⾯之间的距离称为镜⾯间距。
⼆、原⼦间的结合健共有⼏种？各⾃特点如何?三、范德华⼒的来源有哪些？①取向⼒。
当极性分⼦相互接近时，它们的固有偶极相互吸引产⽣分⼦间的作⽤⼒；②诱导⼒。
当极性分⼦与⾮极性分⼦相互接近时，⾮极性分⼦在极性分⼦固有偶极作⽤下，发⽣极化，产⽣诱导偶极，然后诱导偶极与固有偶极相互吸引⽽产⽣分⼦间的作⽤⼒；③⾊散⼒。
钢材的控制轧制和控制冷却
钢材的控制轧制和控制冷却一、名词解释：1、控制轧制：在热轧过程中通过对金属的加热制度、变形制度、温度制度的合理控制，使热塑性变形与固态相变结合，以获得细小晶粒组织，使钢材具有优异的综合力学性能。
2、控制冷却：控制轧后钢材的冷却速度、冷却温度，可采用不同的冷却路径对钢材组织及性能进行调控。
3、形变诱导相变：由于热轧变形的作用，使奥氏体向铁素体转变温度Ar3上升，促进了奥氏体向铁索体的转变。
在奥氏体未再结晶区变形后造成变形带的产生和畸变能的增加，从而影响Ar3温度。
4、形变诱导析出：在变形过程中，由于产生大量位错和畸变能增加，使微量元素析出速度增大。
两相区轧制后的组织中既有由变形未再结晶奥氏体转变的等轴细小铁素体晶粒，还有被变形的细长的铁素体晶粒。
同时在低温区变形促进了含铌、钒、钛等微量合金化钢中碳化物的析出。
5、再结晶临界变形量:在一定的变形速率和变形温度下，发生动态再结晶所必需的最低变形量。
6、二次冷却：相变开始温度到相变结束温度范围内的冷却控制。
二、填空：1、再结晶的驱动力是储存能，影响其因素可以分为：一类是工艺条件，主要有变形量、变形温度、变形速度。
另一类是材料的内在因素，主要是材料的化学成分和冶金状态。
2、控制冷却主要控制轧后钢材冷却过程的（冷却温度）、（冷却速度）等工艺条件，达到改善钢材组织和性能的目的。
3、固溶体的类型有（间隙式固溶）和（置换式固溶），形成（间隙式）固溶体的溶质元素固溶强化作用更大。
4、根据热轧过程中变形奥氏体的组织状态和相变机制不同，将控制轧制划分为三个阶段，即奥氏体再结晶型控制轧制、奥氏体未再结晶型控制轧制、在A+F两相区控制轧制。
5、以珠光体为主的中高碳钢，为达到珠光体团直径减小，则要细化奥氏体晶粒，必须采用（奥氏体再结晶）型控制轧制。
6、控制轧制是在热轧过程中通过对金属的（加热制度）、（变形制度）、（温度制度）的合理控制，使热塑性变形与固态相变结合使钢材具有优异的综合力学性能。
金属诱导隙态
金属诱导隙态1 金属诱导隙态的定义和特点金属诱导隙态(Metal-Induced Gap States，MIGS)是指金属与半导体的界面上形成的一种特殊能级。
金属在接触半导体表面后，形成一些分布于半导体禁带能量范围内的未占据的能级，这些能级即为MIGS。
它们能让电子从金属上迁移到半导体内部，从而影响半导体的电学性质。
2 MIGS的产生机制MIGS的产生机制有多种解释，但主要包括两种：化学键理论和电场效应理论。
化学键理论认为，当金属与半导体接触时，由于表面变化引起晶格扭曲或断裂，形成了很多界面局部物种，这些物种的电子结构不同于纯半导体和纯金属，形成MIGS。
电场效应理论认为，金属接触半导体后，在界面处形成一个电场，将导致半导体表面电子能量改变，进而形成MIGS。
3 MIGS对半导体材料的影响MIGS会影响半导体材料的电学性质，特别是表面性质。
MIGS能引起表面状态密度的增加与分布扩散，导致表面的能带弯曲和能量障碍变化。
同时，MIGS也会改变半导体的电子输运特性，例如电子迁移率和载流子寿命等。
此外，MIGS还会影响半导体的接触电势差和界面反应，影响半导体器件的电学性能。
4 应用前景尽管MIGS对半导体器件有不利影响，但在某些情况下，MIGS也能被用于改善器件性能。
例如，将钨等过渡金属引入硅器件表面能够改善晶体管等器件的性能表现。
此外，MIGS还可用于改善太阳能电池的效率和延长寿命等。
因此，研究MIGS的产生机制与影响，对于开发高性能的半导体器件具有重要意义。
总之，金属诱导隙态对于半导体材料的电学性能有着重要的影响。
虽然在某些情况下会对器件性能产生不利影响，但也可被用于改善器件性能和开发高性能半导体材料。
因此，对于MIGS的深入研究有着重要的实际意义和应用前景。
经典金属疲劳裂纹扩展至断裂机理讲解（专业级）
经典金属疲劳裂纹扩展至断裂机理讲解（专业级）经典金属疲劳裂纹扩展至断裂机理讲解（专业级）通常，疲劳裂纹扩展可以分为三个阶段：第I阶段（裂纹萌生，shot cracks），第II阶段（裂纹扩展，long cracks），第III阶段（瞬时断裂，final fracture）Fig. 1— Stages I and II of fatigue crack propagation.第I阶段：一旦裂纹萌生以后，就会沿着最大剪切应力平面(约45o)扩展，如图1所示。
这一阶段被认为是第I阶段或者短裂纹萌生和扩展阶段。
裂纹一直扩展直到遇到障碍物，如晶界、夹杂物或珠光体区。
它无法容纳初始裂纹的扩展方向。
因此，晶粒细化是可以提升材料疲劳强度的利用了引入大量微观障碍物的原理。
晶界，在裂纹扩展的第I阶段需要克服晶粒的阻碍并越过晶界。
表面机械处理，例如喷丸和表面滚压也会引入一些微观的障碍物，因为它们使晶界被压扁了。
Fig. 2 — Fatigue striations in (a) interstitial free steel and (b)aluminum alloy AA2024-T42. Figure (c) shows the fatigue fracture surface of a cast aluminum alloy, where a fatigue crack was nucleated from a casting defect, presenting solidification dendrites on the surface; fatigue striations are indicated by the arrow, on the top right side.第II阶段：由于裂纹扩展，实际载荷的上升，应力强度因子K不断增加，在裂纹尖端附近的不同平面上开始发生滑移，于是就进入了第II阶段。
第五章6应力开裂腐蚀
饱和期：裂纹互相连接，内部脱碳直到碳耗尽。 体积不再膨胀
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氢腐蚀的影响因素
• 温度 • 氢分压 • 冷加工变形：加速腐蚀（应变易集中在铁素体和碳化物界
面上，在晶界形成高密度微孔，增加了组织和应力的不均 匀性，增加气泡形核位置，并有利于裂纹的扩展。） • 碳化物的球化处理：使界面能降低而有利于孕育期的延长。 • 稳定化元素
机理：C+2H2 → CH4
Fe3C+2H2 → 3Fe+CH4
或4H + Fe3C → 3Fe+CH4
反应生成的高压气体，在高压、高温、含氢条件下氢
分子扩散到钢中，并生成甲烷，甲烷在钢中的扩散能力很
低，这样甲烷量不断增多，形成局部高压，造成应力集中
使该处发展为裂纹。（脱碳）
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氢腐蚀过程
孕育期：晶界碳化物及其附近有大量亚微型充满甲烷的 鼓泡形核。 力学性能和显微组织均无变化
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2、氢鼓泡（Hydrogen Blistering） 氢鼓泡是指过饱和的氢原子在缺陷位置（如夹杂、气孔、
微缝隙处）析出后，形成氢分子，在局部区域造成高氢压 （106MPa），引起表面鼓泡或形成内部裂纹，使钢材撕裂 开来的现象，称氢诱发开裂（HIC）或氢鼓泡（HB）。
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3、氢化物脆裂 （ Hydrogen Embrittlement） 氢化物脆裂脆（HE）是指由于氢扩散到金属中以固溶态
材料因素 力学因素
SCC
环境因素
2、发生应力腐蚀断裂的主要是合金，几乎所有金属的 合金在特定的环境中都有一定的应力腐蚀敏感性。例如， 纯度达9999%的铜在含氨介质中不会腐蚀断裂，但含有 004%磷或001%锑时，则发生开裂。
腐蚀学原理--第七章-应力作用下的腐蚀分析
实例：中国版本的“黑Байду номын сангаас坠落”
7.1.3 防止应力腐蚀断裂的措施
1．降低或消除应力 (1) 改进结构设计，避免或减少局部应力集中。对应力腐蚀事故分析表明，由残余应力引起的比例最大，因此在加工、制造、装配中应尽量避免产生较大的残余应力。结构设计应尽量避免缝隙和可能造成腐蚀液残留的死角，防止有害物质(如Cl-、OH-)的浓缩。 (2) 消除应力处理：减少残余应力可采取热处理退火、过变形法、喷丸处理等方法。其中消除应力退火是减少残余应力的最重要手段，特别是对焊接件，退火处理尤为重要。 (3) 按照断裂力学进行结构设计：由于构件中不可避免地存在着宏观或微观裂纹和缺陷，因此用断裂力学进行设计比用传统力学方法具有更高的可靠性。在腐蚀环境下，预先确定材料的KISCC、da／dt等参数，根据使用条件确定构件允许的临界裂纹尺寸ac，具有重要的实际意义。
氢的存在形式
氢可以H-、H、H+、H2、金属氢化物、固溶体、碳氢化合物等形式存在于金属中，也可与位错结合形成气团(⊥H)而存在。当氢与碱金属(如Li、Na、K)或碱土金属作用时，可形成氢化物(如NaH)。在这类化合物中Na+和H-以离子键方式结合在一起，氢以H-形式存在。另一种观点认为，过渡族金属的d带没有填满，当氢原子进入金属后，分解为质子和电子，即H → H++e。氢的1s电子进入金属的d带，氢以质子状态存在于金属中。当金属d带填满后，多余的氢将以原子状态存在。也有观点认为，氢原子具有很小的原子半径(0.053nm)，能处于点阵的间隙位置，如α—Fe的四面体间隙和γ—Fe的八面体间隙。最近，有的研究者又提出电子屏蔽概念。认为氢以原子态“H+e”存在于金属中，或者说氢以“屏蔽的离子”即穿有“电子外衣”的离子状态存在于金属中。 氢溶解在金属中可形成固溶体，氢在金属中的溶解度与温度和压力有关。氢在金属中如果超过固溶度，可形成分子氢(H2)、金属氢化物、氢原子气团三类化合物。
六价铬诱导的肝细胞线粒体依赖性凋亡中VDAC1的作用
六价铬诱导的肝细胞线粒体依赖性凋亡中VDAC1的作用周晓昕;张玉静;肖芳;钟才高【摘要】Chromium is a widely used chemical,which demonstrated the acute and chronic toxicity,includingneurotoxicity,genotoxicity,carcinogenicity and immunotoxicity.We aimed to provide experimental evidence for the prevention and cure of the hexavalent chromium (Cr(Ⅵ))-induced hazard.Voltage-dependent anion channel-1 (VDAC1) is an essential player in mammalian apoptosis by regulating mitochondrial membrane permeability.VDAC1 is a key functional target of the BCL-2 protein family,and BAX and BAK can interact with VDAC1 and form a large pore,through which apoptogenic proteins such as cytochrome C released.But the molecular mechanism of VDAC1 in cell apoptosis is still not clear.We established the VDAC1 stably knocked-down cell lines L02-VDAC1-1 and shVDAC1-2 through sustained expression of shRNA against VDAC1 and then detected the survival rate,the apoptosis rate,reactive oxygen species (ROS)production,mitochondrial function and the contents of apoptosis inducing factor.The result showed that the survival rate of the shVDAC is higher than that of L02 and the apoptosis rate is decreased.The result concerning ROS production showed that knocking down of VDAC1 can prevent Cr(Ⅵ)-induced ROS accumulation compared with L02.The inner MPTP and the contents of cytochrome C (cyt C) and apoptosis inducing factors were significantly increased in response to Cr(Ⅵ) stimuli in L02,but thesephenomena did not occur in shVDAC1.The results in this study demonstrated that VDAC1 mediates Cr(Ⅵ)-induced L02 hepatocytes apoptosis,and the inhibition of VDAC 1 expression could reduce the adverse effects induced by Cr(Ⅵ) exposure.%铬(chromium)是一种在工业生产过程中广泛使用的重金属,进入人体后可导致急慢性中毒,具有神经毒性、基因毒性、致癌性和免疫毒性.了解六价铬(hexavalent chromium,Cr(Ⅵ))的细胞毒性,进一步探究Cr(Ⅵ)的毒作用机制,可为防治Cr(Ⅵ)对人群健康的损害提供实验依据.电压依赖性阴离子通道蛋白l(voltage-dependent anion channel-1,VDACl)参与调控线粒体外膜通透性,影响细胞凋亡;同时VDACl也是BCL-2家族的重要结合位点,它可与BAX/BAK相互作用形成孔道,使线粒体内的凋亡相关蛋白,如细胞色素C等,进入胞浆,引起细胞凋亡.但VDAC1影响细胞凋亡的确切路径与分子机制,目前尚未完全研究清楚.使用L02人正常肝细胞作为实验对象,通过慢病毒包装法建立VDAC1低表达细胞系,检测在相同浓度Cr(Ⅵ)处理的条件下,与非染毒组相比,不同受试细胞的生存率、凋亡情况、活性氧簇(reactive oxygen species,ROS)生成量、线粒体功能和凋亡诱导因子(AIF)的变化情况是否存在差异.结果表明,与VDACl正常表达的细胞相比,VDAC1低表达组在Cr(Ⅵ)染毒的情况下,细胞生存率升高,凋亡率下降,细胞内ROS生成量减少,MPTP活性增加不明显,胞浆内细胞色素C(Cytochrome C,Cyt C)和AIF含量降低.上述研究结果表明VDAC1参与了由六价铬诱导的线粒体依赖性肝细胞凋亡,并且抑制VDAC1的表达可减轻因Cr(Ⅵ)暴露而引起的L02肝细胞损伤.【期刊名称】《生态毒理学报》【年(卷),期】2017(012)006【总页数】8页(P91-98)【关键词】六价铬;电压依赖性阴离子通道;线粒体通透性转换孔;凋亡【作者】周晓昕;张玉静;肖芳;钟才高【作者单位】中南大学湘雅公共卫生学院,长沙410000;中南大学湘雅公共卫生学院,长沙410000;中南大学湘雅公共卫生学院,长沙410000;中南大学湘雅公共卫生学院,长沙410000【正文语种】中文【中图分类】X171.5在生态系统中，铬存在多种价态，其中Cr(Ⅵ)具有生物氧化毒性，在自然界中主要以铬酸盐或重铬酸盐的形式存在，毒性最强[1]。
金红石型TiO_(2)中四种点缺陷态研究
原子与分子物理学报JOURNAL OF ATOMIC AND MOLECULAR PHYSICS第38卷第1期2021年2月Vol. 38 No. 1Feb. 2021金红石型Ti。
中四种点缺陷态研究朱海霞（盐城师范学院物理与电子工程学院，盐城224051）摘 要：利用第一性原理计算方法研究了金红石型TiO 2中四种缺陷的电子态.这四种缺陷包括氧空位 （O ’）、钛空位（Ti v ）、钛间隙（Ti s ）以及氧空位O ’与钛间隙态Ti s 共存态.氧空位的存在导致禁带内施主缺陷能级较浅，而深施主能级与Ti 间隙态有关.预测了氧空位更倾向于与钛间隙结合,主要通过钛间隙态的3d 电子部分转移到近邻近氧空位的部分形成O v -Ti s 对缺陷.具有O ’、Ti S 或O v -Ti s 缺陷的体系都出现 间隙态，促进体系出现红外吸收.关键词：金红石型TiO 2;点缺陷；电子性质；第一性计算中图分类号：O483文献标识码：ADOI ：10.19855/j.l000-0364.2021.016008Researches on four different point defects of rutile TiO 2ZHU Hai ・Xid(School of Physics and Electronic Engineering , Yancheng Teachers University , Yancheng 224051 , China)Abstract :The electronic states of four types of defects in rutile TiO are studied using the first principles calcula tions. The four types defects include oxygen vacancy ( O v) , titanium vacancy ( Ti v) , titanium interstitial(Ti s) , and the coexistence of O vand Tis ( O v- Ti s) - The existence of oxygen vacancy (v °) leads to a shallow donor defect level in the forbidden band , while a deep donor level is associated with the Ti interstitial (Ti $) - Itis predicted that an oxygen vacancy prefers to combine with a Ti $ to form a O v - Ti $ dimer by a partial 3d electronbeing transferred from the Ti $ to the neighboring O v - The system with defects of O v ,Ti $ orO ” 一 Ti $ appears gap 一 states ，which promotes the infrared absorption of the system.Key words : Rutile TiO ; Point defects ; Electronic structure ;First-principles calculations1引言TiO 2是一种重要工业材料，也是重要的半导体光催化材料-TiO 2有三种基本晶相：锐钛矿型、 板钛矿型和金红石型，而最受关注的是锐钛矿和金红石相-然而，对于光催化剂的应用，TiO 2最优化的带隙应为~2.0 ev ,才能实现大量可见光 吸收-但是实际上纯TiO 2带隙值约3- 0 ev 左右,这意味着纯TiO 2只能吸收紫外线辐射，即只吸收约4.0%的太阳能量，而在优化带隙值这一问题 上已有了大量的研究工作［1>2］-而众所周知，无论是TiO 2粉末形式还是薄膜形式，实际合成的TiO 2都具有高密度的结构缺陷，特别是在常规合成条件下产生的固有点缺陷•这些点缺陷可能会在电子带结构中引入额外的成分，对传输和光学行为产生实质性的影响［3］，其中一些在实际应用 中可能是有利的-这是全面研究TiO 2缺陷状态的 动机⑷-氧化钛最容易被发现的缺陷是氧空位（Ov ）,这可能导致各种物理后果-例如，锐钛矿型TiO 2 表面上的可以增强分子吸附，有利于表面化学处理⑸，有利于电荷转移到吸收的CO 2-晶格内的 O v 诱导载流子自陷态⑷-对于金红石型TiO 2，有报道称其单重态为反铁磁态，三重态为铁磁态,收稿日期：2020-06-06基金项目：国家自然科学基金（11704326）作者简介：朱海霞，女，博士，副教授，主要从事新能源材料电子结构和物性的研究.E-mail ： shyzhhx13@ 163. com第38卷原子与分子物理学报第1期外吸收光谱中的一些关键特征与也二者有关⑺.有研究表明，氧空位O v可以在能隙内产生浅缺陷态，从而抑制相邻Ti离子的局部磁态⑻.此外，还揭示了的钛是红外吸收数异常的•这些乎，一方面，TiO2纳了位以外的点，方面，这些不类型的点可能存在相互作用，了TiO2材料的电子结构的复杂性⑼.鉴于存在各种点缺，这种 可能是二氧化钛在电子结构和输运行为方面难以理解的原因之一⑹.然目在一些关于TiO2的研究68"12】，但主要是探讨氧空位缺陷对TiO2材料电子构的.此，面研究各种不TiO2的电子结构的是一件非常有的工作•为了化考虑，本文具有介电常数高、‘化能的金红石相TiO2为研究对象•主要详细研究了位(O v)，Ti位i (%)、Ti子(企)和。
fe的t2g和eg轨道间隙
fe的t2g和eg轨道间隙过渡金属化合物中的d轨道在分子中的能级是非常重要的，其中t2g和eg轨道是最常见和具有特殊性质的两个轨道。
t2g和eg轨道之间的间隙对于理解金属配位化合物的电子结构和性质至关重要。
本文将介绍t2g和eg轨道以及它们之间的间隙。
1. 概述过渡金属离子在形成配位化合物时，其d轨道参与配位。
在配位化合物中，d轨道的分裂是由于配体中形成的配位场的影响而产生的。
这个分裂导致了d轨道的能级的重排，在形成配位化合物的过程中，d轨道的电子分布也会发生变化。
2. t2g轨道t2g轨道是过渡金属离子的三个d轨道，其能级较低。
这三个轨道通常表示为dxz、dyz和dxy，分别对应于x、y和z方向上的电子云分布。
这些轨道具有两个轴对称面，通过这些面的反射不会改变轨道的形式。
3. eg轨道eg轨道是过渡金属离子的两个d轨道，其能级较高。
这两个轨道通常表示为dx²-y²和dz²，对应于主要轴的方向。
这些轨道没有轴对称面，通过这些面的反射会改变轨道的形式。
4. t2g和eg轨道间隙由于配位场的不同，过渡金属离子的t2g和eg轨道会发生不同程度的分裂。
这种分裂导致了t2g和eg轨道之间的能级间隙。
能级间隙的大小对过渡金属离子的性质有重要影响。
5. 影响t2g和eg轨道间隙的因素t2g和eg轨道间隙的大小受到多种因素的影响，包括配位场的强度、过渡金属离子的电子结构以及配体的性质等。
配位场强度越大，t2g和eg轨道之间的分裂越大，能级间隙也就越大。
过渡金属离子的电子结构也影响着t2g和eg轨道的分裂情况。
6. t2g和eg轨道间隙的意义t2g和eg轨道间隙的大小决定了过渡金属离子的配位数和形状。
配位化合物中，如果t2g和eg轨道间隙较小，意味着t2g和eg轨道之间的能级接近，过渡金属离子将更容易接受氧化还原反应。
反之，如果t2g和eg轨道间隙较大，过渡金属离子就更容易形成高配位数的配合物。
间隙化合物名词解释
间隙化合物名词解释
间隙化合物是指由金属和非金属元素组成的化合物，其晶体结构
中存在着空隙或间隙。
这些空隙可以是由离子半径差异引起的，也可
以是由结构单位重排导致的。
间隙化合物在化学、物理、材料等领域
具有重要应用和研究价值。
首先，间隙化合物的特点之一是其晶格存在着空隙或间隙。
这些
空隙可以是晶格中一些原子的位置所形成的缺陷，也可以是与结构单
位之间的缝隙。
这些空隙的存在使得间隙化合物具有特殊的物理和化
学性质。
其次，间隙化合物的形成与金属和非金属元素的配位方式密切相关。
在间隙化合物中，金属元素可以通过配位方式与非金属元素进行
化学键的组合。
这些配位方式可以是直线型的，也可以是环形的。
不
同的配位方式会导致不同形态的间隙化合物。
间隙化合物在材料科学中具有广泛的应用。
例如，在储能材料中，一些金属氧化物和金属硫化物被广泛应用于电池和超级电容器等设备中。
这些材料中的间隙结构可以提供额外的空间，促进离子在晶体中
的传导，从而实现高效的能量储存和释放。
另外，间隙化合物也被用
于催化剂、传感器、光电材料等领域，发挥着重要的作用。
总的来说，间隙化合物是由金属和非金属元素组成的化合物，其
晶体结构中存在着空隙或间隙。
它们具有独特的物理和化学性质，广
泛应用于材料科学和其他领域。
对于深入了解间隙化合物的特性和应用，需要进一步研究和探索。
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金属诱导间隙态
金属诱导间隙态（Metal-inducedgapstates，MIGS）是由金属表面的场势与表面空穴结合产生的状态，因此也被称为金属表面造成的间隙态。
它被用来说明金属表面的光学性质。
它们是能带中的本征态，其在详细的金属表面上的空间分布也表现出分子结构中的对称性。
MIGS的特征保证了金属表面和金属的电性学行为的一致性，因此它们将被用于有效地优化金属表面的响应。
金属诱导间隙态的存在有两个条件：一是金属表面必须具有空穴或过量电子；二是材料的原子间距必须足够小，以便在金属/空间界面中形成非常紧密的结构。
当这两个条件都满足时，光子就会在金属表面聚集，产生金属表面光学性质的增强。
金属诱导间隙态的发现可以追溯到上世纪70年代Kohn的理论分析，由于金属表面的电场势，光子就会由于低能量的离子和电子之间的强耦合，而产生比空间更大的能区。
研究进一步表明，这种表面诱导的间隙态是强耦合态，它会改变金属表面的光学性质。
金属诱导间隙态被广泛应用于金属表面光学性质的改变和可见光的增强，这为可见光固态器件的开发提供了新的可行性方案。
金属诱导间隙态的科学研究受益于冷却技术的进步，冷却技术可以把微米大小的金属片冷却到接近绝对零度，这样金属的性质就可以有效地控制。
因此，冷却技术不仅可以测量金属诱导间隙态的特性，还可以调节其能量分布。
冷却技术的进步和先进表面科学技术的发展，使得对金属诱导间隙态的研究更加系统和深入。