CETOL公差分析流程

CETOL 公差分析流程
从3D上测量出，槽的宽度为20mm，轴的直径为19.5mm.
为了让轴顺利的能装配进槽里面，轴要放多大公差？槽要放多大公差？哪个公差对装配的影响大？下面通过CETOL的分析，寻找以上的答案。

（1）启动Pro/E。

设定工作目录到指定位置。

打开要分析的文件。

（2）启动CETOL，点read form Por/E。

读取Pro/E中的数据并与Pro/E同步。

如果还没有Pro/E 启动文件的连接，点ADD 增加进去就可以了。

在CETOL模型树里已经看到数据读进去了。

（3）定义测量。

因为我们要考虑轴要顺利装配到槽里面，决定性的因素就是槽与轴之间的间隙。

后面就对这个间隙进行分析。

选取槽的一个面按住CTRL 再选轴的表面。

选择测量尺寸的类型（这里是linear）
测量特征的选取，如果选错可以重新选取。

在variation把类型选成limits.把下限设为0，因为少于0就干涉了，装配不进去。

上限设成比最大间隙大就可以了。

可以双击重命名。

（4）定义连接约束
在CETOL 里面必须把连接约束定义好才能进行后续的分析。

要在轴里加入连接约束，首先把轴激活。

（激活后图标会变成黄色）
增加一个连接。

选取槽下平面后，按CTRL再选轴的下平面。

可以点选图标来改变约束类型，也可以直接从下接菜单来选取约束类型。

增加一个约束，选取槽的右边直面，按CTRL 选取轴的圆柱面。

约束类型如下图。

如下图，状态栏显示DOF为0，如果有过约束或者欠约束必须调整约束的类型来使DOF为0。

否则是不能进行分析的。

选上测量的尺寸，然后点show part location. 就可以看到零件在约束后的位置移动范围。

为了方便观看，把模型树全部展开。

把尺寸设成槽宽的一半。

轴要测的是半径。

把公差设为±0.2 （为什么设成0.2而不是0.1？这里是开始的设置，以后跟据分析结果可以改的）
（5）对测量执行分析
看测量的变化范围，如下图可知：
Worst-case 最小有0.2干涉，最大有0.6间隙
可变范围的极限由0~1
蓝图区域为间隙在公差范围内的分布
红色区域为间隙在公差范围内分布干涉部分（从此区域的面积可知发生干涉的概率）
如下图：槽宽一半那尺寸对测量间隙的敏感度为1mm/mm. 意思是half-thickness 增加1mm，间隙增加1mm. Radius 增加1mm,间隙减少1mm.(所以是负的敏感度)
统计贡献度百分比
Radius 和half-thickness 对间隙的贡献度都是50%
Worst-case贡献度百分比
Radius 和half-thickness 对间隙的贡献度都是50%
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gdutang
以上的分析是 half-thicknesst 和 Radius 这两个尺寸的 sigma=3。

对供应商的要求采用 CPK 来控制。

Edit rule 来换成用 CPK 来控制。

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gdutang
（1） 调整 CPK 看干涉情况（公差不变） 把 half-thicknesst 和 Radius 这两个尺寸的 CPK 加严到 1.33。

（因为这两个尺寸的贡献度一样） 如果有贡献度小的尺寸可以不用加严
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gdutang
对尺寸加严后（公差没变还是±0.2） ，统计超差的红色区域明显减少了。

如果把 CPK 加到 1.33,供应商可能制程能力可能没有那么高。

这样会造成很多废品。

（2） 调整公差看干涉情况（CPK 不变） 为了达到能顺利装配目的，可以把 CPK 降低，把公差加严。

把 half-thicknesst 和 Radius 这两个尺寸的 CPK 降到 1。

把公差由±0.2 加严到±0.15.
统计超差的红色区域已经没有了。

零件可能顺利装配。

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gdutang
通过以上两种的分析可知 调整公差看干涉情况（CPK 不变） 更容易达到装配的目的。

所以最后采用把 half-thicknesst 和 Radius 这两个尺寸的 CPK 降到 1。

把公差由±0.2 加严到±0.15.
---------------by gdutang
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