超纯水系统
超纯水系统工作原理
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超纯水系统工作原理
超纯水系统是通过一系列的物理、化学和生物技术处理步骤,将原水中的悬浮物、溶解物、离子、有机物等杂质去除,从而获得如同纯净水一样的水质。
它的工作原理主要包括以下几个步骤:
1. 原水处理:原水通常通过物理过滤步骤,如过滤器或活性炭吸附,去除较大颗粒的悬浮物、杂质和某些有机物。
2. 高效离子交换:将原水通过离子交换树脂床,树脂中的固定离子与原水中的杂质进行离子交换反应,使得原水中的阳离子和阴离子得以去除。
3. 反渗透:经过离子交换后的水通过反渗透膜,利用半透膜原理去除水中的溶解物、离子、有机物和微生物等。
4. 紫外线消毒:经过反渗透处理的水经过紫外线消毒器,紫外线能够杀灭水中的细菌、病毒等微生物,确保水的安全性。
5. 流量稳定:系统中的流量控制装置能够稳定调节和控制水流量,确保系统的工作稳定。
6. 水质监测与控制:超纯水系统还配备了水质监测和控制设备,可以实时监测水质,根据需要调节处理过程,保证输出水的质量符合要求。
通过以上步骤的连续运作,超纯水系统可以将原水处理成高纯
度、纯净无菌的水质,适用于实验室、制药工业、电子工业等对水质要求较高的领域。
EDI超纯水系统操作技巧使用说明
![EDI超纯水系统操作技巧使用说明](https://img.taocdn.com/s3/m/1f1a45279a6648d7c1c708a1284ac850ac02045c.png)
EDI超纯水系统操作技巧使用说明EDI(Electrodeionization)超纯水系统是一种用于去除水中离子的先进水处理技术。
在EDI超纯水系统的操作过程中,需要注意一些技巧和使用说明,以确保系统的正常运行和高效产水。
以下是EDI超纯水系统的操作技巧使用说明:1.准备工作:在操作EDI超纯水系统之前,需要检查系统的各个部件是否完好无损。
检查水源供应是否正常,并确保水质符合EDI超纯水系统的要求。
此外,还需检查废水排放通道是否通畅,并准备好废水处理措施。
2.启动系统:首先,打开EDI超纯水系统的电源开关,然后按照系统的说明书或厂家提供的操作手册开启各个部件。
确保各个仪表的显示正常,水泵和鼓风机等设备的转动是否正常。
等待适当的时间,直到系统运行稳定。
3.参数设定:根据所需的水质要求,设定EDI超纯水系统的工作参数。
这些参数包括流量、纯水电导率、温度等。
设定合理的参数可以确保系统的高效运行和高纯度的产水。
4.操作控制:5.检查维护:定期检查EDI超纯水系统的各个部件及管路是否正常。
检查水箱、滤芯、阀门等部件是否有松动、漏水等情况,及时进行修理或更换。
定期清洗滤芯和防结垢处理可以延长系统的使用寿命。
6.废水处理:7.停机维护:当EDI超纯水系统需要停机进行维护时,应先关闭系统的电源开关,停止供水和废水排放。
然后按照维护流程进行相应的维护工作,包括清洗部件、更换滤芯等。
维护完成后,再重新启动系统。
8.定期保养:为了确保EDI超纯水系统的长期稳定运行,需要定期进行保养工作。
保养工作包括清洗滤芯、更换耗材、检修管路和设备等。
保养工作可以延长系统的使用寿命,并提高系统的产水效率和纯度。
总之,EDI超纯水系统的操作技巧使用说明包括准备工作、启动系统、参数设定、操作控制、检查维护、废水处理、停机维护和定期保养等方面。
只有正确操作和维护,才能保证EDI超纯水系统的高效产水和长期稳定运行。
使用者应仔细阅读系统的操作手册和说明书,并根据实际情况合理操作和维护系统。
超纯水课件
![超纯水课件](https://img.taocdn.com/s3/m/2d098826a31614791711cc7931b765ce05087a3a.png)
盐量的增加,脱盐率会稍许增加。海水淡化反渗透膜元件不同,由于海水淡化
反渗透膜更加致密,在给水含盐量高时,脱盐率会下降得非常缓慢。
产水流量
脱盐率
给水含盐量 含盐量越高,产水流量越小
给水含盐量
含盐量太大或太小,脱盐率降低
2.5.3 温度的影响
温度对脱盐率和产水量的影响非常大。对全部类型的反渗透膜元件来说,
复合膜:交链全芳香族聚酰胺结构 优点:脱盐率更高、水通量更大、工作压力更低
2.4反渗透的原理
➢ .渗透压 当一张半透膜隔开溶液与纯溶剂时,加在溶液上并使其恰好能阻止纯溶剂进入
溶液的额外压力称之为渗透压,通常溶液中溶质的浓度越高渗透压就越大。 ➢ 渗透(Osmosis)
当溶液一侧没有加压时,纯溶剂会通过半透膜向溶液一侧扩散,这一现象称为 渗透(Osmosis)。 ➢ 反渗透(Reverse Osmosis)
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1.2超纯水(UPW)的标准
➢中国电子行业超纯水国家标准GB/T1146.1-1997 ➢电子行业、半导体业标准:ASTM D5127-99
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中国电子行业超纯水国家标准GB/T1146.1-1997
中国电子行业超纯水国家标准 GB/T1146.1-1997
指标\级别
EW-Ⅰ
EW-Ⅱ
EW-Ⅲ
电阻率 MΩ,cm(25℃)
2.5.4 pH值的影响
➢ pH值对纳滤和反渗透膜元件的影响有两个方面: ➢ ①正常运行时对脱盐率的影响。 ➢ ② 清洗时不同pH值的清洗效果以及清洗时pH值的范围。 ➢ 对第一点来说,正常运行时应该接近中性,即pH值7左右。这是由两个因 素决定的: ➢ ① 反渗透膜在pH值7.5 – 7.8时脱盐率最高,图1.6所示为透盐率随pH值的 变化曲线。
超纯水制备系统
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超纯水制备系统
超纯水在许多领域的应用中起着至关重要的作用,如制药、电子、
化工等。
为了满足对超纯水的需求,超纯水制备系统应运而生。
本文
将对超纯水制备系统的工作原理、组成部分以及应用进行详细介绍。
一、工作原理
超纯水制备系统通过一系列工艺来去除水中的各种杂质,从而获得
高纯度水。
其工作原理主要包括预处理、反渗透、电离交换等过程。
首先,原水经过预处理设备去除大部分的固体颗粒、胶体和有机物质;然后,通过反渗透膜的作用,去除水中的溶解盐和无机物质;最后,
通过电离交换树脂的吸附作用,进一步去除水中的离子杂质,得到超
纯水。
二、组成部分
超纯水制备系统一般由进水过滤器、活性炭过滤器、反渗透膜组件、电离交换柱、紫外线消毒器等部分组成。
进水过滤器用于去除水中的
大颗粒杂质,活性炭过滤器用于去除有机物质和氯等物质,反渗透膜
组件是去除溶解盐和无机物质的关键部件,电离交换柱用于去除水中
的离子杂质,紫外线消毒器则是为了保证超纯水的无菌性。
三、应用
超纯水制备系统广泛应用于制药、电子、化工、实验室等领域。
在
制药行业,超纯水用于药品生产的洗涤、溶解、配制等过程;在电子
行业,超纯水被用于半导体芯片的制造过程;在化工领域,超纯水则
用于精细化工产品的生产;在实验室中,超纯水则是科研工作中必不可少的实验试剂。
综上所述,超纯水制备系统通过一系列的工艺步骤,去除水中的各种杂质,获得高纯度水,满足不同领域对超纯水的需求。
其在制药、电子、化工和实验室等领域具有广泛的应用前景,对推动相关产业的发展起着至关重要的作用。
超纯水系统操作说明书
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超纯水系统工艺操作使用说明书84T/H M M F+U F+2R O+E D I+S M B超纯水系统(18MΩ²C M超纯水系统)目录一. 工艺流程 (2)二. 操作条件 (3)三.安全 (3)四.工艺说明 (3)五. 系统设备清单 (9)六.单体设备操作说明 (11)七. 安装说明 (67)八. 仪表校正与更换 (69)九. 控制说明 (69)十.耗材及加药明细 (70)本系统主要是对原水进行预处理及精处理,以达到去除水中的有机物、无机物、胶体、溶解性离子、颗粒物,满足终端用户超纯水水质要求。
一、工艺流程根据用户原水水质要求,本系统所配工艺流程如下:二、操作条件1)操作人员必须经过专业的培训;2)设备、仪器、仪表等应检查合格并已及时排除故障;3)在运行前确认控制盘上的开关在正确位置;4)设备的手动阀应在正确位置;5)注意化学加药必须符合操作要求;6) 排水沟排水通畅;7)控制电源:220V±10%,动力电源:380V±10%;8)水箱氮封用高纯氮气:3-5bar,约30Nm3/h;9) 仪表用压缩空气:3-5bar,约150NM3/H;三、安全1)保持持车间内无灰尘杂质,尤其在超纯水系统的车间;2)保持通讯设施正常;3)现场必须有足够的经过检查的防火设施来保证设备及员工的安全;4)门窗及加热保温设施应该处于良好的情况下,以保证设备的安全;5)工作环境中的所有设施都必须保证状态良好;6) 清洁水源、毛巾、塑料手套、防护眼镜等应该常备在工作及相关人员容易得到的地方;7)室内光照明系统等应做到保证操作人员的安全以及操作的顺利进行;8)操作人员必须经过安全培训并且通过相关测试;9) 为了保证设备及员工的安全,当系统在运行过程中,应使用挂上“禁止乱操作”、“危险”、“系统带电”等标牌;10)禁止让工作无关人员进入工作现场,以免带来系统设备的危害与损失;四、工艺说明如下:原水箱(TK-UPW-01-A)用于储存原水进水,起到缓冲及调节水量的作用,防止进水压力或水量有波动,保证后续系统安全稳定的运行。
超纯水一体系统的使用流程
![超纯水一体系统的使用流程](https://img.taocdn.com/s3/m/bd888721c4da50e2524de518964bcf84b8d52d4f.png)
超纯水一体系统的使用流程1. 介绍超纯水一体系统是一种高纯度水处理设备,用于去除水中的杂质和离子,以产生超纯水。
它广泛应用于实验室、制药、电子和化工等行业。
本文将介绍超纯水一体系统的使用流程。
2. 步骤下面是使用超纯水一体系统的一般步骤:1.准备工作–检查设备:确保超纯水一体系统的各个组件都处于正常工作状态。
–接通电源:将超纯水一体系统连接到稳定的电源,并确保电源供应稳定。
–接水管道:将超纯水一体系统连接到供水管道,并确保水源清洁。
2.启动设备–打开电源:打开超纯水一体系统的电源开关,并确保指示灯亮起。
–系统自检:超纯水一体系统会进行自检,检查各个部件的运行状态。
–准备超纯水箱:清洁并准备好超纯水箱。
3.运行超纯水一体系统–设置参数:根据实际需求,设置超纯水一体系统的工作参数,如流量、纯化级别等。
–开始运行:按下启动按钮,超纯水一体系统开始运行。
–监控运行状态:通过超纯水一体系统的显示屏或指示灯,监控系统的运行状态,确保一切正常。
4.使用超纯水–准备容器:准备好干净的容器,用于收集超纯水。
–打开出水阀门:打开超纯水一体系统的出水阀门,让超纯水流入容器中。
–收集超纯水:将超纯水收集到容器中,注意避免污染。
5.关闭超纯水一体系统–停止运行:按下停止按钮,超纯水一体系统停止运行。
–关闭阀门:关闭超纯水一体系统的出水阀门。
–断开电源:关闭超纯水一体系统的电源开关,并断开电源供应。
6.设备维护和清洁–定期维护:定期检查超纯水一体系统的各个部件,包括滤芯和纯化模块,以确保其正常运行。
–清洁保养:根据设备操作手册的指导,进行设备清洁和保养工作,以延长设备使用寿命。
3. 注意事项在使用超纯水一体系统时需要注意以下事项:•确保水源干净:超纯水一体系统需要用到干净的水源,避免使用含有杂质的水源。
•防止污染:在收集超纯水时,务必使用干净的容器,并避免容器接触到任何污染物。
•定期维护:定期检查和维护超纯水一体系统的各个部件,以确保其正常工作和长时间稳定供水。
超纯水系统参数
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超纯水系统工程方案
![超纯水系统工程方案](https://img.taocdn.com/s3/m/c50fa08d294ac850ad02de80d4d8d15abe2300a5.png)
超纯水系统设计方案目录一、设计条件及出水水质 3二、设计根本资料4三、主要组件设备说明5四、工艺方案流程及说明11五、调试及售后效劳容12一、设计条件及出水水质1.1 进水主要水质指标:市自来水1.2 用户对出水要求:出水量:超纯水9吨/小时出水水质:主机系统超纯水:电阻率≥18MΩ.㎝25℃;出水温度:常温。
1.3水质检测:随机自带有电导率仪,出水电导率在线显示。
1.4 设备最终产水量:纯水10吨/小时25℃;超纯水9吨/小时25℃;1.5系统总进水量:15m3/h;1.6一级反渗透的回收率≥60%;1.7第一级反渗透的浓水直接排放;1.8 CEDI装置回收率:85~95%,浓水回收为RO系统原水。
1.9 控制方式:PLC自动&手动控制。
二、设计根本资料2.1 设计依据〔1〕"中华人民国环境保护法"〔2〕"中华人民国水污染防治法"〔3〕"给排水构筑物施工及验收规"〔GBJ125-1989〕〔4〕"给排水管道工程施工及验收规"〔GB50268-1997〕〔5〕"给排水工程构造设计规"〔GBJ69-1984〕〔6〕"低压电器设计规"〔GB50054-1995〕〔7〕"水处理设备制造技术条件"〔|T2932-1999〕〔8〕相关反渗透膜生产厂家所提供技术资料。
2.2、设计原则1.采用成熟、先进的工艺,运行可靠,操作简单方便。
2.对反渗透膜清洗系统目前的建立投资于今后的运行费用做综合技术经济分析,尽可能用最少的资金到达理想要求。
3.根据厂方的实际情况,采用先进设备,占地少,投资省,运行费用低,操作管理方便。
4. 对回收统总费用投入的增量与回收系统运行的可靠性及发生故障时对环境的危害性作综合技术经济分析,尽可能用最少的资金投入到达系统运行平安可靠,操作简单方便。
超纯水系统设备选型标准
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超纯水系统设备选型标准超纯水系统是一种用于生产及实验室应用的水处理系统,其最终产生的水质几乎为去离子水,水纯度高达18.2兆欧姆。
为了满足各种应用的高水质需求,超纯水系统遵循着一系列的选型标准。
本文将探讨这些标准。
一、设备的用途在选购超纯水系统设备时,需要考虑其最终的用途是什么。
这有助于确定设备的规格、型号和配置。
例如,如果超纯水系统被用于制造半导体芯片等高科技产品,那么其净水质量需要达到极高的水平,同时还需要呈现稳定的水质表现。
但是,如果超纯水系统仅是用于实验室的基础研究工作,那么对于水质的要求就可以放宽一些。
超纯水系统的利用率必须符合实际需求。
因为如果设备利用率低,那么维护和保养的成本也会低。
但是,如果设备的利用率比较高,那么必须选购更高精度、更便捷、更耐用的设备。
三、水的特性超纯水系统能够去除水中的离子、有机和无机污染物,但是因为地理位置不同,水源的性质也因此而异。
因此,在选购超纯水设备时,需考虑不同水源的特性,例如水的硬度、水的 pH 值以及水质的化学成分等等,最终选购出最合适的超纯水设备。
四、设备的功率超纯水系统设备的功率是其关键性能之一。
功率高的机器可以更快速地产水,节省时间。
反之,功率低的机器,生产的水量会比较慢,可能无法满足实验室的需求。
五、设备的维护和保养在选购超纯水系统设备时,设备的维护和保养是另一个重要因素。
因此,需考虑它们的成本和易用性。
例如过滤器、离子交换树脂和纤维膜等,它们是超纯水系统设备中关键的部分。
因此,选购前需要考虑这些零件的价格、维护周期和使用寿命等等。
六、设备的生产商和供应商最重要的是选择一家信用度高、知名度好的水处理公司,以保证实验室和工业应用的超纯水质量得到保 prove。
应选购正规资质的产商、品牌,以保障超高水质的要求。
总而言之,选购超纯水系统设备是一个需要结合多种因素并进行充分调查的过程。
选购时需考虑设备用途、利用率、水的特性、功率、维护和保养以及生产商和供应商等各种因素,以确保最后选购的设备高品质、高效率而不破坏生态环境。
电子厂厂房超纯水系统简介
![电子厂厂房超纯水系统简介](https://img.taocdn.com/s3/m/fd3f581077c66137ee06eff9aef8941ea76e4bba.png)
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为达此目标,找出方法将生产过程中杂质和尘粒污染最小
化是必须的,亦即杂质和尘粒不应在制程中被产生或黏着 于任何表面上。换言之,整个生产环境,包含材料、夹具( j i g s,e.g., cassettes andc h u c k s )、操作员、和机械手臂, 即生产时晶圆所暴露的区域:晶圆制程区、传输、和储存 等都需要严格的洁净(cleanliness) 与纯度(purity) 标准。然而, 对移除晶圆表面污染物这样是不够有效的, 也因此洁净制
密度骤然降低,对于大部分液体,密度随温度降低而增加,且当其
变成固体时,密度会再增加。
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当具有较微小图案之组件的积集度持续增加时, 晶圆表
面的微小缺陷( m i n u t edefects) 和微量杂质(trace impurities) 将更严重影响其性能( p e r f o r m a n c e ),它们会劣化元件的 特性与可靠度( r e l i a b i l i t y ),进而降低ULSI 电路生产的良率 ( y i e l d )。晶圆表面的污染不只损害晶圆基板与组件的质量, 堆积障碍(oxidation-induced stacking faults ,O S F )、和氧化物 崩溃缺陷等。组件常受这些缺陷(defects) 和污染(contamination)
的影響,且缺陷和污染合并的效应对组件的损害也常常相当严 重,例如研究者发表每一O S F的不同漏电流值(leakage current per OSF),如表二[ 1 ]所示,不同数值可归因于在不同的O S F有 不同程度的污染,
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简言之,污染的程度构成漏电流的一主要因素。表三[1 ]为晶圆表面 与组件失效(device failure)的相互关系,如微尘(fine particle) 将在微影 程产生图案偏差(pattern failure)、介电质上残余的有机合成物( o rga compound) 将使内存(memory) 的中止时间失效(pause timef a i l u r e n 接面(p-n junction) 上的细菌( b a c t e r i a )会导致接面漏电流(juncti leak)、碱金属(alkaline metal) 易造成介电质崩溃强度[崩溃电压] (diel breakdown) 的降低、和重金属(heavy metal) 会缩短少数载子寿命(m carrier lifetime) 进而影响组件的效率等。假设在组件主动区域(active 的缺陷和污染可能导致一个缺陷组件,一个组件的良率(the yield of device,Y) 可以波松分布(Poisson distribution)来估算:Y = e( - D A ), 缺陷密度(defect density),A:每一芯片的主动区域面积(active area chip)。图二[ 1 ]展示动态随机存取内存( D R A M )每一世代的芯片尺 (chip size) 和记忆胞尺寸( c e l ls i z e ),如图所示,主动区域面积随芯 寸加大而增大。图三[ 1 ]显示缺陷密度与组件良率的相互关系,严谨 制缺陷密度以维持相同的组件良率是必须的,例如:对于6 4M,缺 度应被降低到4M 缺陷密度的一半或以下。
超纯水系统方案设计规范
![超纯水系统方案设计规范](https://img.taocdn.com/s3/m/68628de948649b6648d7c1c708a1284ac9500571.png)
超纯水系统方案设计规范随着科技的不断进步,超纯水已经变得日益重要,超纯水系统方案也随之越来越多样化。
大家在开发这些方案时不光要考虑产品的性能和质量,还要关注方案的普遍性和存储型。
因此,本文将详细介绍超纯水系统方案的设计规范。
1. 水质标准超纯水的质量标准非常严格,而且在不同领域还会有不同的需求,因此需要有一些常用的水质类型和标准,供大家参考。
比如在半导体供应链中,超纯水需要满足ASTM D1193-91标准,电子级别的水的导电率最大约为0.056uS/cm,在微电子加工中,电阻率必须达到18.2MΩ.cm。
当然,这些标准是建立在正常操作水平的基础上的,如果超纯水在异常情况下,比如断水、浓缩等,就需要重新评估质量标准。
2. 设计原则超纯水系统方案的设计需要考虑很多因素,包括在线性能、生命期、成本、景观等的平衡。
以下几个设计原则很重要:①系统可靠性:超纯水作为生产线和实验室的重要输入,通常需要365天、7x24小时的连续运行,因此必须确保系统的可靠性。
例如,通过备份传感器、使用无人值守的控制器、预警措施等,防止系统多重故障情况下的超纯水正常输出。
②纯净度标准:不同系统的纯净度标准不同,系统的设计概念在于如何将要求转化为一套完整的技术方案。
通过分析浆液处理的需求、水质接口的设计等,明确每个操作的纯度需求,从而进行合适的系统选择。
3. 操作规程超纯水系统是实验室和工业生产的基础设施,必须规定标准的操作规程,以确保长期稳定的运行。
因此,需要建议制定相应的操作规程。
①水质监测:超纯水需要经常进行检测,这些检测对于系统的稳定和可靠性非常重要。
需要对操作的频率和强度进行合理配置,特别是对在线水质监测系统的规定。
②数据管理:设计系统时应该考虑相应的数据管理规程。
这样,可以记录下系统内每个个体的水质状态、操作状态和故障状态,有利于优化系统整体性能。
4. 操作手册任何合格的超纯水系统操作手册都应该包含以下三部分的说明:①设计规范:包括超纯水泵、压力设备、过滤器、膜分离设备等的详细设计规范,以及相应的安装和维护要求。
超纯水系统
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超纯水设备超纯水设备是采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法,将水中的导电介质几乎完全去除,又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备。
简介超纯水最初是美国科技界为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水,如今超纯水已在生物、医药、汽车等领域广泛应用。
这种水中除了水分子(H20)外,几乎没有什么杂质,更没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物,当然也没有人体所需的矿物质微量元素,超纯水无硬度,口感较甜,又常称为软水,可直接饮用,也可煮沸饮用。
超纯水,是一般工艺很难达到的程度,如水的电阻率大于18MΩ*cm,接近于18.3MΩ*cm则称为超纯水采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法,将水中的导电介质几乎完全去除,又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备。
超纯水系统设备的脱盐核心部件为进口反渗透膜组件,超纯水系统设备通常由预处理部分,反渗透主机部分,后处理部分共同组成。
1、预处理由石英砂过滤器、活性碳过滤器、全自动软水器、精密过滤器组成(我司采用全自动控制阀头),也可选用超滤系统作为预处理,但通常工程造价要高。
预处理主要目的是去除原水中含有的泥沙,铁锈、胶体物质、悬浮物、色度、异味、生化有机物。
当原水中硬度较高时,可选择全自动软水器,这样有效的保护了反渗透膜,从而延长了反渗透膜的使用寿命。
2、反渗透主机主要由高压泵、膜壳、进口反渗透膜组件,在线仪表、控制电气等组成。
只要膜的数量及泵的型号选型得当,反渗透主机脱盐率及产水量都能达到额定指标,出水电导率可保证在≤10us. CM以下,(原水电导率小于500us/cm,工作温度:1~40℃)3、后处理部分是对反渗透制取的纯水作进一步的深化处理以制取超纯水,通常是离子交换混床设备或EDI设备,根据客户要求,出水阻率可达到18.2MΩ.CM,如果是应用在直饮水工艺上,则加上杀菌装置即可,通常为紫外线杀菌器或者臭氧发生器,从而使生产出来的水达到直饮标准。
超纯水系统
![超纯水系统](https://img.taocdn.com/s3/m/df70290a763231126edb11c5.png)
超纯水系统超纯水最初是美国科技界为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水,如今超纯水已在生物、医药、汽车等领域广泛应用。
这种水中除了水分子(H20)外,几乎没有什么杂质,更没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物,当然也没有人体所需的矿物质微量元素,超纯水无硬度,口感较甜,又常称为软水,可直接饮用,也可煮沸饮用。
超纯水,是一般工艺很难达到的程度,如水的电阻率大于18MΩ*cm,接近于18.3MΩ*cm则称为超纯水。
PURIST超纯水系统是上海瑞枫生物科技有限公司自行研制的超纯水系统,它采用了内含进口核级离子交换树脂和核级活性碳的4柱超级纯化柱,终端安装精密的0.22µm除菌级过滤器,彻底去除水中的离子和有机物,出口经过高精度在线电阻率仪的检测,实时显示产水水质,确保用户放心使用。
系统及纯化柱采用精密注塑工艺成型,外形美观,结构紧凑,占地面积小,在机器两侧有特别的人性化设计的用于移动的把手位,免维护,免清洗。
PURIST超纯水系统对进水的要求为蒸馏水或反渗透水,同时该系统还有多种可选的柱型,适应原水的水质改变和产水的水质的不同要求。
PURIST超纯水系统所产超纯水可作为仪器分析的配套首选,广泛用于IC、AA、ICP、HPLC、UV-Vis、LC-MS、ICP-MS以及哺乳动物细胞培养用的缓冲液和培养基制备、分子生物学试剂制备等。
PURIST超纯水系统产水技术指标:产水流速:1~1.5L/min 产水水质:电阻率:18.2 MΩ·cm 总有机碳(TOC)≤ 10 ppb (紫外型≤ 5 ppb)颗粒(>0.22µm)< 1 /mL 外形尺寸:长×深×高(mm):205×350×450 机器重量(含柱工作重量):6.5kg(12kg)纯水电导率:0.1uS/cm-20uS/c主要用途:纺织印染造纸用水;化学试剂生产用水;精细化学药剂生产用水;日用化妆品生产用水等。
超纯水系统操作规程
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超纯水系统操作规程《超纯水系统操作规程》一、目的超纯水系统是用于实验室、制药厂等地方的重要设备,为了保证系统正常运行并确保水质符合要求,制定本操作规程。
二、操作人员1. 只有经过系统培训并且获得操作许可的人员可以操作超纯水系统。
2. 操作人员必须熟悉系统的结构和原理,能够正确使用操作面板和监控设备。
三、操作流程1. 开机前检查a. 确保进水管道及电源供应正常。
b. 检查超纯水系统的滤芯、膜元件等设备,确认没有损坏或者堵塞。
c. 检查操作面板的参数设置是否合适。
2. 启动系统a. 依次按照系统启动流程打开进水阀门、主电源开关。
b. 根据操作面板的指示操作,开始运行系统。
3. 运行监控a. 操作人员应时刻监控系统的运行情况,注意观察监控面板上的各项参数。
b. 发现异常情况立即停机,并进行故障排查。
4. 关机操作a. 停止向系统供水,停止系统运转。
b. 按照规定的流程关闭电源开关,逐步关闭进水阀门。
四、设备定期检查1. 操作人员需定期对系统进行维护保养,定期更换滤芯、膜元件等易损耗部件。
2. 定期进行系统的清洗和消毒,以保障超纯水的水质。
五、事故处理1. 出现事故时,应立即停机,并进行故障排查。
2. 对发生的故障进行记录和报告,及时向相关部门汇报。
六、保障水质1. 严格遵守操作规程,确保超纯水的生产和使用符合相关规定。
2. 定期对水质进行检测,确保水质符合使用要求。
七、操作记录1. 每次操作结束后,操作人员需填写操作记录表,记录关键参数和操作情况。
2. 确保相关记录完整、真实和可查询。
八、违规处理1. 对违反操作规程的行为,应严格按照公司相关规定进行处理。
2. 对于对超纯水系统操作规程的调整需经过相关审批程序,并重新培训对应人员。
以上就是对超纯水系统操作规程的相关内容,希望所有操作人员能够严格遵守规程,确保超纯水系统安全运行并保障水质。
纯水系统运维方案
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超纯水系统运维方案一、概述二、***项目, 超纯水设计规模为日产水量242T/D(超纯水设计规模进水量17.9m³/H), 主体工艺采用超滤(UF)+两级反渗透(RO)+EDI+高纯抛光混床。
其中超滤系统由1套超滤主机(设计流量15.3m³/H), 配备2台供水泵(1用1备), 1套袋式过滤器, 进水以及反洗的杀菌加药装置, 反洗系统, 以及配套仪器仪表和相应出水水箱组成。
反渗透系统则由2台一级RO送水泵(1用1备)、1台进水换热器、1套保安过滤器、1台一级RO高压泵、1套一级反渗透主机(设计流量13.5m³/H), 1台二级高压泵、一套二级反渗透主机(设计流量11.5m³/H)、膜清洗系统及加药装置、仪器仪表等组成。
EDI系统由2台EDI送水泵(1用1备), 杀菌、前置过滤, EDI系统(设计流量6m³/H), 配套仪表以及清洗系统组成。
EDI纯水由纯水泵(2台, 1用1备)经过换热器进入高纯抛光混床, 高纯水经过高纯水精密过滤器送至用水点。
其中原水箱20m³, UF产水箱20m³、反渗透产水箱20m³、RO 浓水箱10m³和纯水箱12m³。
三、工艺说明系统由二部分组成: 超滤系统和反渗透系统a超滤系统工艺流程说明:超滤系统工艺流程图系统由超滤供水泵负责整个超滤系统总供水, 供水来源于调节池, 调节池与供水泵连锁;在自清洗过滤器之前, 设置进水浊度仪和温度传感器, 检查进水浊度和温度, 当进水浊度较高时, 需降低系统回收率, 原水经过自清洗过滤器, 去除水中大颗粒杂质, 过滤器进出水口设计压差计, 当压力差超过设定值后, 过滤器通过其它滤柱产水进行自动反洗, 同时保证不间断供水。
在超滤装置之前, 设计电磁流量计, 用于计量进水量, 对照浓水量从而计算出超滤装置回收率。
超滤装置为系统关键部分, 主要用于分离悬浮物, 胶体微粒和细菌;被截留物在膜表面富集后, 将导致膜通量的下降, 甚至导致膜通量的不可逆恢复, 系统采用错流过滤或浓水回流过滤, 为了保证超滤装置更长的使用寿命和更好的过滤效果, 超滤膜需进行定时反洗、气洗、正洗、化学加强反洗, 就地化学清洗等操作。
超纯水系统方案
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超纯水系统方案1. 引言超纯水是一种高纯度的水,其中几乎不含有杂质和离子。
在许多领域,如电子制造、医药、化学实验等,对超纯水的需求很高。
超纯水系统是一套用于制备超纯水的设备,本文将介绍超纯水系统的方案。
2. 超纯水系统的工作原理超纯水系统主要由预处理系统、反渗透系统和混床离子交换系统组成。
下面将对各个部分的工作原理进行介绍。
2.1 预处理系统预处理系统主要工作是去除超纯水中的颗粒物和有机物,以确保后续处理的高效性和稳定性。
预处理系统通常包括以下几个步骤:•澄清:通过过滤器或沉淀池去除水中的悬浮颗粒物。
•硬水处理:通过水软化器去除水中的硬度。
•活性炭过滤:通过活性炭过滤器去除水中的有机物和氯。
2.2 反渗透系统反渗透系统是超纯水系统中最关键的部分,它利用半透膜过滤的原理,将水中的溶解物和离子去除,生产出几乎纯净的水。
反渗透系统的工作原理如下:•水通过压力推动进入反渗透膜中。
•反渗透膜只允许溶剂(水分子)通过,而排除溶质和离子。
•被排除的溶质和离子通过压缩的流体流到排放通道。
2.3 混床离子交换系统混床离子交换系统进一步去除反渗透膜不能除去的溶质和离子,确保超纯水达到所需的纯度。
混床离子交换系统的工作原理如下:•混床离子交换器由阴离子交换树脂和阳离子交换树脂组成。
•阴离子交换树脂可以去除水中的阴离子,阳离子交换树脂可以去除水中的阳离子。
•通过交换树脂的循环再生,可以实现长期稳定的处理效果。
3. 超纯水系统方案在设计超纯水系统时,需要根据实际需求选择合适的设备和方案。
下面是一个常见的超纯水系统方案示例:3.1 预处理系统•使用多级过滤器进行澄清处理,包括颗粒过滤器和沉淀池。
•使用水软化器去除水中的硬度。
•使用活性炭过滤器去除水中的有机物和氯。
3.2 反渗透系统•选择高效的反渗透膜,在满足产水量的前提下,尽可能高地去除溶质和离子。
•设计合适的压力和流量控制系统,确保反渗透膜的正常工作。
3.3 混床离子交换系统•设计合适的混床离子交换器,包括阴离子交换树脂和阳离子交换树脂。
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水质指标说明(五)
• 导电率:可用来表示水之纯度,若值愈小,表示该水
体之纯度愈高,单位为microSimen/cm (μs/cm)。
•浊度:即水的外观的一种指标,当水中含有粘土、细 泥、有机和无机胶体、或浮游生物等会悬浮在水中的 物质时,它会将经过的光线折射或反射,当含量较多 时,水看起来就会污浊,它会保护细菌免受消毒的摧 毁,饮用水水质标准的浊度最大限值是 2 NTU 。
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制造超纯水之目的1
A. For 晶片制造
1. 所有酸洗后之DI Rinse清洁用水。
H2SO4 + 50:1 HF + DI QDR + DI Final Rinse + Spin Dry
2. 所有有机溶剂清洗后之清洗
RS-3000 + IPA + DI QDR + DI Final Rinse + Spin Dry 3. 黄光显影后清洗 Developer + DI Rinse + Spin Dry 4. 机械研磨清洗用水 DI Rinse + Spin Dry
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纯水水质介绍〈二〉
• Fe
<0.5 ppb
• Zn • Cr
<1.0 ppb <0.1 ppb
• Mn
<0.5 ppb
• Cu
<1.0 ppb
•F
<0.1 ppb
• Na
<0.1 ppbK • Residue
<0.1 ppb <10 ppb
制造流程(一)
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制造流程(二)
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前处理装置概述
•当原水进入超纯水厂后,一般先会有前处理系统 (pretreatment)将原水作初步处理,以克服原 水水质的变动,生产质与量均较为稳定的水,进 入之后的净化系统-一级处理(或初级处理, primary treatment)系统。
纯水之不纯物对制程之影响3
• SiO2 : 溶于水中之硅离子易在湿蚀刻制程时与DO反应 生成SiO2附着于晶片表面或在oxide film之形成 过程中,造成膜厚不均
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纯水水质介绍〈一〉
项目
本实验室之规格
0.13制程
• Resistivity
18.0@ 25℃, MΩ-cm >18.2
超纯水系统
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超纯水系统
• 水质介绍及用途说明 • 纯水制造流程介绍 • 前处理介绍 • 一级处理单元介绍 • 精炼段介绍 • 配管注意事项 • 新技术介绍
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水质之定义
•其水性质质就是是一水定的的性。质但,水化是学很上好水的的溶分剂子,式故为我H2们O , 日常所接触的天然水由其来历之不同,各含有 不同量之各种成分,因而影响其原有性质。
• 钠离子 Na+ ″
• 钾离子 K+ ″
• 碳酸根离子CO3-2 ″ • 硫酸根离子SO4-2 ″ • 氯离子 Cl- ″
• 硝酸根 NO3- ″
原水 法规(饮用水水质标准)
7.0~7.7 6.0~8.5
240~370
80~90
30~35 20~60 2.4~3.6 70~90
碳酸钙系统是 水质化学上, 最常用来表示 硬度之系统
0.3
• 总硅量 SiO2 ″ • 溶解二氧化碳 ″
5.0~10.0 9.8~12.6
• 自由余氯 ″
0.2~1.2 0.2~1.0
• 总有机碳 TOC ″
1.1~2.5
• 污泥指数
6.0~6.7
• 温度
℃
15~27
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原水水质介绍〈三〉
项目
单位
• 溶解性固体 SS ppm
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制造超纯水之目的2
B. For 机台一般用水
1. Implanter / Etcher / CVD补充用水。 2. 厂务PCW调整水阻质用补充水 3. 厂务OAC设备Spray water补充水 4. QC实验室用水
C. For 设备零件清洗
1. 石英管/ Sputter shielder / Etcher电极等,PM Parts 清洗用水。
水质指标说明(四)
•氯盐:氯盐与人体健康并无密切关系,之所以会订定 标准主要是因为含有超过 250 毫克/公升的氯盐的水 喝起来有咸味,同时氯盐亦是一种污染指标,例如滨 海地区地下水的氯盐较高,即是受到海水侵入的影响。
•硫酸根:此项标准的订定系考量高于此浓度的水可能 会使饮用者腹泻。
•锰:含有高于此标准的水会产生黑色或黑褐色使得饮 用者会怀疑而不敢饮用,同时易将衣服染色影响美观。
•下半部为过滤部份为以无烟煤、石英砂及碎石填充的过 滤装置,水于进入之前通常先加入5%之PAC药水,以促 使细微的分散颗粒转换成可过滤的胶质型态而凝聚沉淀。
≧18.2 ≦1 ≦5 ≦1 ≦0.1
0.25 µm 256M Dram
≧18.2 ≦1 ≦2 ≦1 ≦0.1
0.13 µm 1G Dram
≧18.2 ≦0.5 ≦1 ≦0.5 ≦0.05
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现况简介〈二〉
0.5µm
0.35 µm
16M Dram 64M Dram
•铁:铁的自来水标准之订定系考量水的美观及其它用 途,含有高于此标准铁含量的水在与空气接触后,铁 会被氧化使水变成黄褐色,饮用者会怀疑而不敢饮用, 同时易将衣服染色影响美观。
•锰:含有高于此标准的水会产生黑色或黑褐色使得饮 用者会怀疑而不敢饮用,同时易将衣服染色影响美观。
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• 色度
铂钴单位
• 总菌落数
CFU/mL
原水 170 <5 --
法规 600 5 100
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水质指标说明(一)
•自由余氯:自来水多以氯气或次氯酸钠消毒,当氯气
溶于水中会变成次氯酸或次氯酸根离子,即俗称有效 余氯,因次氯酸具有极高的氧化能力,如自来水含有 效余氯,它在配水管中停留时可预防细菌(病原菌)的 滋生。
• 常用的混凝剂:包括多元氯化铝(PAC, 分子式 Al2(OH)nCl6-n)、明矾(alum, Al2(SO4)3.18H2O)以 及高分子混凝剂(polymer coagulant)等。
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前处理装置(一)-混凝沉降过滤单元2
•去除氧化金属、氧化硅等胶状物质,及有机酸、藻类, 并保护后置的逆渗透膜免遭悬浊物污染。其凝集沉淀过 滤装置构造上半部为沉淀槽。
≦0.05 ≦10
≦0.1 ≦1 ≦5 ≦10 ≦0.02
≦0.02 ≦2
0.25 µm 256M Dram
≦0.01 ≦0.1 ≦1 ≦5 ≦0.01
≦0.01 ≦1
0.13 µm 1G Dram
≦0.2 ≦3 ≦0.01
≦0.01 ≦1
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纯水制造流程介绍
• 主要为去除水中之不纯物,包括悬浮物、微粒子、有机物、 微生物、电解质及气体等,由此提高纯水电阻值至极限程 度,以确保水质之高纯度。
• 为达到此严格的要求,本系统将针对各类不纯物应用特定 之单元处理,包括前处理过滤设备、逆渗透设备、离子交 换塔、紫外线单元、精炼混床塔、超过滤设备等逐一介绍。
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•总菌落数:被选择作为微生物(病原菌)的指标,如自
来水被检出有超过标准的总菌落数,即表示净水和供
水管理不够完善,必须立即加以改善以确保饮用者的
安全。
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水质指标说明(三)
•色度:当水中含有色物质时,肉眼即可看出颜色,而 颜色的深浅即是色度,一般而言河川水常含有腐植物, 所造成的颜色多为黄褐色,这种颜色与铂钴溶液的色 系相同,故其单位以铂钴单位表示。
D. For 化学品稀释
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纯水之不纯物对制程之影响1
污染物 重金屬(Fe、Ni、Cu、Zn 等)
III 族元素(B、Al 等) V 族元素(P、As、Sb 等) 放射性元素(U、Th) 無機物(Cl、Br、NO2、NH3)
有機物
微粒子
影響 氧化膜的絕緣耐壓不良,減少壽命 增加 p、n 接合漏電量 p 反轉不良 n 反轉不良 放出 α 射線,導致軟體錯誤 形成異物 顯影速度異常 腐蝕 氧化膜的絕緣耐壓不良 裂縫 顯影速度異常 模型缺陷 形成膜異常
•水分子的2个 O-H键约呈105o角,加上氧的阴电 性较强,会将共享的价电子往自身方向拉,而 形成氧略带负电、氢略带正电的极性分子,使 其成为甚佳之溶剂。