半导体物理学复习提纲(重点)
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第一章半导体中的电子状态
§ 1.1锗和硅的晶体结构特征
金刚石结构的基本特征
§ 1.2半导体中的电子状态和能带
电子共有化运动概念
绝缘体、半导体和导体的能带特征。几种常用半导体的禁带宽度;本
征激发的概念
§ 1.3半导体中电子的运动有效质量
h2 k 2 导带底和价带顶附近的E(k)〜k关系Ek -E0= i
2m n
半导体中电子的平均速_ dE
度v ;
hdk
2
1 - 1 dE
有效质量的公式:* 2 2。
m n h dk
§ 1.4本征半导体的导电机
构“空穴“
---- -
E p;k p k n 空穴的特征:带正电;m p m n;E n
§ 1.5回旋共振
§ 1.6硅和锗的能带结构
导带底的位置、个数;
重空穴带、轻空穴
第二章半导体中杂质和缺陷能级§ 2.1硅、锗晶体中的杂质能级
§ 2.2川一V族化合物中的杂质能级
杂质的双性行为
第三章半导体中载流子的统计分布
热平衡载流子概念
§ 3.1状态密度
定义式:g(E) ・=dz/dE
H 71
*/ J
—(-1/2
2m
导带底附近的状态密度:g c(E) 4 V3E E c;
—JT
h
3/2 -) 2m*p1/2
价带顶附近的状态密度:g v(E) 4 V E V E
h 3
§ 3.2费米能级和载流子的______________________________
+ ( —j
”I M?* 1
1
Fermi分布函数:f(E) ;
1exp EEVk o T
Fermi能级的意义:它和温度、半导体材料的导电类型、杂质的含量以及能量零点的选取有关。1)将半导体中大量的电子看成一个热力学系
基本概念:施主杂质,受主杂质,杂质的电离能,杂质的补偿作用
统,费米能级E F是系统的化学势;2) E F
可看成量子态是否被电子占据的一个界限。3) E F的位置比较直观地标志了电子占据量子
态的情况,通常就说费米能级标志了电子填充能级的水平。费米能级位置较高,说明有较多的能量较高的量子态上有电子
r E E F
=J k°T
Boltzmann 分布函数:fB(E)e
导带底、价带顶载流子浓度表达式:
E c f B(E)g c(E)dE E c n o
3
——(吨
*2
E F E c_ 2m n kT
n o N C e xp N C 2导带底有效状态密度
k o T h3
-—
2
E E F2npk o T
p0 N exp V - 2
1
3价带顶有效状态密度
一k o T 1 _
(
"h-
丘E V氏的适用范载流子浓度的乘积n o p o NcN V exp NcN V exp 围。
k o T k o T
_ 1 厂(E)
半一1 5^
1 exp
2 k o T
1 +—— f A(E)
1 E F E A
§ 33 本征半导体的载流子浓度
本征半导体概念
本征载流子浓度:n i n o
1
2
p o(N c N V) exp
2k o T
载流子浓度的乘积n o p o
2
n i;它的适用范围
§ 3.4杂质半导体的载流子浓度
电子占据施主杂质能及的几率是
空穴占据受主能级的几率是
E g
1 exp
.=
o = ______ 1” -r __________
o
■ [f ■ ■
r
-.
N b
1
i
n 。为:n 。
N b
f D (E)
+
1
E D E
F
1
exp
2
k o T
N A
P A 为 P A
INf A (E)
1
E F E
A
1 exp
2
k o T
施主能级上的电子浓度
+
受主能级上的空穴浓度
电离施主浓度n o 为:n o N D 电离受主浓度P A为:P A N A 费米能级随温度及杂质浓度的变化n o P A
§ 3.5 —般情况下的载流子统计分布
§ 3.6.简并半导体
1、重掺杂及简并半导体概念;
§ 4.2.载流子的散射.
半导体中载流子在运动过程中会受到散射的根本原因是什么?
主要散射机构有哪些?
电离杂质的散射:P*NT 32
晶格振动的散射: P s
2、简并化条件(n型):E C E F
则杂质浓度N b较小时就发生简并;
V 接近或大于N 时简并;2)AE小,
0,具体地说:1)ND C D
3)杂质浓度越大,发生简并的温度范围越
宽;4)简并时杂质没有充分电离;5)简并半导体的杂质能级展宽为能带,带隙宽度会减小。
3、杂质能带及杂质带导电。
第四章半导体的导电性
§ 4.1载流子的漂移运动迁移率
欧姆定律的微分形式:J二17E;|
漂移运动;漂移速度V d 迁移率曇,单位m/v s或cm/v s;
不同类型半导体电导率公式: pq p