制备方法对石墨烯电化学性能的影响

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2 制备方法对石墨烯材料的电化学性能的影响
2. 1 化学还原氧化石墨法 化学还原 氧 化 石 墨 法[34,35] 是 将 氧 化 石 墨 剥 离 成
单层或少层的均匀稳定分散于水溶液的氧化石墨烯 ( graphene oxide,GO) ,然后加入还原剂,在一定温度下 反应,去 除 其 中 的 含 氧 基 团,得 到 石 墨 烯 ( graphene sheets,GNs ) 。 目 前,最 为 常 用 的 还 原 剂 是 水 合 肼[36,37],另 外 还 有 硼 氢 化 钠[38]、氢 溴 酸[19]、维 生 素 C[39,40]、还原性糖 类[41]、H2[42]、强 碱[43]、纯 肼[44]、对 苯 二酚[45]、吡咯[46]、紫外辅助还原[47]等。表 1 列出了来 自不同研究的制备工艺条件、石墨烯的比表面积和比 电容数据。
图 3 剥离温度、气氛对石墨烯的比表面积和比电容 的影响
Fig 3 Effects of exfoliation temperature and atmosphere on specific surface area and specific capacitance 显然,在低温区的热剥离对于制备较高比电容的
张利华 等: 制备方法对石墨烯电化学性能的影响
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制备方法对石墨烯电化学性能的影响*
张利华,关 毅
( 天津大学 化工学院,天津 300072)
摘 要: 石墨烯处于当今电化学纳米材料研究的前
沿,因制备方法多种多样,得到的石墨烯材料性能也存
在相当大差异。综述了通过目前流行的制备方法获得
的石墨烯的电化学性能研究成果,分析了制备方法间、
制备条件间的不同对石墨烯电化学性能的影响。
关键词: 石墨烯; 比电容; 比表面; 电化学
中图分类号: O613. 71
文献标识码: A
文章编号: 1001-9731( 2012) 16-2121-05
1引言
石墨烯是构筑零维富勒烯、一维碳纳米管、三维体 相石墨等杂化碳的基本单元( 图 1) [1]。自通过微机械 剥离首次制成单层石墨烯[2]以来,其相关理论,制备方
制备方法和工艺条件,获得石墨烯基的电导、热导和强 度极佳且超薄和超微型电极材料。应用在超级电容 器[10,11]、化学( 生物) 传感器[12-14]、电催化[15,16]和电化 学发光[17,18]等方面。
根据提供电化学测试数据的文献报道,石墨烯的 电化学性能与石墨烯的合成方法关系密切。以制备超 级电容器作为 目 标 为 例,Ruoff[10] 采 用 氧 化 还 原 法,以 水合肼还原氧化石墨烯,制成石墨烯在水溶液电解液 的比电容为 135F / g。Chen 等[19]采用同样方法,但以 氢溴酸作为还原剂,在 1mol / L H2 SO4 电解液中的比电 容达 348F / g。Hantel 等[20]以部分还原氧化石墨作为 超级电容器的电极材料,其在有机电解液中的比电容 达 220F / g。显然不同的制备工艺或原材料对石墨的 电化学性能均有影响。
24

葡萄糖 95
1

比电容 ( F /g)
135 138 125 129 134 193 171 104 135 150 158 169 348 38. 6
参考 文献 [38] [53] [52] [54] [48] [55] [51] [56] [10] [58] [59] [57] [19] [60]
在特定气氛下,氧化石墨经快速升温处理,使其迅 速膨胀而发生剥离的同时,表面部分含氧基团热解生 成 CO2 ,从而得到石墨烯的方法称为热剥离氧化石墨 法[62,63]。剥离温 度 和 气 氛 是 该 制 备 方 法 的 主 要 影 响 因素,表 2 是该方法制备石墨烯的工艺条件及所得石 墨烯的电化学性能数据。 表 2 热剥离 GO 法工艺条件及 GNs 的比表面积和比
目前,制备石墨烯的方法有机械剥离法[2,21]、液相 剥离法[22,23]、基 质 外 延 生 长 法[24,25]、化 学 气 相 沉 积 法[26,27]、小 分 子 插 层 石 墨 法[28,29]、氧 化 石 墨 还 原 法[30-32]、电弧法[33]及超 薄 切 片 丙 烯 腈 基 碳 纤 维 法[34] 等。其中氧化还原法产量高,成本低,是制备电化学应 用石墨烯材料的主流方法。本文根据已有文献报道所 提供的石墨烯电化学数据,初步分析了主要制备工艺 对石墨烯电化学性能的可能影响。
就还原条件与石墨烯比电容关系而言,由图 2 可 知 NaBH4 为还原剂[38,51,52],还原温度 80℃ ,还原时间 2 ~ 36h,石墨烯比电容变化很小( 125 ~ 138F / g) ,从现 有研究结果来看,还原时间影响小,应主要考虑还原剂 用量 和 还 原 温 度 影 响。 常 用 的 水 合 肼 为 还 原 剂 时[51,53-55],在还原温度 < 50℃ 低温区数据表明,当还原 时间由 1 向 72h 延长时,石墨烯比电容由 129 向 193F / g 变化,很明显还原时间是低温区的主要影响因素,而 还原温度变化的影响则不明显。在还原温度达到近 100℃ 的 高 温 区 ( ≥ 95℃ ) ,多 采 用 的 24h 还 原 时 间[10,56-58],比电容为 104 ~ 169F / g,而还原 2h[59],比电 容也达 158F / g,这说明与低温区不同,因温度升高加 快了还原反应速度,还原时间影响变小。
比电容数据 Table 1 The Data of technological conditions,specific
surface area and specific capacitance of GNs prepared by chemical reduction of GO
还原温度 还原时间 比表面积
参考 文献 [20] [67] [64] [65] [66] [67] [67] [68] [65] [69] [66] [68] [65] [66] [70]
表 2 说明,剥离温度和剥离气氛对所制备石墨烯 的比表面积和比电容影响明显。图 3 的数据来自表 2。来自现有文献数据( 图 3) 表明,可以将热剥离温度 区分为低温区( < 400℃ ) ,中温区( 400 ~ 700℃ ) ,高温
2012 年第 16 期( 43) 卷
发生氧化还原不可逆反应会产生赝电容。
图 2 化学还原制备条件对石墨烯比电容的影响 Fig 2 Effects of chemical reduction condition on specific
capacitance
另外,化学还原氧化石墨后,石墨烯再团聚是易发 生的问题,会对电化学性能产生不利影响,常采用添加 阻隔剂等方法防止或减少其团聚,或者采用化学活化 法[61]、与其它金 属 氧 化 物 复 合 阻 止 团 聚,并 提 高 比 电 容性能。 2. 2 热剥离氧化石墨法
法和应用研究取得了长足的进展。
图 1 石墨烯是构筑其它维数碳材料的基本模块[1] Fig 1 Graphene is a basic 2D build block for carbon mate-
rials of all dimension[1]
石墨烯是由单层六角元胞碳原子组成的蜂窝状二 维晶体[1-5],该晶格中相邻碳原子间通过 sp2 杂化形成 σ 键相互连接构成不断延伸且刚性很强的平面结构, 而垂直于平面的 pz 轨道中的 π 电子形成的 π 键和 π * 键的费米能级几乎无差异,π 电子在晶体中移动几 乎不会遇到阻力。因此,石墨烯具有成为优良电极材 料的特点,如理论上理想的单层石墨烯的比表面积达 2630m2 / g[6],而厚度仅为 0. 35nm; 理想情况下,电子在
化学还原法制备石墨烯对其比电容影响因素除了 与还原温度、还原时间、还原剂用量有关外,也与采用 的还原剂种类有关。如采用葡萄糖作还原剂[60],比电 容 38. 6F / g 要明显偏低。而采用氢溴酸作还原剂[19], 还原条件类似,获得 348F / g 的比电容,明显高于其它 还原剂,可能的原因是氢溴酸还原能力较弱,石墨烯表 面经其还原后仍有部分含氧基团存留,这有利于提高 石墨烯亲水性和水电解质的渗透,同时表面含氧基团
还原剂 ( ℃)
( h)
( m2 / g)
NaBH4
80
NaBH4
80
NaBH4
80
36

2
358
36

水合肼 室温
1

水合肼 35
6
52
水合肼 40
72
249
水合肼 50
பைடு நூலகம்
24

水合肼 100
24
267
水合肼 100
24
705
水合肼 98
24

水合肼 95
2
500
水合肼 100
24
267
氢溴酸 110
一般说来,制备的石墨烯材料的比表面积越大,对 其获得更大的比电容越有利。但表 1 给出的目前化学
* 基金项目: 国家自然科学基金资助项目( 20976121) ; 天津市自然科学基金资助项目( 10JCZDJC23800)
收到初稿日期: 2012-02-27
收到修改稿日期: 2012-03-31
通讯作者: 关 毅
剥离 气氛
Ar N2 高真空 空气 空气 真高空 真高空 N2 空气 N2 N2 N2 N2 N2 N2
比表面积 ( m2 / g)
— — 368 328 443 370 382 451. 9 418 273. 85 439 — 737 358 925
比电容 ( F /g)
220 132 264 219 220 269 279 258. 8 224 124 150 167 91 157 117
作者简介: 张利华 ( 1985 - ) ,女,河北邢台人,硕士,师承关毅副教授,从事碳材料研究。
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还原法制备石墨烯的比电容( 100 ~ 200F / g) 与其比表 面积( 50 ~ 700m2 / g) 的关系并非简单的正比关系。
例如以文献[10]和文献[48]制备的石墨烯比表 面积分别是 705、52m2 / g,相差 13 倍以上,但比电容分 别是 135、134F / g 几乎一致。因此,仅根据比表面积大 小来推测石墨烯电化学性能是困难的,因为石墨烯的 电化学性能不仅与其比表面积有关,更与其孔径分布、 表面的基团有关,与其层数有关[49,50]。 表 1 化学还原 GO 法工艺条件及 GNs 的比表面积和
张利华 等: 制备方法对石墨烯电化学性能的影响
区( > 700℃ ) 。低温区内( 见图 3( a) ) ,在真空[64]或空 气[65,66]等气氛 下,随 着 剥 离 温 度 的 升 高,石 墨 烯 比 表 面和比电容均呈略微增加的趋势,但这种改变很有限; 在氮气氛[67,68]下,石墨烯比电容会随着剥离温度上升 而显著增加。中温区从 400℃ 开始,来自氮气氛[68,69] 数据表明,剥离温度上升,比电容和比表面积都会随着 迅速下降。高温区( 见图 3 ( b) ) ,氮气氛[65-67,70,71]下, 石墨烯比表面积( 439 ~ 925m2 / g) 增大,但比电容( 91 ~ 167F / g) 降低,这些表观性能的数据波动剧烈,出现 了比表面积高则比电容低,而比表面积低则比电容反 而高的这种交错现象。
电容数据 Table 2 The data of technological conditions,specific sur-
face area and specific capacitance of NGs prepared by thermo exfoliation of GO
剥离温度 ( ℃) 200 200 200 250 300 300 400 400 400 500 700 800 900 1000 1050
石墨烯上的运动速度远超过在一般导体中的运动速 度,达到了光速的 1 /300[7]; 同时石墨烯的热导率可达 5000W / ( m·K) [8],是金刚石的 3 倍; 石墨烯的拉伸模 量和力学强度分别可达 1000 和 130GPa,是目前已知 最高的[6,9],为钢的 100 多倍。这些说明石墨烯具备了 电化学的理想材料的条件,可以期待今后采用适宜的
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