模拟电子技术基础_场效应管及其放大电路
第3章 场效应管及其基本放大电路 参考答案
第 3章 场效应管及其基本放大电路3.1填空题(1)按照结构,场效应管可分为 。
它属于 型器件,其最大的优点是 。
(2)在使用场效应管时,由于结型场效应管结构是对称的,所以 极和 极可互换。
MOS 管中如果衬底在管内不与 极预先接在一起,则 极和 极也可互换。
(3)当场效应管工作于恒流区时,其漏极电流D i 只受电压 的控制,而与电压 几乎无关。
耗尽型D i 的表达式为 ,增强型D i 的表达式为 。
(4)一个结型场效应管的电流方程为2GS D 161mA 4U I=×− ,则该管的DSS I = ,p U = 。
(5)某耗尽型MOS 管的转移曲线如习题3.1.5图所示,由图可知该管的DSS I = ,p U = 。
(6)N 沟道结型场效应管工作于放大状态时,要求GS 0u ≥≥ ,DS u > ;而N 沟道增强型MOS 管工作于放大状态时,要求GS u > ,DS u > 。
(7)耗尽型场效应管可采用 偏压电路,增强型场效应管只能采用 偏置电路。
(8)在共源放大电路中,若源极电阻s R 增大,则该电路的漏极电流D I ,跨导m g ,电压放大倍数 。
(9)源极跟随器的输出电阻与 和 有关。
答案:(1)结型和绝缘栅型,电压控制,输入电阻高。
(2)漏,源,源,漏,源。
(3)GS u ,DS u ,2GS D DSS P 1u i I U =− ,2GS D DO T 1u i I U=−。
(4)16mA ,4V 。
(5)习题3.1.5图4mA ,−3V 。
(6)p U ,GS p u U −,T U ,GS T u U −。
(7)自给,分压式。
(8)减小,减小,减小。
(9)m g ,s R 。
3.2试分别画出习题3.2图所示各输出特性曲线在恒流区所对应的转移特性曲线。
解:3.3在带有源极旁路电容s C 的场效应管放大电路如图3.5.6(a )所示。
若图中的场效应管为N 沟道结型结构,且p 4V U =−,DSS 1mA I =。
模拟电子技术第章场效应管及其放大电路
v O1
例在如图所示电路中,已知VDD=15V,Rg1=150kΩ, Rg2=300kΩ, Rg3=1MΩ, Rd= RL=5kΩ,Rs=0.5kΩ, MOS管的VT=2V, IDO=2mA 。 试求解:
(1)电路的静态工作点;R 2
(2)电路的电压放大倍数、输入
电阻和输出电阻;
解:(1)
vI vi
i
2.共源极放大电路的动态分析
R2
+
vO
vI vi
vo
vGS 2VT
fL
v2 R1 v2
vO1 /V
-
vGS 2
交流等效电路
VT1
Av
V T
VVo2i VT
vGS
g
mVGS (Rd VGS
// RL )
v GS1
g m RL vGS VT
f
Rivi
vI 2
Ro Rd
vO2 /V
第25页/共32页
5
0.15 0.3
Ri
Rg 3
Rg1
//
Rg 2
(2
)M 0.15 0.3
2.1M
vOR1o/
V
Rd
2k
vi
第28页/共32页
v GS1 vGS VT
fL
f vI 2
3.共漏极放大电路的动态分析
R2 vi
vI
V i vO
VGS g mVGS
v2 R1
VGG VGSQ I DQ RS
(1)
vGD VT
iD几乎仅仅受控于vGS
vGS的增大几乎全部用 来克服夹断区的电阻
第12页/共32页
R2 vI
(2)特性曲线和电流方程
模拟电子技术场效应管放大器与功率电子电路课件
dddiiiddd
①当uDS=0时, iD=0。
②uDS↑→iD ↑
→靠近漏极处的耗尽层加宽,
g
沟道变窄,呈楔形分布。 ③当uDS ↑,使uGD=uG S- uDS=UP时,
g
pppp++++
pppp++++
VVVDD
D DD
D
在靠漏极处夹断——预夹断。
④uDS再↑,预夹断点下移。
NN
定义:
gg g
pp++ p + pp++ p +
VVG GG VG G G
NN N
夹断电压UP——使导电沟道完全
ss s
合拢(消失)所需要的栅源电压
uGS。
模拟电子技术场效应管放大器与功率电子电路
14
(2)漏源电压对沟道的控制作用
在漏源间加电压uDS ,令uGS =0 由于uGS =0,所以导电沟道最宽。
模拟电子技术场效应管放大器与功率电子电路
10
3、P沟道耗尽型MOSFET
P沟道MOSFET的工作原理与N沟道 MOSFET完全相同,只不过导电的载流子不同, 供电电压极性不同而已。这如同双极型三极管 有NPN型和PNP型一样。
模拟电子技术场效应管放大器与功率电子电路
11
4. MOS管的主要参数
(1)开启电压UT (2)夹断电压UP (3)跨导gm :gm=iD/uGS uDS=const (4)直流输入电阻RGS ——栅源间的等效
-
p+
p+
N
源 -极 s
模拟电子技术场效应管放大器与功率电子电路
13
完整版)模拟电子技术基础-知识点总结
完整版)模拟电子技术基础-知识点总结共发射极、共基极、共集电极。
2.三极管的工作原理---基极输入信号控制发射结电流,从而控制集电极电流,实现信号放大。
3.三极管的放大倍数---共发射极放大倍数最大,共集电极放大倍数最小。
三.三极管的基本放大电路1.共发射极放大电路---具有电压放大和电流放大的作用。
2.共集电极放大电路---具有电压跟随和电流跟随的作用。
3.共基极放大电路---具有电压放大的作用,输入电阻较低。
4.三极管的偏置电路---通过对三极管的基极电压进行偏置,使其工作在放大区,保证放大电路的稳定性。
四.三极管的应用1.放大器---将弱信号放大为较强的信号。
2.开关---控制大电流的通断。
3.振荡器---产生高频信号。
4.稳压电源---利用三极管的负温度系数特性,实现稳定的输出电压。
模拟电子技术复资料总结第一章半导体二极管一.半导体的基础知识1.半导体是介于导体和绝缘体之间的物质,如硅Si、锗Ge。
2.半导体具有光敏、热敏和掺杂特性。
3.本征半导体是纯净的具有单晶体结构的半导体。
4.载流子是带有正、负电荷的可移动的空穴和电子,是半导体中的两种主要载流体。
5.杂质半导体是在本征半导体中掺入微量杂质形成的半导体。
根据掺杂元素的不同,可分为P型半导体和N型半导体。
6.杂质半导体的特性包括载流子的浓度、体电阻和转型等。
7.PN结是由P型半导体和N型半导体组成的结,具有单向导电性和接触电位差等特性。
8.PN结的伏安特性是指在不同电压下,PN结的电流和电压之间的关系。
二.半导体二极管半导体二极管是由PN结组成的单向导电器件。
1.半导体二极管具有单向导电性,即只有在正向电压作用下才能导通,反向电压下截止。
2.半导体二极管的伏安特性与PN结的伏安特性相似,具有正向导通压降和死区电压等特性。
3.分析半导体二极管的方法包括图解分析法和等效电路法等。
三.稳压二极管及其稳压电路稳压二极管是一种特殊的二极管,其正常工作状态是处于PN结的反向击穿区,具有稳压的作用。
模拟电子技术(3)--场效应管及其基本放大电路
第3章 场效应管及其基本放大电路试卷3.1判断下列说法是否正确,用“√”和“ ”表示判断结果填入空内1. 结型场效应管外加栅源电压u GS应使栅源间的耗尽层承受反偏电压,才能保证其输入电阻R G大的特点。
( )2. 耗尽型MOS管在栅源电压u GS为正或为负时均能实现压控电流的作用。
( )3. 若耗尽型N沟道MOS管的栅源电压u GS大于零,则其输入电阻会明显变小。
( )4. 工作于恒流区的场效应管,低频跨导g m与漏极电流I DQ成正比。
( )5. 增强型MOS管采用自给偏压时,漏极电流i D必为零。
( )【解3.1】:1. √ 2.√ 3.× 4.× 5.√3.2选择填空1. 场效应管的栅-源之间的电阻比晶体管基-射之间的电阻 。
A.大 B.小 C.差不多2. 场效应管是通过改变 来改变漏极电流的。
所以是 控制型器件。
A.栅源电压 B.漏源电压 C.栅极电流D.电压 E.电流3. 用于放大时,场效应管工作在特性曲线的 。
A.可变电阻区 B.恒流区 C.截止区4. N沟道结型场效应管中参加导电的载流子是 。
A.自由电子和空穴 B.自由电子 C.空穴5. 对于结型场效应管,当︱u GS︱︱U GS(off)︱时,管子一定工作在 。
A.恒流区 B.可变电阻区 C.截止区 B.击穿区6. 当栅源电压u GS=0V时,能够工作在恒流区的场效应管有 。
A.结型场效应管 B.增强型MOS管 C.耗尽型MOS管7. 某场效应管的开启电压U GS(th)=2V,则该管是 。
A.N沟道增强型MOS管 B.P沟道增强型MOS管C.N沟道耗尽型MOS管 D.P沟道耗尽型MOS管8. 共源极场效应管放大电路,其输出电压与输入电压 ;共漏极场效应管放大电路,其输出电压与输入电压 。
A.同相 B.反相【解3.2】:1.A 2.A,D 3.B 4.B 5.C 6.A C 7.A 8.B,A3.3判断图T3.3所示各电路能否进行正常放大?如果不能,指出其中错误,并加以改正。
模拟电子技术第五章场效应管及其放大电路
况,称为预夹断。源区 而未夹断沟道部分为低阻,因
的自由电子在VDS电场力 的作用下,仍能沿着沟
此,VDS增加的部分基本上降落 在该夹断区内,而沟道中的电
道向漏端漂移,一旦到 场力基本不变,漂移电流基本
达预夹断区的边界处, 不变,所以,从漏端沟道出现
就能被预夹断区内的电 场力扫至漏区,形成漏
预夹断点开始, ID基本不随VDS
VDS = VD - VS =VDD-IDRD- VS
二、小信号模型
iD Kn vGS VT 2
Kn VGSQ vgs VT 2
漏极信号 电流
Kn VGSQ VT 2 2Kn VGSQ VT vgs Knvg2s
Kn
VGSQ
VT
2 gmvgs
K
nv
2 gs
IDQ id
3. 最大漏源电压V(BR)DS
指发生雪崩击穿时,漏极电流iD急剧上升时的vDS。与vGS有关。
4. 最大栅源电压 V(BR)GS
指PN结电流开始急剧增大时的vGS。
5.2 MOSFET放大电路
5.2.1 MOSFET放大电路
1. 直流偏置及静态工作点的计算 2. 小信号模型分析 3. MOSFET 三种基本放大电路比较
产生谐波或 非线性失真
λ= 0
λ≠ 0
共源极放大电路
例题5.2.4:
电路如图所示,设VDD=5V, Rd=3.9kΩ, VGS=2V, VT=1V, Kn=0.8mA/V2,λ=0.02V-1。试当管工作在饱和区时,试确定电路 的小信号电压增益。
例题5.2.5:
电路如图所示,设Rg1=150kΩ,Rg2=47kΩ,VT=1V,Kn=500μA/V2,λ=0, VDD=5V,-VSS=-5V, Rd=10kΩ, R=0.5kΩ, Rs=4kΩ。求电路的电压增益和 源电压增益、输入电阻和输出电阻。
电子电工学——模拟电子技术 第五章 场效应管放大电路
场效应管正常工作时漏极电流的上限值。
2. 最大耗散功率PDM
由场效应管允许的温升决定。
3. 最大漏源电压V(BR)DS 当漏极电流ID 急剧上升产生雪崩击穿时的vDS值。
4. 最大栅源电压V(BR)GS
是指栅源间反向电流开始急剧上升时的vGS值。
5.2 MOSFET放大电路
场效应管是电压控制器件,改变栅源电压vGS的大小,就可以控制漏极 电流iD,因此,场效应管和BJT一样能实现信号的控制用场效应管也 可以组成放大电路。
场效应管放大电路也有三种组态,即共源极、共栅极和共漏极电路。
由于场效应管具有输入阻抗高等特点,其电路的某些性能指标优于三极 管放大电路。最后我们可以通过比较来总结如何根据需要来选择BJT还
vGS<0沟道变窄,在vDS作用下,iD 减小。vGS=VP(夹断电压,截止电 压)时,iD=0 。
可以在正或负的栅源电压下工作,
基本无栅流。
2.特性曲线与特性方程
在可变电阻区 iD
Kn
2vGS
VP vDS
v
2 DS
在饱和区iD
I DSS 1
vGS VP
2
I DSS KnVP2称为饱和漏极电流
4. 直流输入电阻RGS
输入电阻很高。一般在107以上。
二、交流参数
1. 低频互导gm 用以描述栅源电压VGS对漏极电流ID的控制作用。
gm
iD vGS
VDS 常数
2. 输出电阻 rds 说明VDS对ID的影响。
rds
vDS iD
VGS 常数
3. 极间电容
极间电容愈小,则管子的高频性能愈好。
三、极限参数
D iD = 0
模拟电路场效应管及其基本放大电路
UGS(off)
信息技术学院
3. 特性
(1)转移特性
在恒流区
uGS 2 iD I DSS (1 ) U GS(off)
漏极饱 和电流
(U GS (off ) uGS 0)
夹断 电压
信息技术学院
(2)输出特性
iD f (uDS ) U GS 常量
IDSS g-s电压 控制d-s的 等效电阻
信息技术学院
P 沟道场效应管 D
P 沟道场效应管是在 P 型 硅棒的两侧做成高掺杂的 N 型区(N+),导电沟道为 P 型, 多数载流子为空穴。 d
P G
N+ 型 沟 道 N+
g
S
s 符号
信息技术学院
2. 工作原理
(1)栅-源电压对导电沟道宽度的控制作用
uDS=0
UGS(off)
沟道最宽 (a)uGS = 0
2)耗尽型MOS管
夹断 电压
信息技术学院
各类场效应管的符号和特性曲线
种类 结型 N 沟 道 符号 D 转移特性 ID /mA IDSS 漏极特性 UGS= 0V
ID
-
G
S D
UGS(off) O
UGS
O + + + ID O
o
UDS
ID
结型
P 沟 道
O UGS(off) UGS
G
IDSS
S D B
iD f (uGS ) U DS 常量
当场效应管工作在恒流区时,由于输出特性曲线可近似为横轴的一组平行 线,所以可用一条转移特性曲线代替恒流区的所有曲线。输出特性曲线的 恒流区中做横轴的垂线,读出垂线与各曲线交点的坐标值,建立uGS,iD坐 标系,连接各点所得的曲线就是转移特性曲线。
电子技术基础第三章场效应管及其放大电路幻灯片PPT
场效应管的学习方法
• 学习中不要把场效应管与双极型三极管割裂 开来,应注意比较它们的相同点和不同点。
• 场效应管的栅极、漏极、源极分别与双极型 三极管的基极、集电极、发射极对应。
• 场效应管与双极型三极管的工作原理不同,但 作用基本相同。
• 场效应管还可以当作非线性电阻来使用,而双 极型三极管不能。
• JFET是利用PN结反向电压对耗尽层厚度的控制, 来改变导电沟道的宽窄,从而控制漏极电流的大小。
• 预夹断前iD与vDS呈近似线性关系;预夹断后, iD趋于
饱和。
2021/5/24
思考:为什么JFET的输入电阻比BJT高得多?
场效应管的应用小结
• 一是当作压控可变电阻,即非线性电阻来使用, VGS的绝对值 越大,导电沟道就越窄,对应的导电沟道电阻越大,即电压VGS
2021/5/24
场效应管的分类
场效应管 FET
结型
JFET
IGFET ( MOSFET ) 绝缘栅型
N沟道 P沟道 增强型
耗尽型
2021/5/24
N沟道 P沟道 N沟道 P沟道
第二节 结型场效应管(JFET)的 结构和工作原理
一、结型场效应管的结构
二、结型场效应管的工作原理
三、结型场效应管的特性曲线 及参数
2021/5/24
(4.3) UGS = -1伏、UDS的值继续增加
当 UDS 继 续 增 加 时 , 两 边
PN 结 相 接 的 区 域 继 续 向 源极方向扩展,此时导电 沟道在靠近源极的区域依 然存在,导电沟道对应的 电阻比较小。漏极电流不
随UDS的增加而增加。
2021/5/24
(4.4)UGS = -1伏、UDS继续增加至出现PN结击穿
模电第三章 场效应管放大电路课件
场效应管放大电路
② 可变电阻区 vDS≤(vGS-VT) (
无法显示图像。计算机可能没有足够的内存以打开该图像,也可能是该图像已损坏。请重新启动计算机,然后重新打开该文件。如果仍然显示红色 “x”,则可能需要删除该图像,然后重新将其插入。
由于v 较小, 由于 DS较小,可近似为
无法显示图像。计算机可能没有足够的内存以打开该图像,也可能是该图像已损坏。请重新启动计算机,然后重新打开该文件。如果仍然显示红色 “x” ,则可能需要删除该图像,然后重新将其插入。
V-I 特性: 特性:
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FET 场效应管
耗尽型D 耗尽型 N沟道 沟道 P沟道 沟道
(耗尽型) 耗尽型)
增强型:场效应管没有加偏置电压时, 增强型:场效应管没有加偏置电压时,没有导电沟道 耗尽型:场效应管没有加偏置电压时, 耗尽型:场效应管没有加偏置电压时,就有导电沟道存在
场效应管放大电路
第四章 场效应管及其放大电路自测题-题
图8
模拟电子技术基础自测题
6
9、图 9 为某共源极 MOS 管放大电路, RG1 1M , RG2 47k , RG 10M,
RS 2k , RD 20k ,电源VDD 12V ,其中场效应管为 N 沟道耗尽型,参数为
穷大。 (1) 试画出该电路的直流通路和交流通路。 (2) 计算该电路的输入电阻、输出电阻和电压增益 AV i VO Vi 。
图7
8 、 下 图 为 共 漏 极 MOS 管 放 大 电 路 , RG1 RG2 100k , RG 200k ,
RS RL 20k ,电源VDD 12V , FET 参数 gm 2mS , rd s 视为无穷大。
为何种类型的场效应晶体
管
,它对应的开启(阈值)
6
电压VGSth =
种类型的场效应晶体管
。②号曲线对应为何 ,
iD / mA
3
①
2 ②
1
它对应的电流 I DSS =
。(注: I DSS 为
VGS 0且VGD VGSoff 时的漏极电流)。
-1 0 1 2 vGS / V
ID/mA VGS/V
模拟电子技术基础自测题
(2) 设漏极与栅极间电阻 rd s 可忽略,求出该电路中频段的电压增益、输入电阻及
输出电阻。
图6
模拟电子技术基础自测题
5
7、图 7 为共栅极 MOS 管放大电路,RG 1k ,RD RL 10k ,电源VDD 12V ,
其中场效应管为 N 沟道 DMOSFET,参数为 gm 2mS ,漏极与栅极间电阻 rd s 无
模电总结复习-模拟电子技术基础
模电复习资料第一章半导体二极管一.半导体的基础知识1.半导体---导电能力介于导体和绝缘体之间的物质(如硅Si、锗Ge)。
2.特性---光敏、热敏和掺杂特性。
3.本征半导体----纯净的具有单晶体结构的半导体。
4. 两种载流子----带有正、负电荷的可移动的空穴和电子统称为载流子。
5.杂质半导体----在本征半导体中掺入微量杂质形成的半导体。
体现的是半导体的掺杂特性。
*P型半导体:在本征半导体中掺入微量的三价元素(多子是空穴,少子是电子)。
*N型半导体: 在本征半导体中掺入微量的五价元素(多子是电子,少子是空穴)。
6. 杂质半导体的特性*载流子的浓度---多子浓度决定于杂质浓度,少子浓度与温度有关。
*体电阻---通常把杂质半导体自身的电阻称为体电阻。
*转型---通过改变掺杂浓度,一种杂质半导体可以改型为另外一种杂质半导体。
7. PN结* PN结的接触电位差---硅材料约为~,锗材料约为~。
* PN结的单向导电性---正偏导通,反偏截止。
8. PN结的伏安特性二. 半导体二极管*单向导电性------正向导通,反向截止。
*二极管伏安特性----同PN结。
*正向导通压降------硅管~,锗管~。
*死区电压------硅管,锗管。
3.分析方法------将二极管断开,分析二极管两端电位的高低:若 V阳 >V阴( 正偏 ),二极管导通(短路);若 V阳 <V阴( 反偏 ),二极管截止(开路)。
1)图解分析法该式与伏安特性曲线的交点叫静态工作点Q。
2) 等效电路法➢直流等效电路法*总的解题手段----将二极管断开,分析二极管两端电位的高低:若 V阳 >V阴( 正偏 ),二极管导通(短路);若 V阳 <V阴( 反偏 ),二极管截止(开路)。
*三种模型➢微变等效电路法三. 稳压二极管及其稳压电路*稳压二极管的特性---正常工作时处在PN结的反向击穿区,所以稳压二极管在电路中要反向连接。
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而场效应管比晶体管的温度稳定性好、抗辐射能力强。所以
在环境条件变化很大的情况下应选用场效应管。 (3)场效应管的噪声系数很小,所以低噪声放大器的输
入级及要求信噪比较高的电路应选用场效应管。当然也可选
用特制的低噪声晶体管。
(4)场效应管的漏极与源极可以互换使用,互换后特 性变化不大。而晶体管的发射极与集电极互换后特性差异
VDD
VGSQ VGQ VSQ
vO1 / V
2VT vGS
vGS 1 vGS VT
f
Rg1 Rg1 Rg 2
VDD I DQ RS
( 1)
I DQ I DO (
vi
VGSQ VT
vI 2
1) 2
( 2)
( 3)
vO 2 ) /V VDSQ VDD I DQ ( Rs R d
vO1
例3.2.1 在如图所示电路中,已知VDD=15V,Rg1=150kΩ, Rg2=300kΩ, Rg3=1MΩ, Rd= RL=5kΩ,Rs=0.5kΩ,MOS 管的VT=2V, IDO=2mA 。 试求解: (1)电路的静态工作点;R (2)电路的电压放大倍数、输入 电阻和输出电阻;
2
vI
vO 2 vGS vGS
大到一定 值才开启
2
VT 2 v i
反型层 耗尽层 (a)耗尽层的形成
R1
(b)导电沟道的形成
vi / V 空穴
fH vGS增大,反型层(导电沟道)将变厚变长。当反型 层将两个N区相接时,形成导电沟道。 vGS 称为开启电压, 使导电沟道刚刚形成的栅源电压 vO 2 / V
vO1 / V
vGS
fH
f
V
VT 1
vi
vi
f
R2
vGS
vO 2
vI
vi
N
fL
VT 2
VT 1
V v2 R1 P
vGS
v2
vi / V
vO 2 / V vi
fH
v DS
f
vI 2
vO 2 / V vO1 / V vi
VZ
3.1.2 绝缘栅场效应管
绝缘栅型场效应管的栅极与源极、栅极与漏极之间均采用 SiO2绝缘层隔离,因此而得名。 又因为绝缘栅型场效应管中各电极为金属铝,绝缘层为氧化 物,导电沟道为半导体,故又称为金属—氧化物—半导体场 效应管,简称为MOS管—Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)。
解:(1)
VGSQ VGQ VSQ
vi
vo
Rg1 Rg1 Rg 2
V I DQ RS 1 v DDR
2
150 2 0.5 I 15v DQ 5 0.5 I DQ 150 300
( 1)
VT
I DQ I DO (
VGSQ
VDSQ
VT 2 VDD I DQ ( Rs Rd ) 15 .5 I DQ vO5 1 /V
VGS(off)
vGS 0
沟道最宽
VP vGS 0
vGS VP
沟道变窄
沟道消失 称为夹断
夹断电压常用 VGS (off ) 或 VP 表示。
(2)vDS 对导电沟道宽度及漏极电流iD 的影响 设 vGS 为固定值,且 VP vGS 0 。
vGD>VP
vGD vGS vDS
vi
2VT vGS
vGS 1 vGS 1 vGS VT vGS V
vO1 / V v i
iD I DO (
vGS 1) 2 VT
v 2 I DO ( GS 1) VT VT
2 iD I DO VT I DO
vGS iD 2 ( 1) VT I DO
v iD ( GS 1) VT I DO
N沟道结型场效应管 结型场效应管 P沟道结型场效应管 N沟道增强型MOS管 场效应管分类: 增强型MOS管 P沟道增强型MOS管 绝缘栅场效应管( MOS管) N沟道耗尽型MOS管 耗尽型 MOS 管 P沟道耗尽型MOS管
是指漏源间所能承受的最大电压。
(4)最大栅源电压V( BR)GS
是指栅源间所能承受的最大电压。
3.1.4 场效应管与晶体三极管的比较
(1)场效应管是电压控制器件,用栅源电压控制漏极电 流。栅极基本不取电流,输入电阻很高。而晶体管工作时需 要信号源为基极提供一定的电流,输入电阻较小。因此,要 求输入电阻高的电路应选用场效应管,如果信号源可以提供 一定的电流,可选用晶体管。 (2)场效应管只有多子参与导电,晶体管内既有多子又 有少子参与导电,而少子受温度、辐射等因素影响较大,因
-
vGS 2VT
VDSQ VDD I DQ ( Rs Rd ) (3)
vGS 2 vGS 1 vGS VT
VT
2VT vGS
f
vO1 / V
vi
vI 2
vi
2.分压式偏置电路
R2
vi
R1
vo
vGS 2VT
fL
vGS 2
VGQ VA
VT
Rg1 Rg1 Rg 2
VT 1
vDS
夹断电压
不同型号的管子VP、IDSS将不同。
vO1
(2)转移特性
vi
iD f (vGS ) vDS 常数
vi
场效应管工作在恒流区,因而vGS>VP且vGD<VP。
vDS vGS VP
f
漏极饱 和电流
N
夹断 电压
VP
vGS 2 iD I DSS (1 ) VP f v
i
L
用VT表示,有时也用 VGS(th)表示。 vi
② vDS 对导电沟道宽度及漏极电流 iD 的控制作用 设 vGS VT 且为定值。
vDS 0时, iD 0
vDS vGS VT时,iD随vDS 变化
刚出现夹断
vDS vGS VT时,产生预夹断
vDS vGS VT时,iD饱和
vi
vGS 1 v GS 1 (b)转移特性 v VT vGS VT GS
f
/V
vO1 / V v i
2.N沟道耗尽型MOS管
小到一定 值才夹断
vGS=0时就存在 导电沟道
加正离子
耗尽型MOS管在 vGS>0、 vGS <0、 vGS =0时均可导 通,且与结型场效应管不同,由于SiO2绝缘层的存在,在 vGS>0时仍保持g-s间电阻非常大的特点。
第3章 场效应管及其放大电路
3.1 3.2 场效应管 场效应管放大电路
3.1 场效应管
场效应管也称单极型晶体管∶具有噪声小、抗辐射能力强、 输入阻抗高等优点。
场效应管有三个极:源极(s)、栅极(g)、漏极(d), 对应于晶体管的e、b、c;
有三个工作区域:截止区、恒流区、可变电阻区,对应于 晶体管的截止区、放大区、饱和区。
vGS vDS VP
vDS vGS VP
vGS>VP且不变,VDD增大,iD增大。
vGD=VP 预夹断
vDS vGS VP
vGD=VP 预夹断
vDS vGS vGS VP
VDD的增大,几乎全部用来克服沟道的 电阻,iD几乎不变,进入恒流区,iD几乎 仅仅决定于vGS。
很大,因此只在特殊需要时才互换。
(5)场效应管比晶体管的种类多,特别是耗尽型MOS 管,栅源电压可正、可负、可为零,均能控制漏极电流。
因而在组成放大电路时比晶体管有更大的灵活性。
(6)场效应管和晶体管均可用于放大电路和开关电路, 它们均可构成品种繁多的集成电路。但由于场效应管集成
工艺更简单,且具有功耗小、工作电源电压范围宽等优点,
(4)直流输入电阻 RGS ( DC )
结型管的 RGS ( DC )大于 10 Ω, 9 10 R MOS管的 GS ( DC )大于 Ω。
7
2.交流参数 (1)低频跨导 g m
iD gm vGS
vDS 常量
(2)输出电阻 rds (3)极间电容
vDS rds iD
vGS 常量
3.1.1 结型场效应管
N 沟 道 结 符号 型 () 场 效 应 管
vO1 / V
结构示意图
栅极 v
O1
漏极
P 沟 道 结 型 场 效 应 管
导电 沟道
R2
vi
源极
vO 2
vI
vO1 / V
P
N
vi
v2 R1 v2
VT
vi / V
(c )
1. 工作原理 (1) vGS 对导电沟道宽度及漏极电流 iD 的控制作用
vGD VT
iD几乎仅仅受控于vGS
vGS的增大几乎全部用 来克服夹断区的电阻
(2)特性曲线和电流方程
R2
vGS
vGS
I
开启 电压
vT vGS 2V GS 2VT vGS 2
2
R1
v DS / V
v DS / V
vGS 2
(a)输出特性
VT
VT 2VT vGS 2VT v GS
vGS 2 i I ( 1 ) 电流方程: D DO VT
3.1.3 场效应管的主要参数 1.直流参数 (1)开启电压 VT 是增强型MOS管的参数。是使漏极电流大于零 所需要的最小栅源电压。 (2)夹断电压 VP (VGS (off ) ) 是结型场效应管和耗尽型MOS管的参数。 (3)饱和漏电流 I DSS 是结型场效应管和耗尽型MOS管的参数。 当栅源电压等于零,而漏源电压大于夹断电压时 的漏极电流,称为饱和漏极电流。