激光干涉光刻技术研究
合集下载
相关主题
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性，平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益，请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间：9:00-18:30)。
关键词：光学光刻;全息光刻技术;干涉光刻技术
ABSTRACT
This paper researches on related theories of laser interference lithography based on basic principle of lithography, laser interference, comprehensive exposition of the main types, development trend and the current outstanding problem. Interferometric lithography is a no need to use the complex optical system or optical mask and preparation technology of fine structure, interference lithography, interference and diffraction in laser optics and optical lithography in one. As a new kind of laser interference lithography, has the advantages of simple equipment, low price, high efficiency and high resolution and large field exposure waiting point, to study it, to promote the development of nano optical lithography limit, microelectronic and optoelectronic devices, a new large screen flat panel display and a new lithography has important significance and broad application prospect.
编号
激光干涉光刻技术研究
Laser interferencephotolithography technology research
学 生 姓 名
王新舜
专 业
电子科学与技术
学 号
1112129
指 导 教 师
分 院
光电科学分院
2015年X月
摘 要
本文研究的是基于激光干涉光刻的相关理论，综合论述激光干涉光刻的基本原理、主要类型、发展趋势及当前未解决的难题。干涉光刻技术是一个无需用到复杂的光学系统或光掩膜而制备精细结构的技术手段，干涉光刻技术集激光、干涉和衍射光学及光学光刻于一体。激光干涉光刻作为一种新兴的光刻技术，具有设备简单、价格低廉、高效率高分辨率和大视场曝光等待点，对其进行系统的研究，对推进光学光刻极限，发展纳米微电子和光电子器件、新型大屏幕平板显示器和新型光刻机具有重要意义和广阔的应用前景。
第一章
1.1
功能要求实现高保密性、低重复率、低成本、安பைடு நூலகம்、防盗、防破坏
1.2
方案一通过区分控制电压来实现多路控制
图1-1电压控制方框图
如图1-1，本方案在工作时，发射部分当按键按下时，控制电压生成电路根据不同的按键产生不同的电压，从而控制LD发出信号的强弱；接收部分接收到不同强弱的信号，将其放大，再由电压比较电路分辨出不同大小的电压，并实现对不同路开关的控制。
Keywords:Optical lithographyholographic lithographyinterference lithography
绪 论
随着科学技术的进步和半导体工业的发展,集成电路的特征尺寸越来越小，而激光干涉光刻技术是一种在材料表面大面积加工亚微米尺度周期性结构的技术，是半导体器件制造的又一重要技术，激光干涉光刻能产生周期性点、线结构等特点。集成电路之所以会这样飞速发展，光刻技术功不可没，而其中激光干涉光刻技术又是近几年新兴的一项技术，这对半导体工业和集成电路又是一次巨大的飞跃，所以对激光干涉光刻技术进行研究是必要的。目前国际上对激光干涉光刻技术的研究取得了很大的进展，不仅加工出大面积的小尺度微纳结构在应用性研究上也取得了许多优秀的成果。虽然我国相比于一些发达国家在技术上还有些不足，但也取得了许多优秀的成果，在应用方面提出了突破性的研究。随着科技的进步，激光干涉光刻技术也面临着更多的挑战，例如激光干涉光刻在成本控制、质量稳定性，以及应实用性应用还有很多缺陷。
ABSTRACT
This paper researches on related theories of laser interference lithography based on basic principle of lithography, laser interference, comprehensive exposition of the main types, development trend and the current outstanding problem. Interferometric lithography is a no need to use the complex optical system or optical mask and preparation technology of fine structure, interference lithography, interference and diffraction in laser optics and optical lithography in one. As a new kind of laser interference lithography, has the advantages of simple equipment, low price, high efficiency and high resolution and large field exposure waiting point, to study it, to promote the development of nano optical lithography limit, microelectronic and optoelectronic devices, a new large screen flat panel display and a new lithography has important significance and broad application prospect.
编号
激光干涉光刻技术研究
Laser interferencephotolithography technology research
学 生 姓 名
王新舜
专 业
电子科学与技术
学 号
1112129
指 导 教 师
分 院
光电科学分院
2015年X月
摘 要
本文研究的是基于激光干涉光刻的相关理论，综合论述激光干涉光刻的基本原理、主要类型、发展趋势及当前未解决的难题。干涉光刻技术是一个无需用到复杂的光学系统或光掩膜而制备精细结构的技术手段，干涉光刻技术集激光、干涉和衍射光学及光学光刻于一体。激光干涉光刻作为一种新兴的光刻技术，具有设备简单、价格低廉、高效率高分辨率和大视场曝光等待点，对其进行系统的研究，对推进光学光刻极限，发展纳米微电子和光电子器件、新型大屏幕平板显示器和新型光刻机具有重要意义和广阔的应用前景。
第一章
1.1
功能要求实现高保密性、低重复率、低成本、安பைடு நூலகம்、防盗、防破坏
1.2
方案一通过区分控制电压来实现多路控制
图1-1电压控制方框图
如图1-1，本方案在工作时，发射部分当按键按下时，控制电压生成电路根据不同的按键产生不同的电压，从而控制LD发出信号的强弱；接收部分接收到不同强弱的信号，将其放大，再由电压比较电路分辨出不同大小的电压，并实现对不同路开关的控制。
Keywords:Optical lithographyholographic lithographyinterference lithography
绪 论
随着科学技术的进步和半导体工业的发展,集成电路的特征尺寸越来越小，而激光干涉光刻技术是一种在材料表面大面积加工亚微米尺度周期性结构的技术，是半导体器件制造的又一重要技术，激光干涉光刻能产生周期性点、线结构等特点。集成电路之所以会这样飞速发展，光刻技术功不可没，而其中激光干涉光刻技术又是近几年新兴的一项技术，这对半导体工业和集成电路又是一次巨大的飞跃，所以对激光干涉光刻技术进行研究是必要的。目前国际上对激光干涉光刻技术的研究取得了很大的进展，不仅加工出大面积的小尺度微纳结构在应用性研究上也取得了许多优秀的成果。虽然我国相比于一些发达国家在技术上还有些不足，但也取得了许多优秀的成果，在应用方面提出了突破性的研究。随着科技的进步，激光干涉光刻技术也面临着更多的挑战，例如激光干涉光刻在成本控制、质量稳定性，以及应实用性应用还有很多缺陷。