EDI设备的化学清洗及再生讲解
新建EDI工艺的化学清洗与对冲!
EDI工艺的化学清洗与对冲！EDI电除盐工艺相对混合离子交换工艺是一种新技术，它的电再生工艺和清洗方法，国内还没有很成熟的技术，某发电厂三期水处理EDI装置自2006年6月投运以来，由于各项指标控制严格，运行情况基本良好。
但是，因为水处理原水采用循环冷却排污水，城市中水其水质较差，含盐量、有机物、细菌含量较高。
再加上设备长期的连续运行和来水水质不稳定等原因，直接影响到化学的预处理和全膜脱盐处理的正常运行，给膜工艺处理增加了处理难度。
RO（反渗透）的化学清洗由原来的6个月清洗一次增加到3个月清洗一次。
EDI装置的产水量和脱盐率也有不同程度的下降。
其中，2006～2009年由于EDI 装置的连续长期运行，产水量由原来的单套50 t/h下降到42 t/h。
同时进出水压差明显增大，进水压力有初启动的0.25MPa上升到0.5 MPa左右。
直接影响到设备的安全运行和机组的正常供水。
针对这一现象，进行了全方位的取样化验分析论证，在取得第一手判断数据后，先后联系并配合EDI厂家对EDI装置进行了系统对冲、化学清洗和强电流电压再生。
经处理后的EDI装置，系统的压力、压差、流量和各项控制指标恢复到初投运的规定值，系统运行恢复正常良好。
1 EDI膜块的污堵、污染与结垢1.1 EDI膜元件污堵、污染及结垢原因，某发电厂采用全厂6台机组循环冷却水排污水和城市中水做为水处理的水源，来水电导率不稳定，一般在1 500～3 800 μS/cm之间，循环水浓缩倍率是地表水（黄河水）的3～4倍，水中有机物和细菌含量及各种杂质都比较高。
如果前期系统和予处理控制不好很容易造膜元件污堵、污染与结垢。
如果运行中各项指标及加药参数控制不当也会造成膜的污染。
1.2 EDI膜元件受到污堵、污染及结垢的不同处理方式由于我厂水处理水源采用的水质不同，水质每天的变化都有较大的波动，再加上不同的季节用水不同，水的温度对膜元件的运行有很高的要求，另外，循环冷却水需要定期加入杀菌灭藻剂。
EDI清洗步骤
EDI装置清洗步骤：清洗装置：可以和RO 机共用一套清洗系统，也可单独为其配备一套清洗系统。
所需设备和附件：1．泵：流量为系统产水量的30%，压力30psi(0.2MPa)2．清洗过滤器：通量与EDI 设备的流量相同，精度1微米。
3．清洗水箱：材质：PE，容积：可根据设备大小配备。
4．UPVC 管接件和PE 软管对于浓水侧结垢的清洗2%的强酸溶液，这是较有效，同时腐蚀性也最强的清洗液。
使用去离子水配置，37%分析纯HCl溶液。
酸液的配制方法：2%盐酸（HCI）溶液（以100 升清洗箱为例）①．去离子水100L（可用RO 产品水）②．37%盐酸（分析纯）5.4 公斤③．配制成2%的强酸溶液（应完全混合）调制PH=2 左右。
注：混合酸的安全方法：切记要先将水加入到溶器中然后再加入酸。
清洗过程：1)按系统图纸，连接清洗管路。
2)启动清洗泵，调节浓(极)水流量为系统产水量的20%左右。
3)测量并记录通过浓(极)水室的水流量和压力降。
4)不要将酸打入淡水室，否则需用很长的运行时间来再生树脂。
5)用泵使清洗液循环清洗EDI30min，然后停泵用清洗液浸泡EDI5分钟以上。
6)当EDI内清洗液消耗完时，再次配制清洗液。
7)在清洗箱中装满去离子水，然后用泵来冲洗残留的清洗液。
8)更换箱中去离子水，直到冲洗出水的pH在日常运行的范围内。
9)此时测定并记录压力降、流量、pH。
10)将清洗临时管路断开，恢复原样（如果还需要碱洗EDI 设备，这一步骤可不要，直接配碱液）。
11)启动供水泵，继续冲洗至出口水比入口水小于30μS/cm，注意：以上步骤必须在断电情况下进行！12)启动电源。
13)在再生模式下运行EDI，直到离子进出平衡。
14)在标准模式下运行EDI，直到出水品质恢复到正常水平。
注：不要向淡水室注入酸液，否则树脂将需要很长的再生时间。
如果酸液进入淡水室，冲洗需要6-8 小时，同时要花费近16 个小时来再生EDI 并达到等同的产水品质。
多晶硅EDI设备清洗方案
多晶硅E D I设备清洗方案-CAL-FENGHAI-(2020YEAR-YICAI)_JINGBIANEDI设备清洗方案一、EDI的清洗方法：根据EDI的运行状态，EDI的清洗采用酸洗—消毒—碱洗的方法来清洗EDI模块。
1.清洗时，EDI的淡水室、浓水室和极水室都需要清洗。
即清洗液从“原水进”和”浓水进”清洗口进入EDI，从“产水”、“浓水出”、“极水出”回到清洗水箱。
(正洗)2.第一步酸洗：清洗水箱中配制% 盐酸溶液，循环30分钟。
冲洗：清洗水箱中酸洗液放掉后，将水箱中水冲洗至中性，然后将清洗进和回流管清洗到回流水至中性。
第二步消毒碱洗：水箱中配制% NaOH+%NaCL 的溶液，循环50分钟。
冲洗：清洗水箱中消毒液放掉后，清洗EDI至水箱中回流水至电导率降至100μs/cm以下。
警告：清洗过程中清洗压力最高不超过，膜块的电源禁止供电，清洗所需用水必须是RO或者EDI系统的产水。
二、清洗步骤：1.准备1)关闭EDI。
停止EDI运行，确定EDI模块的电源已被切断并把整流器转换钮转到“关闭”位置。
2)关闭下列阀门：原水进水阀、淡水产水阀、淡水冲洗排放阀、极水排放阀、浓水排放阀、浓水循环泵进出口阀。
3)将清洗水箱和相关的清洗管道清洗干净。
4)连接清洗管道。
把淡水产水、浓水排放、极水排放的清洗管线直接连接到清洗水箱上。
把原水进水、浓水进水清洗管线连接到EDI 系统的原水进水和浓水进水清洗接口上。
注意清洗管线必须牢固、紧密，以防止化学药品的喷溅。
2、浓水室酸洗1)约剂配制：在清洗水箱中注入大约1500L的反渗透产水作为溶剂，然后向其中缓缓加入大约60L (或73kg)37％的盐酸搅拌均匀配制成约%的盐酸溶液。
2)酸洗步骤(1)将清洗水泵出口软管连接到EDI系统浓水进口，EDI系统浓水出口用软管连接回流到清洗水箱，同时关闭EDI装置本身循环系统的进出阀门来避免药剂进入循环泵；(2)启动清洗泵以15m3/h（正常运行流速的一半）的流速循环清洗15分钟后停止清洗泵并关闭相应阀门让药剂在浓水室内浸泡15分钟左右，再次启动清洗泵循环清洗15分钟左右；(3)停止清洗并排净清洗箱和清洗泵；(4)浓水室冲洗：在清洗水箱中注入大约3000L反渗透水，启动清洗泵冲洗EDI浓水室，清洗流速约为15 m3/h（正常运行流速的一半），边冲洗边排放直到出水PH值接近7为止。
EDI设备的化学清洗及再生
EDI设备的化学清洗及再生膜块堵塞的原因主要有下面几种式：o 颗粒/胶体污堵o 无机物污堵o 有机物污堵o 微生物污堵清洗方法时间（分）备注酸洗30-50碱洗30-50盐水清洗35-60消毒25-40冲洗≥50再生≥120 根据系统的工艺要求直至达到出水电阻率要求指标单个膜块清洗时药液配用量型号药液配用量（升）备注MX-50 50 1. 酸洗温度15-25℃2. 碱洗温度25-30℃3. 配药液用水必须是RO产水或高于RO产水的去离子水MX-100 80MX-200 110MX-300 150•对于膜块数量大于1块时，按表中配液的数量乘以膜块数量EDI膜块的再生o 确认EDI膜块内没有任何的化学药品残留存在。
o 使系统构建成一个闭路自循环管路。
o 按照正常运行的模式调节好所有的流量和压力。
o 给EDI送电，调节电流从2A开始分步缓慢向EDI加载电流（最大不能超过4A）。
o 直至产水电阻率达工艺要求到或者≥12MΩ.cmo 提示：膜块的再生是一个比较长的时间，有时可能会长达10-24小时甚至更长的时间。
EDI运行维护注意事项注意:试车、操作及维护前,请详阅EDI厂家所提供操作维护手册. 本注意事项仅提醒使用者於试车、操作及维护时需要特别注意之事项,详细操作维护内容请详阅EDI厂家所提供操作维护手册.一、进流水质要求与必要之附属设备(一)进流水质要求: 前处理系统一定要有RO 系统,且要确保RO 系统操作正常. 进流水质最低要求如下:1 导电度(包括SiO2 及CO2) μs/cm < 402 温度℃5 - 453 压力Psi 20-1004 自由余氯(Cl2) ppm < 0.025 铁(Fe)、锰(Mn) ppm < 0.016 硫化物(S- ) ppm < 0.017 pH 4-118 总硬度(as CaCO3) ppm < 1.09 二氧化硅(SiO2) ppm < 1.010 总有机碳(TOC) ppm < 0.5备注: 1. 导电度计算方式=导电度计测量之导电度+2.66xCO2 浓度(ppm as CO2)+1.94xSiO2(ppm as SiO2)2. 启动初期应特别注意进流硬度、二氧化硅浓度,应避免超过1.0ppm.(二)附属设备：为了保护模块及便利后续系统监测,强烈建议EDI 系统应至少包括下列附属设备:1. 稳定的电源供应设备：为了维持系统操作稳定,电源供应系统应供给稳定的直流电源给模块,且系统能在定电流模式下操作(V=IR, 亦即设定电流(I)后,电流并不会随进流水质改变,进流水质改变仅会影响电阻(R)及电压(V)).2. 流量开关或流量控制设备：为了保护模块,当没有水进入模块时, 模块电源必须马上被关闭,流量开关需与电源供应连动.3. 压力计：应至少於进流端与产水、浓缩水出水端设置压力计,以监测进出水压力.4. 进出水流量计：方便调整产水率.可使用附控制点之流量计(可作为流量开关使用).5. 系统控制(PLC 控制)：系统除了控制没水进入时之断电装置外,亦应控制在进流水进入一段时间后,若电源仍无供应,应停止进流(例如泵启动30 秒后(视泵至EDI 距离调整时间),若电源仍无供应, 则应关闭泵,并发出警报),以避免EDI 膜堆内树脂饱和,影响后续产水水质。
EDI工作原理
EDI工作原理EDI（Electrodeionization）即电极离子交换，是一种利用电场和离子交换树脂结合的技术，用于去除水中的离子和溶解性固体。
它是一种高效、节能、无化学品添加的水处理技术，广泛应用于电子、制药、化工、电力等行业。
EDI工作原理主要包括三个步骤：预处理、电离和再生。
1. 预处理在EDI系统中，水首先经过预处理单元，包括颗粒过滤器、活性炭过滤器和软化器等。
这些预处理设备用于去除水中的悬浮物、有机物、硬度离子等杂质，以保护EDI模块的正常运行。
2. 电离经过预处理后的水进入EDI模块，EDI模块由阳离子交换膜、阴离子交换膜和离子交换树脂层交替排列而成。
当水通过EDI模块时，外加电场使得水中的离子向交换膜移动。
阳离子交换膜选择性地吸附阳离子，阴离子交换膜选择性地吸附阴离子，而离子交换树脂层则吸附剩余的离子。
在EDI模块中，阳离子交换膜和阴离子交换膜之间形成了电离区域。
在电离区域中，水分解产生氢离子和氢氧根离子，即H+和OH-离子。
这些离子通过交换膜逐渐移动到离子交换树脂层。
3. 再生随着离子的吸附，EDI模块中的离子交换树脂层逐渐饱和。
为了恢复EDI模块的工作能力，需要进行再生。
再生过程主要包括两个步骤：电解再生和水洗再生。
电解再生是通过反向电场，将吸附在离子交换树脂上的离子排除出去。
这样，离子交换树脂就恢复了吸附离子的能力。
水洗再生是用纯水冲洗EDI模块，去除残留的离子和杂质。
EDI系统的优势：1. 高纯水产率：EDI系统能够高效地去除水中的离子，产生高纯度的水。
2. 无需化学品：EDI系统不需要添加任何化学品，避免了化学品的使用和处理过程。
3. 节能环保：EDI系统不需要热再生，相比传统的离子交换技术节能约50%。
4. 操作简便：EDI系统自动化程度高，操作简便，减少了人工干预的需求。
5. 占地面积小：EDI系统结构紧凑，占地面积相对较小。
总结：EDI工作原理是利用电场和离子交换树脂的结合，去除水中的离子和溶解性固体。
EDI设备的化学清洗及再生讲解
EDI设备的化学清洗及再生膜块堵塞的原因主要有下面几种式：o颗粒/胶体污堵o无机物污堵o有机物污堵o微生物污堵清洗方法时间（分）备注酸洗30-50碱洗30-50盐水清洗35-60消毒25-40冲洗≥50再生≥120根据系统的工艺要求直至达到出水电阻率要求指标单个膜块清洗时药液配用量型号药液配用量（升）备注MX-50501.酸洗温度15-25℃2.碱洗温度25-30℃3.配药液用水必须是RO产水或高于RO产水的去离子水MX-10080MX-200110MX-300150•对于膜块数量大于1块时，按表中配液的数量乘以膜块数量EDI膜块的再生o确认EDI膜块内没有任何的化学药品残留存在。
o使系统构建成一个闭路自循环管路。
o按照正常运行的模式调节好所有的流量和压力。
o给EDI送电，调节电流从2A开始分步缓慢向EDI加载电流（最大不能超过4A）。
o直至产水电阻率达工艺要求到或者≥12MΩ.cmo提示：膜块的再生是一个比较长的时间，有时可能会长达10-24小时甚至更长的时间。
EDI运行维护注意事项注意:试车、操作及维护前,请详阅EDI厂家所提供操作维护手册.本注意事项仅提醒使用者於试车、操作及维护时需要特别注意之事项,详细操作维护内容请详阅EDI厂家所提供操作维护手册.一、进流水质要求与必要之附属设备(一)进流水质要求:前处理系统一定要有RO系统,且要确保RO系统操作正常.进流水质最低要求如下:1导电度(包括SiO2及CO2)μs/cm<402温度℃5-453压力Psi20-1004自由余氯(Cl2)ppm<0.025铁(Fe)、锰(Mn)ppm<0.016硫化物(S-)ppm<0.017pH4-118总硬度(as CaCO3)ppm<1.09二氧化硅(SiO2)ppm<1.010总有机碳(TOC)ppm<0.5备注: 1.导电度计算方式=导电度计测量之导电度+2.66xCO2浓度(ppm as CO2)+1.94xSiO2(ppm as SiO2)2.启动初期应特别注意进流硬度、二氧化硅浓度,应避免超过1.0ppm.(二)附属设备：为了保护模块及便利后续系统监测,强烈建议EDI 系统应至少包括下列附属设备:1.稳定的电源供应设备：为了维持系统操作稳定,电源供应系统应供给稳定的直流电源给模块,且系统能在定电流模式下操作(V=IR,亦即设定电流(I)后,电流并不会随进流水质改变,进流水质改变仅会影响电阻(R)及电压(V)).2.流量开关或流量控制设备：为了保护模块,当没有水进入模块时,模块电源必须马上被关闭,流量开关需与电源供应连动.3.压力计：应至少於进流端与产水、浓缩水出水端设置压力计,以监测进出水压力.4.进出水流量计：方便调整产水率.可使用附控制点之流量计(可作为流量开关使用).5.系统控制(PLC控制)：系统除了控制没水进入时之断电装置外,亦应控制在进流水进入一段时间后,若电源仍无供应,应停止进流(例如泵启动30秒后(视泵至EDI距离调整时间),若电源仍无供应,则应关闭泵,并发出警报),以避免EDI膜堆内树脂饱和,影响后续产水水质。
edi化学清洗流程
edi化学清洗流程EDI化学清洗流程一、引言化学清洗是指通过化学反应来去除或分解杂质、污染物等的过程。
EDI（Electrodeionization）即电极离子交换技术，是一种通过电场作用将水中的离子从水溶液中分离出来的技术，常用于水质处理和纯化过程中。
本文将介绍EDI化学清洗流程的具体步骤和注意事项。
二、EDI化学清洗流程1. 准备工作在进行EDI化学清洗前，需要进行一些准备工作。
首先，需要关闭EDI设备的进水和出水阀门，并将电源断开。
接着，需要排空EDI 设备中的水，并清除设备内可能存在的杂质和污染物。
此外，还需要检查EDI设备的运行状态和相关设备的连接情况，确保设备正常运行。
2. 制备清洗液制备清洗液是进行EDI化学清洗的关键步骤。
清洗液的配制需要根据具体的清洗目的和污染物种类来确定。
常用的清洗液包括酸性清洗液、碱性清洗液和氧化剂清洗液等。
在配制清洗液时，需要按照一定的比例将清洗剂和纯水混合，同时注意搅拌均匀，以确保清洗液的浓度和均匀性。
3. 清洗过程进行EDI化学清洗时，需要按照一定的步骤进行操作。
首先，将制备好的清洗液注入EDI设备中，并确保液位覆盖清洗膜。
接着，打开EDI设备的进水阀门，让清洗液均匀地流过清洗膜，进行清洗作用。
清洗时间的长短可以根据实际情况进行调整，一般建议清洗时间为1-2小时。
4. 清洗后处理清洗结束后，需要对EDI设备进行后续处理。
首先，关闭EDI设备的进水阀门，将清洗液排出。
然后，打开EDI设备的出水阀门，用纯水进行冲洗，以去除残留的清洗剂和杂质。
冲洗时间一般为30分钟左右。
最后，关闭EDI设备的出水阀门，并将电源接通，使设备恢复正常运行。
5. 检测和验证进行EDI化学清洗后，需要对清洗效果进行检测和验证。
常用的检测方法包括测量EDI设备的产水质量、测量设备的电导率和pH值等。
通过对清洗后的水质进行分析，可以评估清洗效果是否达到预期的要求。
如果清洗效果不理想，可以根据实际情况进行调整和再次清洗。
水处理设备超滤、RO、EDI在线化学清洗方案步聚资料
超滤系统在线清洗方案一、清洗方案根据超滤系统目前的运行情况、与超滤厂家的建议，本次保养性清洗，采用先次氯酸钠（或氯锭）、氢氧化钠碱洗，后草酸洗的清洗方案。
二、清洗工艺流程清洗水箱(5m3)→清洗泵→清洗保安过滤器→反超滤系统→清洗药液箱。
三、清洗药剂（单套用量）碱洗：1、氯锭（100ppm）1-2公斤2、氢氧化钠8-10公斤（调节PH）3、RO水4、pH=11-135、温度：30℃-35℃酸洗：1、草酸 50公斤2、RO水3、pH=1-3（以pH为准）4、温度：30℃-35℃四、清洗过程(以清洗#1超滤为例)(一)、清洗准备——清洗系统检查、清洗1、记录清洗前系统运行数据。
2、检查清洗系统：清洗水箱（启动反渗透系统，注水进清洗水箱，自循环排放式清洗，直至水箱排水清澈）、保安过滤器、加温系统、清洗水泵、清洗管路等，保证系统清洁、通畅。
系统清洗完毕后，关闭超滤所有阀门。
打开超滤清洗水进口阀（运行时关闭）、超滤清洗浓水手动阀（运行时关闭）、超滤清洗产水手动阀（运行时关闭）。
3、使用RO产水模拟系统清洗。
清洗药箱放入RO产水1.5m，将清洗水箱RO 水打入超滤系统清水循环。
流程：水箱→清洗水泵→清洗保安过滤器→#1超滤清洗水进口阀→#1超滤本体系统→#1超滤清洗浓（产）水手动阀→清洗水箱。
(二)、碱洗1、清洗过程中要记录系统相关数据。
2、在使用RO产水模拟系统清洗正常后。
配制清洗液：配置100ppm的氯锭（WHL-502杀菌剂），使用氢氧化钠调节pH到11-13，温度：30-35℃。
3、清洗步骤(控制清洗液温度在30-35℃)1）打第一个2h循环。
每隔20min记录清洗液pH值、温度、颜色的变化，以适当的配比增加氢氧化钠等药剂，使碱洗清洗液的pH＝11-13，清洗流速由清洗水泵控制（流量约100t/h，出口压力1.5Kg/cm2以下）。
2）浸泡1h。
3）重复（1）-（2）二到三次（轮流开合超滤清洗产水手动阀）。
EDI膜堆的清洗方案
EDI膜堆的清洗方案EDI设备的化学清洗及再生虽然EDI膜块的进水条件在很大的程度上减少了膜块内部阻塞的机会，但是随着设备运行时间的延展，EDI膜块内部水道还是有可能产生阻塞，这主要是EDI进水中含有较多的溶质，在浓水室中形成盐的沉淀。
如果进水中含有大量的钙镁离子（硬度超过0.8ppm）、CO2 和较高的 pH 值，将会加快沉淀的速度。
遇到这种情况，我们可以通过化学清洗的方法对EDI 膜块进行清洗，使之恢复到原来的技术特性。
维修EDI模块或者采购EDI模块就找湖南凯聚达科技有限公司通常判断 EDI 膜块被污染堵塞可以从以下几个方面进行评估判定：1、在进水温度、流量不变的情况下，进水侧与产水侧的压差比原始数据升高 45%。
2、在进水温度、流量不变的情况下，浓水进水侧与浓水排水侧的压差比原始数据升高45%。
3、在进水温度、流量及电导率不变的情况下，产水水质（电阻率）明显下降。
4、在进水温度、流量不变的情况下，浓水排水流量下降35%。
膜块堵塞的原因主要有下面几种形式：颗粒/胶体污堵；无机物污堵；有机物污堵；微生物污堵。
（EDI 清洗注意：在清洗或消毒之前请先选择合适的化学药剂并熟悉安全操作规程，切不可在组件电源没有切断的状态下进行化学清洗。
）详细如下：1、颗粒/胶体污堵进水颗粒度≥5μm时会造成进水流道堵塞，引起膜块内部水流分布不均匀，从而导致膜块整体性能降低。
如果EDI膜块的进水不是直接由 RO 产水端进入 EDI 膜块，而是通过RO 产水箱经过增压泵供水，建议在进入EDI膜块前端增设保安过滤器（≤0.2μm）。
在组装EDI设备时，所有的连接管道系统应冲洗干净以预防管道内的颗粒杂质进入膜块。
2、无机物污堵如果 EDI 进水含有较多的溶质且超出设计值或者回收率超过设计值时,将导致浓水室和阴极室的结垢，生成盐类物质析出沉淀，通常结垢的类型为钙、镁离子生成的碳酸盐。
即便这类物质的浓度很小，接触时间也很短，但随着运行时间的累加，仍有发生结垢的可能，这种硬度结垢很容易通过酸洗去除。
EDI膜块的化学清洗及再生方法
EDI膜块的化学清洗及再生方法EDI膜块的化学清洗及再生方法：虽然EDI膜块的进水条件在很大的程度上减少了膜块内部阻塞的机会，但是随着设备运行时间的延展，EDI膜块内部水道还是有可能产生阻塞，这主要是EDI进水中含有较多的溶质，在浓水室中形成盐的沉淀。
如果进水中含有大量的钙镁离子（硬度超过0.8ppm）、CO2和较高的pH值，将会加快沉淀的速度。
遇到这种情况，我们可以通过化学清洗的方法对EDI膜块进行清洗，使之恢复到原来的技术特性。
通常判断EDI膜块被污染堵塞可以从以下几个方面进行评估判定：1、在进水温度、流量不变的情况下，进水侧与产水侧的压差比原始数据升高45%。
2、在进水温度、流量不变的情况下，浓水进水侧与浓水排水侧的压差比原始数据升高45%。
3、在进水温度、流量及电导率不变的情况下，产水水质（电阻率）明显下降。
4、在进水温度、流量不变的情况下，浓水排水流量下降35%。
5.维修EDI及采购EDI就找湖南凯聚达科技有限公司膜块堵塞的原因主要有下面几种形式：颗粒/胶体污堵；无机物污堵；有机物污堵；微生物污堵。
（EDI清洗注意：在清洗或消毒之前请先选择合适的化学药剂并熟悉安全操作规程，切不可在组件电源没有切断的状态下进行化学清洗。
）详细如下：1、颗粒/胶体污堵进水颗粒度≥5μm时会造成进水流道堵塞，引起膜块内部水流分布不均匀，从而导致膜块整体性能降低。
如果EDI膜块的进水不是直接由RO产水端进入EDI膜块，而是通过RO产水箱经过增压泵供水，建议在进入EDI膜块前端增设保安过滤器（≤0.2μm）。
在组装EDI设备时，所有的连接管道系统应冲洗干净以预防管道内的颗粒杂质进入膜块。
2、无机物污堵如果EDI进水含有较多的溶质且超出设计值或者回收率超过设计值时,将导致浓水室和阴极室的结垢，生成盐类物质析出沉淀，通常结垢的类型为钙、镁离子生成的碳酸盐。
即便这类物质的浓度很小，接触时间也很短，但随着运行时间的累加，仍有发生结垢的可能，这种硬度结垢很容易通过酸洗去除。
EDI(电去离子技术)相关知识详解
EDI（电去离子技术）相关知识详解1、EDI概念及原理EDI的英文全称是electrode ionization，翻译过来就是电除盐法，也称作电去离子技术，或填充床电渗析。
电去离子技术结合了离子交换和电渗析两项技术。
它是在电渗析的基础上研究发展起来的除盐技术，是继离子交换树脂等之后日益获得广泛应用并取得较好效果的水处理技术。
既利用了电渗析技术可连续除盐的优点，又利用了离子交换技术达到深度除盐的效果；既改善了电渗析过程处理低浓度溶液时电流效率下降的缺陷，增强离子传递，又使离子交换剂可得到再生，避免了再生剂的使用，减少了酸碱再生剂使用过程中所产生的二次污染，实现了去离子的连续操作。
EDI原理示意图EDI去离子的基本原理包括以下3个流程：（1）电渗析过程水中电解质在外加电场作用下，通过离子交换树脂，在水中进行选择性迁移，随浓水排出，从而去除水中的离子。
（2）离子交换过程通过离子交换树脂对水中的杂质离子进行交换，结合水中的杂质离子，从而达到有效去除水中离子的效果。
（3）电化学再生过程利用离子交换树脂界面水发生极化产生的H+和OH-对树脂进行电化学再生，实现树脂的自再生。
2、EDI的影响因素及控制手段？（1）进水电导率的影响在相同的操作电流下，随着原水电导率的增加，EDI对弱电解质的去除率减小，出水的电导率也增加。
如果原水电导率低则离子的含量也低，而低浓度离子使得在淡水室中树脂和膜的表面上形成的电动势梯度也大，导致水的解离程度增强，极限电流增大，产生的H+和OH-的数量较多，使填充在淡水室的阴、阳离子交换树脂的再生效果良好。
因此，需对进水电导率进行控制，使EDI进水电导率小于40us/cm，可以保证出水电导率合格以及弱电解质的去除。
（2）工作电压、电流的影响工作电流增大，产水水质不断变好。
但如果在增至最高点后再增加电流，由于水电离产生的H+和OH-离子量过多，除用于再生树脂外，大量富余离子充当载流离子导电，同时由于大量载流离子移动过程中发生积累和堵塞，甚至发生反扩散，结果使产水水质下降。
edi水处理原理简要介绍
EDI水处理原理简要介绍一、什么是EDI水处理技术？EDI是英文Electrodeionization的缩写，即电极离子交换技术。
它是一种利用电场效应和离子交换树脂相结合的水处理技术，可以高效地去除水中的溶解离子，得到高纯度的水。
EDI技术广泛应用于电子、化工、制药、食品及饮料等行业，是现代水处理领域的重要技术之一。
二、EDI水处理原理EDI技术是通过将离子交换树脂与电场效应相结合，实现对水中离子的去除。
具体来说，EDI设备由阴阳离子交换膜、电极和离子交换树脂组成。
2.1 阴阳离子交换膜EDI设备中的阴阳离子交换膜起到隔离阴阳离子的作用。
阴离子交换膜只允许阴离子通过，阳离子交换膜只允许阳离子通过。
通过合理配置阴阳离子交换膜，可以实现对水中离子的选择性去除。
2.2 电极EDI设备中的电极是实现电场效应的关键组件。
电极通常由不锈钢或钛合金制成，通过施加电压，形成电场。
电场会对水中的离子产生作用力，促使离子向离子交换膜迁移。
2.3 离子交换树脂EDI设备中的离子交换树脂是实现离子去除的主要介质。
离子交换树脂具有高度选择性，可以选择性地吸附水中的离子。
通过合理配置离子交换树脂的种类和数量，可以有效去除水中的溶解离子。
三、EDI水处理过程EDI水处理过程一般包括预处理、电吸附和再生三个阶段。
3.1 预处理预处理阶段主要是对原水进行初步处理，去除悬浮物、胶体物质、有机物等杂质，以减轻EDI设备的负担，延长设备寿命。
常见的预处理方法包括混凝、沉淀、过滤等。
3.2 电吸附电吸附阶段是EDI水处理的核心过程。
在这一阶段，通过施加电场，离子交换树脂吸附水中的离子，并将其分离出来。
阴离子通过阴离子交换膜，阳离子通过阳离子交换膜，最终得到净化后的水。
3.3 再生再生阶段是为了恢复离子交换树脂的吸附能力。
通常采用两种方法进行再生：酸洗和电脱吸。
酸洗是用酸性溶液洗脱吸附在树脂上的离子，而电脱吸则是通过施加反向电场，使吸附在树脂上的离子向阴阳离子交换膜迁移，从而实现再生。
edi模块清洗保养方案
EDI模块的清洗保养方案主要包括以下步骤：●定期清洗EDI模块。
由于长期使用，水中的杂质会在EDI模块中积累，这可能会影响其正常产水。
因此，需要定期清洗，以恢复其正常产水状态。
●检查EDI模块的电极与膜片。
EDI模块中的浓水室和淡水室以及许多电极和膜片是其核心设备，需要定期检查以确保其正常状态。
●定期检查预处理装置。
预处理装置对进水水质要求较高，如果水质不合格可能会造成树脂污染，同时也会影响EDI模块的安全运行。
因此，需要定期检查预处理装置，确保其运行安全。
●定期检查EDI模块配套装置。
这些装置包括管道和闸阀等，当其出现泄漏或者堵塞时，将会严重影响纯水EDI模块的产水性能和产水水质。
因此，需要定期检查和维护这些装置。
●清洗进水电极。
每三月清洗一次进水电极，并使用去离子水冲洗干净。
●检查电极和膜片的安装情况。
检查电极和膜片的安装是否正确，是否有松动或漏装现象。
如有需要，可以重新安装或紧固。
●清洗淡水室和浓水室。
使用去离子水冲洗淡水室和浓水室，以去除其中的杂质和污染物。
●检查系统是否有泄漏。
检查整个EDI模块系统是否有泄漏，包括连接处和阀门等关键部位。
如有泄漏，需要进行修复。
●检查电源和电流是否正常。
检查电源是否稳定，电流是否在正常范围内。
如有异常，需要进行调整。
●清洗离子交换树脂。
使用去离子水清洗离子交换树脂，去除其中的杂质和污染物。
●检查系统是否正常运转。
检查整个EDI模块系统是否正常运转，包括产水、排水、清洗等环节。
如有异常，需要进行调整。
EDI设备组件的清洗及维护
EDI设备组件的清洗及维护EDI设备,EDI装置,EDI系统注意事项：1. 在操作和维护坎贝尔TM EDI系统时必须始终遵守使用手册中的有关规定2. 该使用手册中文版与英文版有分歧时以英文版为准3. 必须完全理解本手册内容或经过相关技术培训才能操作坎贝尔TM EDI系统4. 对于不符合本手册要求所造成的损失，北京易蒂艾公司不承担任何责任5. 坎贝尔TM EDI模块在使用期间出现异常现象，用户不得自行拆装，应立即通知售后服务商6. 我们保留不断改进产品的权利，如有变动恕不另行通知离子交换膜和离子交换树脂的工作原理相近,可以使特定的离子迁移。
阴离子交换膜只允许阴离子透过，不允许阳离子透过;而阳膜只允许阳离子透过，不允许阴离子透过。
在一对阴阳离子交换膜之间充填混合离子交换树脂就形成了一个EDI单元。
阴阳离子交换膜之间由混合离子交换树脂占据的空间被称为淡水室。
将一定数量的EDI单元罗列在一起，使阴离子交换膜和阳离子交换膜交替排列，并使用网状物将每个EDI单元隔开，形成浓水室。
在给定的直流电压的推动下，在淡水室中，离子交换树脂中的阴阳离子分别在电场作用下向正/负极迁移，并透过阴阳离子交换膜进入浓水室，同时给水中的离子被离子交换树脂吸附而占据由于离子电迁移而留下的空位。
事实上离子的迁移和吸附是同时并连续发生的。
通过这样的过程，给水中的离子穿过离子交换膜进入到浓水室被去除而成为除盐水。
带负电荷的阴离子(例如OH-、Cl-)被正极(+)吸引而通过阴离子交换膜，进入到邻近的浓水室中。
此后这些离子在继续向正极迁移中遇到邻近的阳离子交换膜，而阳离子交换不允许其通过，这些离子即被阻隔在浓水中。
淡水流中的阳离子(例如Na+ 、H+)以类式的方式被阻隔在浓水中。
在浓水中，透过阴阳膜的离子维持电中性。
EDI组件电流量和离子迁移量成正比。
电流量由两部分组成，一部分源于被除去离子的迁移，另一部分源于水本身电离产生的H+和OH-离子的迁移。
EDI工作原理
EDI工作原理EDI（Electrodeionization）是一种用于水处理的高效、节能的技术，它能够去除水中的离子和溶解物，产生高纯度的水。
本文将详细介绍EDI的工作原理。
1. EDI的基本原理EDI技术是通过电化学和离子交换的结合来实现水处理的。
它通常由离子交换膜、电极和离子交换树脂组成。
在EDI装置中，水通过离子交换膜，该膜具有选择性地允许某些离子通过，而阻止其他离子通过。
当水通过这些膜时，离子交换树脂将水中的离子捕获并与之交换，从而净化水质。
2. EDI的工作过程EDI的工作过程可以分为三个阶段：预处理、电化学反应和再生。
2.1 预处理在EDI之前，通常需要对水进行预处理，以去除悬浮物、有机物和大部分离子。
这可以通过过滤、活性炭吸附和反渗透等方法来实现。
预处理的目的是保护EDI装置，提高其工作效率和寿命。
2.2 电化学反应在EDI装置中，水通过离子交换膜，同时有一个电场施加在膜上。
这个电场会导致水中的离子在膜上形成浓度极化层。
在浓度极化层中，离子会与离子交换树脂发生反应，被捕获并与之交换。
正向离子（如钠离子、钙离子）会被交换树脂吸附，而负向离子（如氯离子、硫酸根离子）会被交换树脂释放。
2.3 再生随着时间的推移，交换树脂会逐渐饱和，需要进行再生。
再生是通过改变电场的方向来实现的。
在再生过程中，正向离子会被释放出来，负向离子会被吸附。
这样，交换树脂重新恢复到可再次捕获离子的状态，从而实现连续的水处理。
3. EDI的优势EDI技术相对于传统的水处理方法具有以下优势：3.1 高纯度水的生产EDI能够高效地去除水中的离子和溶解物，可以产生高纯度的水，适用于许多应用领域，如电子行业、制药行业和化工行业等。
3.2 节能环保EDI不需要使用化学品进行再生，相比传统的离子交换方法，EDI更加节能环保。
它可以降低运营成本和废水处理的负担。
3.3 连续运行EDI可以实现连续的水处理，无需停机进行再生。
这大大提高了生产效率和连续供水的可靠性。
水处理设备超滤ROEDI在线化学清洗方案步聚资料
水处理设备超滤ROEDI在线化学清洗方案步聚资料超滤、RO（反渗透）和EDI（电离子除盐）是常见的水处理设备，用于去除水中的杂质和离子，提供高品质的纯净水。
为了确保水处理设备的高效运行和服务寿命，定期进行化学清洗是必要的。
下面是超滤、RO和EDI在线化学清洗的步骤资料。
超滤设备在线化学清洗步骤：1.准备清洗剂：根据超滤膜的材质和清洗要求，选择合适的清洗剂。
常用的清洗剂包括碱性清洗剂、酸性清洗剂和氧化剂。
2.预处理工作：关闭进水阀和泵，并放空超滤设备中的水。
3.检测浓缩液的pH值：使用pH计测量浓缩液的pH值，确保其在清洗前处于正常范围内。
4.清洗与循环：将清洗液注入超滤设备，并启动循环泵，将清洗液循环流经超滤膜。
根据清洗剂的要求，控制清洗时间和温度。
5.浸泡时间：根据超滤膜的材质和堵塞程度，确定浸泡时间。
通常情况下，浸泡时间为30分钟至2小时。
6.冲洗：将清洗剂排出，使用清水冲洗超滤设备，以彻底清除清洗剂的残留物。
7.检测浓缩液的pH值：使用pH计测量浓缩液的pH值，确保其在清洗后处于正常范围内。
RO设备在线化学清洗步骤：1.准备清洗剂：根据RO膜的材质和清洗要求，选择合适的清洗剂。
常用的清洗剂包括酸性清洗剂、碱性清洗剂和氧化剂。
2.预处理工作：关闭进水阀和泵，并放空RO设备中的水。
3.检测浓缩液的pH值：使用pH计测量浓缩液的pH值，确保其在清洗前处于正常范围内。
4.清洗与循环：将清洗液注入RO设备，并启动循环泵，将清洗液循环流经RO膜。
根据清洗剂的要求，控制清洗时间和温度。
5.浸泡时间：根据RO膜的材质和堵塞程度，确定浸泡时间。
通常情况下，浸泡时间为1至2小时。
6.冲洗：将清洗剂排出，使用清水冲洗RO设备，以彻底清除清洗剂的残留物。
7.检测浓缩液的pH值：使用pH计测量浓缩液的pH值，确保其在清洗后处于正常范围内。
EDI设备在线化学清洗步骤：1.准备清洗剂：根据EDI设备的材质和清洗要求，选择合适的清洗剂。
EDI清洗方案
EDI清洗方案1.管道设备安装图2.清洗操作流程●按照管路图连接管道，阀门及设备●开机，调整阀门回流阀门、EDI进水、EDI浓水阀门，达到纯水进水流量3.4m³/h 浓水1.73m³/h 浓水流量为纯水一半流量压力≯0.2MPa●加入HCL9L，再加入190L纯化水到循环储罐，测PH值＜0.5●连接EDI ，开泵循环1小时，10分钟测循环水储罐PH值，加酸达到PH值一直＜0.5●提取结束后循环水箱液200ml，加氢氧化钠调整PH到10以上，观察是否有沉淀物。
留清液样备用检测,将循环液排放●加入12.5KG氯化钠，加纯化水水250L配置成5%氯化钠溶液250L,再循环冲洗，到PH值恒定到和纯水水平，将循环液排放●用纯化水冲洗EDI模块10分钟，冲洗干净EDI中残留的HCL和NaCL，不循环直接排放●加入7.5KG氯化钠和1.5KG氢氧化钠和纯化水150L配置成5%氯化钠溶液和1%氢氧化钠混合液150L，再循环60分钟（PH值应该＞13，清洗时注意颜色变化，若溶液呈明显黄色或泡沫，就要配置清洗液进行清洗，直到洗出溶液无颜色变化），第一次清洗液取样备检●加入12.5KG氯化钠，加纯化水水250L配置成5%氯化钠溶液250L，再循环冲洗，到PH值恒定到和纯水水平，将循环液排放●用纯化水冲洗EDI，直到PH为7和出水电导率和纯化水一致3.注意事项员工要穿戴安全防护用品，劳保鞋，防酸碱手套，护目镜设备设施按照流程图安装好以后，要先试运行，观察是否有泄漏，确保运行过程中无滴漏现象，能安全运行PH值是一个关键指标，PH计要校验，确保PH值准确纯化水用量较大，提前制备1T左右纯化水，备用4.。
EDI设备的化学清洗及再生
EDI设备的化学清洗及再生EDI设备是应用在反渗透系统之后，取代传统的混床离子交换技术生产稳定的超纯水。
EDI模块的日常清洗及保养对于延长其使用寿命发挥着不可忽视的作用。
虽然EDI膜块的进水条件在很大的程度上减少了膜块内部阻塞的机会，但是随着设备运行时间的延展，EDI膜块内部水道还是有可能产生阻塞，这主要是EDI进水中含有较多的溶质，在浓水室中形成盐的沉淀。
如果进水中含有大量的钙镁离子（硬度超过0.8ppm）、CO2 和较高的pH 值，将会加快沉淀的速度。
遇到这种情况，我们可以通过化学清洗的方法对EDI膜块进行清洗，使之恢复到原来的技术特性。
通常判断EDI 膜块被污染堵塞可以从以下几个方面进行评估判定：1、在进水温度、流量不变的情况下，进水侧与产水侧的压差比原始数据升高45%。
2、在进水温度、流量不变的情况下，浓水进水侧与浓水排水侧的压差比原始数据升高45%。
3、在进水温度、流量及电导率不变的情况下，产水水质（电阻率）明显下降。
4、在进水温度、流量不变的情况下，浓水排水流量下降35%。
膜块堵塞的原因主要有下面几种形式：颗粒/胶体污堵；无机物污堵；有机物污堵；微生物污堵。
（EDI 清洗注意：在清洗或消毒之前请先选择合适的化学药剂并熟悉安全操作规程，切不可在组件电源没有切断的状态下进行化学清洗）详情如下：1、颗粒/胶体污堵进水颗粒度≥5μm 时会造成进水流道堵塞，引起膜块内部水流分布不均匀，从而导致膜块整体性能降低。
如果EDI膜块的进水不是直接由RO 产水端进入EDI 膜块，而是通过RO产水箱经过增压泵供水，建议在进入EDI 膜块前端增设保安过滤器（≤0.2μm）。
在组装EDI设备时，所有的连接管道系统应冲洗干净以预防管道内的颗粒杂质进入膜块。
2、无机物污堵如果EDI 进水含有较多的溶质且超出设计值或者回收率超过设计值时,将导致浓水室和阴极室的结垢，生成盐类物质析出沉淀，通常结垢的类型为钙、镁离子生成的碳酸盐。
EDI污染判断及8种清洗方法全解析
设备的化学清洗及再生虽然EDI 膜块的进水条件在很大的程度上减少了膜块内部阻塞的机会，但是着设备运行时间的延展，EDI 膜块内部水道还是有可能产生阻塞，这主要是EDI进水中含有较多的溶质，在浓水室中形成盐的沉淀。
如果进水中含有大量的钙镁离子（硬度超过0.8ppm）、CO2 和较高的PH 值，将会加快沉淀的速度。
遇到这种情况，我们可以通过化学清洗的方法对EDI 膜块进行清洗，使之恢复到原来的技术特性。
通常判断EDI 膜块被污染堵塞可以从以下几个方面进行评估判定：1、在进水温度、流量不变的情况下，进水侧与产水侧的压差比原始数据升高45%。
2、在进水温度、流量不变的情况下，浓水进水侧与浓水排水侧的压差比原始数据升高45%。
3、在进水温度、流量及电导率不变的情况下，产水水质（电阻率）明显下降。
4、在进水温度、流量不变的情况下，浓水排水流量下降35%。
膜块堵塞的原因主要有下面几种形式：1、颗粒/ 胶体污堵2、无机物污堵3、有机物污堵4、微生物污堵EDI 清洗注意：在清洗或消毒之前请先选择合适的化学药剂并熟悉安全操作规程，切不可在组件电源没有切断的状态下进行化学清洗。
颗粒/ 胶体污堵进水颗粒度≥5μm 时会造成进水流道堵塞，引起膜块内部水流分布不均匀，从而导致膜块整体性能降低。
如果EDI 膜块的进水不是直接由RO 产水端进入EDI 膜块，而是通过RO产水箱经过增压泵供水，建议在进入EDI 膜块前端增设保安过滤器（≤0.2μm）。
在组装EDI 设备时，所有的连接管道系统应冲洗干净以预防管道内的颗粒杂质进入膜块。
无机物污堵如果EDI 进水含有较多的溶质且超出设计值或者回收率超过设计值时, 将导致浓水室和阴极室的结垢，生成盐类物质析出沉淀，通常结垢的类型为钙、镁离子生成的碳酸盐。
即便这类物质的浓度很小，接触时间也很短，但随着运行时间的累加，仍有发生结垢的可能，这种硬度结垢很容易通过酸洗去除。
按照方案 1 中的方法，使用低PH溶液在系统内部循环清洗，可以去除浓水室和阴极室的结垢。
edi化学清洗条件
edi化学清洗条件《EDI化学清洗条件》同学们，今天咱们来聊聊和EDI（Electrodeionization，电去离子）化学清洗条件有关的化学知识。
这EDI呀，在化学工业里可是个很重要的东西呢，但要理解它的化学清洗条件，咱们得先把一些基础的化学概念搞清楚。
咱们先来说说化学键。
化学键就好比是原子之间的小钩子，把原子们连接在一起形成分子或者化合物。
这里面有两种常见的小钩子，一种是离子键，一种是共价键。
离子键就像是带正电和带负电的原子像超强磁铁一样吸在一起。
比如说氯化钠，钠原子失去一个电子带正电，氯原子得到这个电子带负电，这一正一负就吸得紧紧的，就像磁铁的南北极一样。
共价键呢，就是原子们共用小钩子连接。
像氢气分子，两个氢原子各拿出一个小钩子来共用，这样就形成了稳定的氢气分子。
再说说化学平衡，这就好比是一场拔河比赛。
反应物和生成物就像是两队人，在反应开始的时候，反应物这边力量大，就像拔河开始时一方人多力气大，会不断地转化为生成物。
但是随着反应进行，生成物这边的力量也在增加，到最后达到正逆反应速率相等的状态，就像拔河两边的人都用同样大小的力气拉着绳子，绳子就不再动了，这时候各物质的浓度也不再变化，这就是化学平衡状态。
分子的极性也很有趣。
咱们可以把它想象成小磁针。
比如说水，它是极性分子。
水的氧一端就像磁针的南极，带负电，氢一端就像北极，带正电。
而二氧化碳是直线对称的非极性分子，就像一个两边对称的东西，不存在一端带正电一端带负电这种情况。
还有配位化合物，这就像是一场聚会。
中心离子就是聚会的主角，配体就是那些提供孤对电子共享的小伙伴。
它们凑在一起，就形成了配位化合物。
在氧化还原反应中的电子转移也不难理解。
就像是一场交易一样。
比如说锌和硫酸铜反应，锌原子就像一个大方的人，把自己的电子给了铜离子。
这样锌原子就变成了离子，而铜离子得到电子就变成了原子。
现在咱们来说说化学反应速率的影响因素，这和EDI化学清洗也有关系哦。
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设备的化学清洗及再生
膜块堵塞的原因主要有下面几种式：
o 颗粒/胶体污堵
o 无机物污堵
o 有机物污堵
o 微生物污堵
清洗方法时间（分）备注
酸洗30-50
碱洗30-50
盐水清洗35-60
消毒25-40
冲洗≥50
再生≥120 根据系统的工艺要求直至达到出水电阻率要求指标单个膜块清洗时药液配用量
型号药液配用量（升）备注
50 50 1. 酸洗温度15-25℃
2. 碱洗温度25-30℃
3. 配药液用水必须是产水
或高于产水的去离子水
100 80
200 110
300 150
•对于膜块数量大于1块时，按表中配液的数量乘以膜块数量
膜块的再生
o 确认膜块内没有任何的化学药品残留存在。
o 使系统构建成一个闭路自循环管路。
o 按照正常运行的模式调节好所有的流量和压力。
o 给送电，调节电流从2A开始分步缓慢向加载电流（最大不能超过4A）。
o 直至产水电阻率达工艺要求到或者≥12MΩ
o 提示：膜块的再生是一个比较长的时间，有时可能会长达10-24小时甚
至更长的时间。
运行维护注意事项
注意:试车、操作及维护前,请详阅厂家所提供操作维护手册. 本注意事项仅提醒使用者於试车、操作及维护时需要特别注意之事项,详细操作维护内容请详阅厂家所提供操作维护手册.
一、进流水质要求与必要之附属设备
(一)进流水质要求: 前处理系统一定要有系统,且要确保系统操作正常. 进流水质最低要求如下:
1 导电度(包括
2 及2) μ< 40
2 温度℃5 - 45
3 压力20-100
4 自由余氯(2) < 0.02
5 铁()、锰() < 0.01
6 硫化物( ) < 0.01
7 4-11
8 总硬度( 3) < 1.0
9 二氧化硅(2) < 1.0
10 总有机碳() < 0.5
备注: 1. 导电度计算方式=导电度计测量之导电度+2.662 浓度( 2)+1.942( 2)
2. 启动初期应特别注意进流硬度、二氧化硅浓度,应避免超过1.0.
(二)附属设备：为了保护模块及便利后续系统监测,强烈建议系统应至少包括下列附属设备:
1. 稳定的电源供应设备：为了维持系统操作稳定,电源供应系统应供给稳定的直流电源给模块,且系统能在定电流模式下操作(, 亦即设定电流(I)后,电流并不会随进流水质改变,进流水质改变仅会影响电阻(R)及电压(V)).
2. 流量开关或流量控制设备：为了保护模块,当没有水进入模块时, 模块电源必须马上被关闭,流量开关需与电源供应连动.
3. 压力计：应至少於进流端与产水、浓缩水出水端设置压力计,以监测进出水压力.
4. 进出水流量计：方便调整产水率.可使用附控制点之流量计(可作为
流量开关使用).
5. 系统控制( 控制)：系统除了控制没水进入时之断电装置外,亦应控制在进流水进入一段时间后,若电源仍无供应,应停止进流(例如泵启动30 秒后(视泵至距离调整时间),若电源仍无供应, 则应关闭泵,并发出警报),以避免膜堆内树脂饱和,影响后续产水水质。
二、试车注意事项：
(一)试车前检查
1. 试车前应检查管路、配件及控制系统是否安装完成,各项检查前应先关闭电源,以维护人员安全.
2. 模块扭矩检查：依照操作手册
3.2 节检查并锁紧. 联接螺栓扭矩1-8 25 . 11-14 12.5 . 9, 10 10 . 工具：扭矩扳手(19)+活动扳手
3. 管路检查：检查配管路线及阀门开关.
4. 电源控制检查(以原厂电源控制为例)：
1.)检查整流器及显示板的选择是否正确：
甲、：例如30,需要660V,则选择660V(共有440,550, 660 三个选项).
乙、：选择最高电流限制,例如：选择10A(共有2.5, 4, 6.5, 10A 四个选项).选择之电流需与显示板上之选择相同.
丙、频率：选择60 或50.
2.)检查变压器至控制版接线(T1, T2)及至模块接线.
3.)检查接地线().
4.)选择控制模式：选择定电流控制(A)或定电压(V)(建议选择定电流
控制).
5.)检查流量开关.
5. 确认进流泵容量：进流泵之汲水流量需满足系统所需之流量,同时其扬程需能克服各项设备及管路压损( 模块压损约 1.5-2(与处理量相关)).
原厂显示板背面调整原厂控制板背面调整及接线
(二)试车所需注意事项
1. 确认系统操作是否正常?建议系统操作稳定后,才将进流水切换至系统,以避免启动初期水质较差,影响模块性能.
2. 检测进流水水质：检测进流水水质,以确认进流水质符合要求,检测项目至少包括导电度、总硬度、二氧化硅、总氯及 2.若水质有任一项不符前述进流水质要求,即不可将水汲入模块,并需检查前处理是否有问题. 若进流水 2 浓度太高(超过5),即不建议将浓缩水回流至系统前贮槽(除非先将 2 去除),以避免造成 2 累积,影响产水水质.
3. 清洗管路：注意：为避免管路中残留管屑等污染物进入模块造成堵塞,建议在未试车前(包括架台配管时),先不要将原厂所附进出口之红色套头取出(但试车前一定要将该物取出). 在水进入模块前,需先确定其前处理管路中已无管屑等污染物.建议於启动前先将模块进水接头拆开,并以水冲洗管路.
4. 测试各项安全保护装置：
1.)测试进流水泵浦与连动装置：测试进流水泵浦与连动装置,使得
只有在进流泵浦启动时才开启电源,且当电源没有开启一段时间后要关闭进流水泵浦.
2.)流量开关测试：启动前需先测试流量开关是否会动作,亦即没水时电源关闭,通水启动流量开关后(回路连通),直流电源才供应至模块. 5. 系统启动注意事项
1.)当上述安全保护测试完成后,再一次检查管路阀门开关,确定阀门开关正确后,才启动进流泵浦.
2.)进流泵浦启动后,检查电源供应是否正常启动.例如,以原厂显示板为例,显示板上灯号会由跳至,若无,先关闭进流泵浦,并检查流量开关及各接线是否正常.
3.)进流泵浦启动后,以手动阀(最好是用膜片阀,以方便调整)调整产水及浓缩水流量,初期产水率先调整为90%.
4.)刚启动时,先将电流调小(例如0.5A),确定水流及电源没问题后, 再将电流慢慢调整到软体计算所需之电流值(与进流水质、水量相关),观察电压及出水水质. 启动初期水质可能较差,切勿因水质不佳,即贸然调高电流至远超过软体所计算之值. 例如:进流水质导电度–10μ, 2 –8, 2 –0.2 时, 以计算软体计算所需之电流为 2.43 安培,则设定电流在约 2.5 安培即可(以水质最差时计算),切勿一开始即将电流调整超过该值(例如4.0 安培),以避免损坏模块.
5.)观察进出水压力,并以手动阀调整,使产水水压略高於浓缩水压约2-5(若产水出口压力低於浓缩水压力,会影响产水水质).
6.)为避免启动初期产水水质不佳,建议於产水端设置二只自动控制
阀,并以控制:当产水水质低於要求时,将产水回流至前贮槽,当水质高过设定水质时,才切换至下一处理设备.
7.)当系统在稳定状态(水质符合要求且操作稳定)时,应依据操作手册4.0 章最后所附的资料表上记录操作资料(检测项目至少需包括进水温度、导电度、总硬度、2,产水电阻值,进出口流量及压力(含浓缩端),操作电压、电流),以利后续设备检修.
三、操作维护注意事项
1. 应每天填写系统记录表,以便及早发现是否有可能会使保修失效或对膜堆造成破坏的问题.
2. 应至少每六个月对膜堆进行一次膜块外观检测,检查是否有漏水或盐类沈积;并定期旋紧所有电气连接头及按照
3.2 章节的规定,检查膜堆螺栓的扭矩.
3. 在下述情况下,膜堆可能需要清洗:
温度和流量不变,产水压降增加50%;
温度和流量不变,浓水压降增加50%;
温度、流量、或进水电导率不变,产水水质下降;
温度不变,膜堆的电阻增加25%. 清洗方法请参考操作维护手册.
4. 若模块发生故障可参考原厂所附操作维护手册内之膜堆故障检测流程或联络当地服务商.
四、有助於系统稳定及水质提升的前处理设计为增加系统稳定度及提升产水水质,可於前处理增加下列设备
1. 去除2 设备:一般产水皆含有一定量之2,若能将进流水2 浓度
降低,将有助於产水水质提升及减少结垢可能性；
2. :於前增设紫外线杀菌器()可减少模块长菌可能；
3. 精密过滤器:於前增设精密过滤器可避免微细颗粒物进入模块,造成堵塞；
4. :当原水硬度及二氧化矽浓度相对较高或变化较大时, 为避免原水水质变化大或软化系统出问题时产水硬度、二氧化硅浓度超过进流水标准,或减少模块结垢可能性,建议前处理采用系统。