类金刚石碳薄膜对碳膜导电性能的影响
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・ , 为 电阻值 ( , w为试样 横截 面尺 寸 ( ) L m)R Q) P m , 为测距 ( . m)
2 结 果 与 讨 论
2 1 等 离子镀 膜对 碳膜 形貌 结构 的影响 . 从经 过镀膜 后 的碳膜 的扫 描 电镜 图可 以观察 微观 结构 及其各 个组 分之 间 的结 合情 况.图 1中 a图是初 始 炭膜 的表 面的扫 描 电镜 图 , b图是碳 膜 在经过 4h镀 膜后 的扫 描 电镜 图.从 两副 图 的对 比可 以看 出镀膜 前 碳 膜表 面 比较 光滑 , 镀膜 后碳 膜表 面有 明显 的沉积 物形成 .
Re u t ho e ha h e i tviy o heD IC im s i ta l e r a e nd t n i c e s d w ih s ls s w d t tt e r s s i t ft fl niily d c e s d a he n r a e t i c e sng d p ii n tm e T he D IC im bt i d a e sto i e o d t e l w e t n r a i e osto i . fl o a ne ta d po ii n tm f 3 h ha h o s
3h 4h 气 体流量 分别 为 3c / n和 4 m ri. , , m。 mi 7c / n a
1 4 分 析 方 法 .
采用 S 9 1型微 欧计 测试样 品 的电阻值 , X1 3 电阻率 用 以下公 式计 算 : —R ・ vL 式 中 』为 电 阻率 ( I D P、 / 0 Q
2 2 等 离子镀 膜前后 的 结晶结构 的分析 . 图 2 碳膜 在镀 膜前后 的 X D谱 图 , 膜是 聚酰 亚胺 薄膜 经过 10 0。 化 而成 , 2 是 R 碳 0 C炭 在 0— 2 。 很 强 2有 的 0 2衍射 峰 , 0 表明 聚酰亚胺 薄膜 在热 解期 间形成 六 角碳层 , 并堆 积成 类石 墨片 状结 构.而类 金 刚石 薄膜 是
关 键 词 : 酰 亚 胺 ; 膜 ; 金 刚 石 碳 薄 膜 ; 电 性 能 聚 碳 类 导
中 图 分 类 号 : 1 . 1 O 6 3 7
文献标志码 : A
文 章 编 号 : 0 8 1 1 ( O 】 0 —0 0 — 0 1 0 0 1 2 1 )3 0 5 3
Ef e t o i m o d lk a b n fl o l c r c l f c fd a n i e c r o im n e e t i a c n u tv t f c r o im o d c i iy o a b n fl
r ss i iy of5 6 e itv t . 6× 1 Q ・ . 0一 m
Ke wo ds p y m i y r : ol i de;c r n fl ; d a o i a bo im ; e e t ia ond tv t a bo im i m nd lke c r n fl lc rc lc uc i iy
La z o 0 0,Gan u Chi a) n h u 73 06 s , n
Absr c : r on fl s we e p e a e a b ia i n o l i i i s a he r w a e i l. ta t Ca b im r r p r d by c r on z to fpo y m de fl st a m t ra s m T he a o d l a b n ( n dim n i c r o ke DLC) fl s w e e de st d o he c r on fl s a h fe t f im r po ie n t a b i m , nd t e e f c s o pr p r to o ii nson t e e e ti a on e a a in c nd to h l c rc 1c duc i iy ofc r o im s w e e s ud e . T h ur a e tv t a b n fl r t i d e s fc
子 镀 膜 机 ( 验 室 自制 ) 实 .
1 2 碳膜 的制 备 . 首先将 聚酰亚 胺薄 膜裁成 1 m×1 m 的正 方形 .在 氮气 保 护下 , 多 层 薄膜 叠 在一 起 , 一定 压 力 4c 4c 将 在
和 升 温 速 率 下 层 压 成 型 , 后 在 自制 的 炭 化 炉 中 10 0。 化 形 成 碳 膜 . 然 0 C炭
( ) 膜 前 a镀
( ) 膜 后 b镀
图 1 镀膜前后碳膜的表面形貌 图
Fi The s ra e m or olgy oft a b im s b f e a fe fl s d po ii n g.1 ufc ph o hec r on fl e or nd a t r DIC im e sto
类金 刚石 ( I ) D 薄膜 具 有 良好 的 物理 化 学 特 性 , 如 : 一 定 的 红外 波 段 范 围 内透 明 , C 例 在 硬度 高 , 阻率 电 高, 热导率 高 , 耐磨 损 , 腐蚀 等.它 在光学 , 械 , 抗 机 电子 等领 域 具 有广 阔 的应 用前 景[ 2.自从 l 7 1] - 9 1年 Ai s —
1 3 类金 刚石 薄膜 的制备 .
实验采 用 自行 改装 的等 离子 镀膜设 备制 备 D I c薄 膜 , 设 备采 用 平行 板 电极 , 该 沉积 气 源 从钟 罩 的顶 部 进入 真空 室 , 过调节 直 流负偏 压控 制等 离 子 能量 .实验 中使 用 甲烷 和 氢气 的混合 气 体 作 为沉 积 气 源.薄 通 膜制 备条 件为 : 电压 为 1 5V, 2 气体 流量 比 C H。 ) H/ ( / 的值 为 6 3 , 膜 时 间 分别 为 1h 1 5h 2h .8 镀 , . , ,
sn eg和 C a o 利 用 离 子 束 方 法 制 备 出 类 金 刚 石 薄 膜 以 来 , 出 现 了 直 流 辉 光 放 电 法 、 频 辉 光 放 电 ebr h bt 已 射
法、 双射频 辉光 放 电法 以及 微 波一 频辉 光放 电法 等 一 系列 等 离 子 体增 强 化学 气 相 沉 积法 和 磁 控溅 射 、 频 射 射 溅射 、 真空 电弧 以及 激光烧 蚀 等物理 气 相 沉 积法 [ 等 制 备 方 法.不 同的沉 积 工 艺对 类 金 刚 石膜 的结 构 和
ZH A N G ng ,ZH A N G u— i Pe C ilng, LIIi ,LI W e — a, W A N G o U n xi Xi ng
( a z o h mi l sa c e tro er c e c l s rh I s tt ,P toC i aC mp n i td L n h uC e c e rh C ne f P to h mi e c nt ue er h n o a y L mi a Re a Re a i e
收 稿 日期 :0 0 1 —2 . 21— 2 O
作 者 简 介 : 鹏 (9 0 张 1 8 一) 男 , 理 工 程 师 , 究 方 向为 高 分 子 材 料 .E ma :p n @ 1 3 c r , 助 研 — i z ed 6 .o l n
化
学
研
究
l 实 验 部 分
1 1 试 剂 与 仪 器 .
聚酰亚胺 薄膜 ( 天津 绝缘 材 料 厂 ) S 2 0 1 扫描 电子 显 微镜 ( 国 剑桥 仪 器 设 备公 司 ) 2 0 2 , 一5 MK 1型 英 ,5 0 + P C型 X射线 衍射 仪 ( 日本理 学株式 会社 ) S 9 1 , X1 3 型微 欧计 ( 苏州 电讯 仪器 厂 ) 炭 化 炉 ( , 实验 室 自制 ) 等 离 ,
第 2 卷 第 3 2 期
21 O 1年 5月
化 学 研
CH EM I CA I
究
中 国科 技 核 心期 刊
h y@ h n . d . n x j e u e u c
RESEARC H
类 金 刚石 碳 薄膜 对 碳膜 导 电性 能 的影 响
张 , 玲, 丽, 鹏 张翠 李 刘文霞, 雄 王
m o p l y a d mi r s r c u e o he c r on fl sa fl r na y e i g a s a — r ho og n c o t u t r f t a b im nd DIC ims we e a l z d usn c n ni g e e t o c os op n lc r n mir c e,a d t e rc y t ls r t ewa t did b e nso r y d fr c in. n h i r s a t uc ur s s u e y m a fX a ifa to
性能 产生 很大 的影 响.
由于 聚酰亚胺 结 构 的特殊性 , 期 以来 一 直是 高分 子材料 制 备碳膜 的 热点材 料 , 其碳 化过 程 已有诸 多 长 对 报道.随着研究 的深 入 , 在碳膜 的基 础上 制备 功能 型石 墨材 料成 为 目前 研究 的重点 而 国 内对 此研 究 的报 r , 道 尚不 多见 .本 文作 者采 用 聚酰亚胺 薄膜 层压 炭 化形 成 的碳 膜作 为基 底 , 实验 室 自制 的等 离 子镀 膜 机在 用 碳膜上 制备 类金 刚石 薄膜 , 测试 和分 析 了制 备类 金 刚 石 薄膜 对 碳 膜 的表 面 和 断面 微 观形 貌 的 影 响.由于 电 阻率是 碳材料 和类 金 刚石薄 膜 的重要 特性 , 因此 作 者研究 了制 备类 金刚 石 薄膜 对碳 膜 电阻率 的影 响.
( 国石 油 石 油 化 工 研 究 院 兰 州化 工 研 究 中心 , 肃 兰 州 7 0 6 ) 中 甘 3 0 0
摘
要 : 聚 酰 亚胺 薄膜 为 原 料 , 炭 化 形 成 碳 膜 ; 而 在 碳 膜 表 面 制 备 了类 金 刚 石 碳 ( 薄 膜 , 究 了 制 备 以 经 进 DI C) 研
一
种非 晶态碳 膜 , 在衍射 谱 中没有 明显 的衍 射峰 , 只在 2 为 1 。 5时存在 一个 宽 的衍 射包 , 非 晶态衍 射 5 ~3 。 呈
特征 .
Байду номын сангаас
2 3 沉 积 时 间 对 碳 膜 的 导 电 性 能 的 影 响 .
条 件 对 碳 膜 导 电性 能 的影 响 .采 用 扫 描 电 镜 分 析 了 薄 膜 的 表 面 形 貌 和 微 观 结 构 ; 用 x射 线 衍 射 仪 分 析 了薄 膜 采
的晶 体 结 构 .结 果 表 明 , I D C薄 膜 的 电 阻 率 随 着 沉 积 时 间 的 延 长 先 减 小 后 增 加 ; 沉 积 时 间 达 到 3 h时 , 应 当 相 D I C薄 膜 的 电 阻率 达 到最 小 值 5 6 ×1 _ n ・ . 6 0 ” m.
2 结 果 与 讨 论
2 1 等 离子镀 膜对 碳膜 形貌 结构 的影响 . 从经 过镀膜 后 的碳膜 的扫 描 电镜 图可 以观察 微观 结构 及其各 个组 分之 间 的结 合情 况.图 1中 a图是初 始 炭膜 的表 面的扫 描 电镜 图 , b图是碳 膜 在经过 4h镀 膜后 的扫 描 电镜 图.从 两副 图 的对 比可 以看 出镀膜 前 碳 膜表 面 比较 光滑 , 镀膜 后碳 膜表 面有 明显 的沉积 物形成 .
Re u t ho e ha h e i tviy o heD IC im s i ta l e r a e nd t n i c e s d w ih s ls s w d t tt e r s s i t ft fl niily d c e s d a he n r a e t i c e sng d p ii n tm e T he D IC im bt i d a e sto i e o d t e l w e t n r a i e osto i . fl o a ne ta d po ii n tm f 3 h ha h o s
3h 4h 气 体流量 分别 为 3c / n和 4 m ri. , , m。 mi 7c / n a
1 4 分 析 方 法 .
采用 S 9 1型微 欧计 测试样 品 的电阻值 , X1 3 电阻率 用 以下公 式计 算 : —R ・ vL 式 中 』为 电 阻率 ( I D P、 / 0 Q
2 2 等 离子镀 膜前后 的 结晶结构 的分析 . 图 2 碳膜 在镀 膜前后 的 X D谱 图 , 膜是 聚酰 亚胺 薄膜 经过 10 0。 化 而成 , 2 是 R 碳 0 C炭 在 0— 2 。 很 强 2有 的 0 2衍射 峰 , 0 表明 聚酰亚胺 薄膜 在热 解期 间形成 六 角碳层 , 并堆 积成 类石 墨片 状结 构.而类 金 刚石 薄膜 是
关 键 词 : 酰 亚 胺 ; 膜 ; 金 刚 石 碳 薄 膜 ; 电 性 能 聚 碳 类 导
中 图 分 类 号 : 1 . 1 O 6 3 7
文献标志码 : A
文 章 编 号 : 0 8 1 1 ( O 】 0 —0 0 — 0 1 0 0 1 2 1 )3 0 5 3
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Ke wo ds p y m i y r : ol i de;c r n fl ; d a o i a bo im ; e e t ia ond tv t a bo im i m nd lke c r n fl lc rc lc uc i iy
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Absr c : r on fl s we e p e a e a b ia i n o l i i i s a he r w a e i l. ta t Ca b im r r p r d by c r on z to fpo y m de fl st a m t ra s m T he a o d l a b n ( n dim n i c r o ke DLC) fl s w e e de st d o he c r on fl s a h fe t f im r po ie n t a b i m , nd t e e f c s o pr p r to o ii nson t e e e ti a on e a a in c nd to h l c rc 1c duc i iy ofc r o im s w e e s ud e . T h ur a e tv t a b n fl r t i d e s fc
子 镀 膜 机 ( 验 室 自制 ) 实 .
1 2 碳膜 的制 备 . 首先将 聚酰亚 胺薄 膜裁成 1 m×1 m 的正 方形 .在 氮气 保 护下 , 多 层 薄膜 叠 在一 起 , 一定 压 力 4c 4c 将 在
和 升 温 速 率 下 层 压 成 型 , 后 在 自制 的 炭 化 炉 中 10 0。 化 形 成 碳 膜 . 然 0 C炭
( ) 膜 前 a镀
( ) 膜 后 b镀
图 1 镀膜前后碳膜的表面形貌 图
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类金 刚石 ( I ) D 薄膜 具 有 良好 的 物理 化 学 特 性 , 如 : 一 定 的 红外 波 段 范 围 内透 明 , C 例 在 硬度 高 , 阻率 电 高, 热导率 高 , 耐磨 损 , 腐蚀 等.它 在光学 , 械 , 抗 机 电子 等领 域 具 有广 阔 的应 用前 景[ 2.自从 l 7 1] - 9 1年 Ai s —
1 3 类金 刚石 薄膜 的制备 .
实验采 用 自行 改装 的等 离子 镀膜设 备制 备 D I c薄 膜 , 设 备采 用 平行 板 电极 , 该 沉积 气 源 从钟 罩 的顶 部 进入 真空 室 , 过调节 直 流负偏 压控 制等 离 子 能量 .实验 中使 用 甲烷 和 氢气 的混合 气 体 作 为沉 积 气 源.薄 通 膜制 备条 件为 : 电压 为 1 5V, 2 气体 流量 比 C H。 ) H/ ( / 的值 为 6 3 , 膜 时 间 分别 为 1h 1 5h 2h .8 镀 , . , ,
sn eg和 C a o 利 用 离 子 束 方 法 制 备 出 类 金 刚 石 薄 膜 以 来 , 出 现 了 直 流 辉 光 放 电 法 、 频 辉 光 放 电 ebr h bt 已 射
法、 双射频 辉光 放 电法 以及 微 波一 频辉 光放 电法 等 一 系列 等 离 子 体增 强 化学 气 相 沉 积法 和 磁 控溅 射 、 频 射 射 溅射 、 真空 电弧 以及 激光烧 蚀 等物理 气 相 沉 积法 [ 等 制 备 方 法.不 同的沉 积 工 艺对 类 金 刚 石膜 的结 构 和
ZH A N G ng ,ZH A N G u— i Pe C ilng, LIIi ,LI W e — a, W A N G o U n xi Xi ng
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收 稿 日期 :0 0 1 —2 . 21— 2 O
作 者 简 介 : 鹏 (9 0 张 1 8 一) 男 , 理 工 程 师 , 究 方 向为 高 分 子 材 料 .E ma :p n @ 1 3 c r , 助 研 — i z ed 6 .o l n
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l 实 验 部 分
1 1 试 剂 与 仪 器 .
聚酰亚胺 薄膜 ( 天津 绝缘 材 料 厂 ) S 2 0 1 扫描 电子 显 微镜 ( 国 剑桥 仪 器 设 备公 司 ) 2 0 2 , 一5 MK 1型 英 ,5 0 + P C型 X射线 衍射 仪 ( 日本理 学株式 会社 ) S 9 1 , X1 3 型微 欧计 ( 苏州 电讯 仪器 厂 ) 炭 化 炉 ( , 实验 室 自制 ) 等 离 ,
第 2 卷 第 3 2 期
21 O 1年 5月
化 学 研
CH EM I CA I
究
中 国科 技 核 心期 刊
h y@ h n . d . n x j e u e u c
RESEARC H
类 金 刚石 碳 薄膜 对 碳膜 导 电性 能 的影 响
张 , 玲, 丽, 鹏 张翠 李 刘文霞, 雄 王
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性能 产生 很大 的影 响.
由于 聚酰亚胺 结 构 的特殊性 , 期 以来 一 直是 高分 子材料 制 备碳膜 的 热点材 料 , 其碳 化过 程 已有诸 多 长 对 报道.随着研究 的深 入 , 在碳膜 的基 础上 制备 功能 型石 墨材 料成 为 目前 研究 的重点 而 国 内对 此研 究 的报 r , 道 尚不 多见 .本 文作 者采 用 聚酰亚胺 薄膜 层压 炭 化形 成 的碳 膜作 为基 底 , 实验 室 自制 的等 离 子镀 膜 机在 用 碳膜上 制备 类金 刚石 薄膜 , 测试 和分 析 了制 备类 金 刚 石 薄膜 对 碳 膜 的表 面 和 断面 微 观形 貌 的 影 响.由于 电 阻率是 碳材料 和类 金 刚石薄 膜 的重要 特性 , 因此 作 者研究 了制 备类 金刚 石 薄膜 对碳 膜 电阻率 的影 响.
( 国石 油 石 油 化 工 研 究 院 兰 州化 工 研 究 中心 , 肃 兰 州 7 0 6 ) 中 甘 3 0 0
摘
要 : 聚 酰 亚胺 薄膜 为 原 料 , 炭 化 形 成 碳 膜 ; 而 在 碳 膜 表 面 制 备 了类 金 刚 石 碳 ( 薄 膜 , 究 了 制 备 以 经 进 DI C) 研
一
种非 晶态碳 膜 , 在衍射 谱 中没有 明显 的衍 射峰 , 只在 2 为 1 。 5时存在 一个 宽 的衍 射包 , 非 晶态衍 射 5 ~3 。 呈
特征 .
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2 3 沉 积 时 间 对 碳 膜 的 导 电 性 能 的 影 响 .
条 件 对 碳 膜 导 电性 能 的影 响 .采 用 扫 描 电 镜 分 析 了 薄 膜 的 表 面 形 貌 和 微 观 结 构 ; 用 x射 线 衍 射 仪 分 析 了薄 膜 采
的晶 体 结 构 .结 果 表 明 , I D C薄 膜 的 电 阻 率 随 着 沉 积 时 间 的 延 长 先 减 小 后 增 加 ; 沉 积 时 间 达 到 3 h时 , 应 当 相 D I C薄 膜 的 电 阻率 达 到最 小 值 5 6 ×1 _ n ・ . 6 0 ” m.