Cadence版图设计环境的建立及设计规则的验证.

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Cadence数字集成电路版图设计与验证 实验指导书 (电子科技大学)

Cadence数字集成电路版图设计与验证   实验指导书 (电子科技大学)

数字集成电路版图设计与验证实验指导书电子科技大学微电子与固体电子学院实验名称数字集成电路版图设计与验证一、实验目的与意义随着IT产业的迅猛发展,微电子集成电路在通讯、计算机及其他消费类电子产品中的重要地位日益突出,而IC的生产和设计技术水平是决定IC芯片性能的两大要素。

该实验是正向设计中电路仿真完成之后、工艺制版之前的必须环节,与其他实验相结合,可以使学生对当前国际主流的IC设计技术流程有较完整的认识。

本实验是基于微电子技术应用背景和《微电子集成电路》课程设置及其特点而设置,为IC设计性实验。

其目的在于:•根据实验任务要求,综合运用课程所学知识自主完成相应的数字集成电路版图设计,掌握基本的IC版图布局布线技巧。

•学习并掌握国际流行的EDA仿真软件Cadence的使用方法,并进行版图的自动布局布线设计与验证。

通过该实验,使学生掌握数字专用集成电路版图设计的流程,加深对课程知识的感性认识,增强学生的设计与综合分析能力,掌握自主进行数字集成电路版图设计与验证的基本方法,进而为今后从事科研、开发工作打下良好基础。

二、实验原理2. 1 Cadence 环境的调入1、在UNIX 操作系统的Terminal窗口下→ cd user/userxxx/studname/Project→ icms& 或icfb&2、出现CIW(command Interpreter window)命令解释画面3、点选在CIW窗口的上面工具列Tools→Library Manager,会出现LM窗口LM(Library Manager)2. 2 建立新的Library1.点选LM窗口上面的工具列File→New→Library2.会产生New Library画面3.出现下图画面1.在name填上Library名称2.点选下面的OK4.出现Load Technology File窗口,添加工艺文件2.3 电路版图的自动布局布线2.3.1 启动Automatic Layout Tool1.打开已经设计完成的电路图Schemic2.点选 Tools --> Design Synthesis --> Device-Level Editor ,将弹出对话框,定义版图名,最好取与前面cell view 相同的名字。

cadence_实验

cadence_实验

• 4、vi .cdsinit 在文件的最后一行的上面添加如下 内容(添加内容的前面没有分号) : • load(“/opt/mentor/caliber/lib/caliber.skl”) • load(“/opt/mentor/caliber/lib/caliber.4.3.skl”) • 主要用于版图的验证使用 • 如图所示:
• 接着添加vdd 与gnd
• 添加管脚,使用快捷键p,Pin Names 为in,Direction 为input, Usage 为schematic,然后在原理图编辑窗口空白处点击一下鼠标, 会出现输入管脚in 。
• 使用相同的方法,添加输出管脚out,此时Pin Names 为out, Direction 为output,Usage 为schematic 。

• 创建视图单元/原理图(cell view):在主 窗口中Tools->Library Manager,在 Library 中单击 wo(刚才建立的新库),在 Library Manager 窗口,然后选择File->New->Cell View,设置Cell Name为inv,View Name 为Schematic,Tool为ComposerSchematic,点击OK ,弹出Schematic Editing的空白窗口。
一、实验环境搭建
• 1、解压TSMC0.35.tgz 使用命令:tar –xzf TSMC0.35.tgz • 2、新建一个工作目录:mkdir jiang 将用到的工艺文件和 显示文件(在TSMC035/Virtuoso 下面)拷贝至工作目录 jiang下 。 • 工艺文件:035ms.tf 显示文件:display.drf • 3、拷贝IC工具自带的.cdsinit文件到工作目录jiang下面 3 IC .cdsinit jiang • cp /opt/asic_labs/apps/IC5141/tools.lnx86/dfII/cdsuser/.cdsi nit ./ • 这样,在原理图和版图界面中就可以使用快捷键了。

cadence版图使用说明

cadence版图使用说明

目录目录 (1)设计环境介绍 (2)工作站常用命令 (2)运行Cadence (6)运行Layout (10)运行schematic的编辑 (15)生成schematic symbol (18)运行Artist的仿真环境 (20)设计示例的简单介绍 (21)设计环境介绍典型的全定制Full-Custom模拟集成电路设计环境1. 集成的设计环境-Cadence Design Framework II是众多Cadence 工具集成在一起的统一的界面,通过这个架构,不用繁琐的数据格式转换,就可以方便的从一个工具转到另一个工具。

其中包括很多软件,如:原理图编辑工具-Composer布局编辑工具-Candence virtuoso布局验证编辑工具-Diva, Dracula2. 电路网表或原理图编辑环境-Text editor / schematic editor3. 电路模拟软件-spice操作系统环境和硬件平台1.SUN工作站;UNIX系统2.运行Linux的PC3.作为终端的PC工作站常用命令一、在terminal窗口键入的基本命令:1. ls:列出目录下所有文件。

2. clear:清除terminal窗口里的内容。

3. pwd:显示目前工作的目录。

4. cd:改变当前目录。

5. rm:刪除文件。

6. cp:复制文件。

7. mv:移动文件。

8. mkdir:建立目录。

9. rmdir:刪除目录。

10. find:寻找文件。

11. passwd:改变当前用户密码。

12. finger:显示当前用户信息。

二、基本操作和命令的使用介绍:1.从PC登录工作站,一般使用exeed或Xmanager。

login :___________(输入username)password:___________(输入密码)2.登出步骤:点击exit3.在线命令说明(以下的example% 表示系统的提示符)example% man [command-name]4. 改变当前目录example% cd [name]Example:example% cd dir1 改变目录位置,至dir1目录下。

集成电路版图设计cadence设计流程

集成电路版图设计cadence设计流程

集成电路版图设计cadence设计流程下载温馨提示:该文档是我店铺精心编制而成,希望大家下载以后,能够帮助大家解决实际的问题。

文档下载后可定制随意修改,请根据实际需要进行相应的调整和使用,谢谢!并且,本店铺为大家提供各种各样类型的实用资料,如教育随笔、日记赏析、句子摘抄、古诗大全、经典美文、话题作文、工作总结、词语解析、文案摘录、其他资料等等,如想了解不同资料格式和写法,敬请关注!Download tips: This document is carefully compiled by theeditor.I hope that after you download them,they can help yousolve practical problems. The document can be customized andmodified after downloading,please adjust and use it according toactual needs, thank you!In addition, our shop provides you with various types ofpractical materials,such as educational essays, diaryappreciation,sentence excerpts,ancient poems,classic articles,topic composition,work summary,word parsing,copy excerpts,other materials and so on,want to know different data formats andwriting methods,please pay attention!集成电路版图设计的Cadence设计流程详解集成电路(IC)版图设计是半导体行业中至关重要的环节,它直接影响到芯片的性能、功耗和可靠性。

cadence 规则

cadence 规则

在电子设计自动化(EDA)领域,Cadence是一家提供EDA工具的知名公司。

在Cadence的工具中,设计规则(Design Rules)是设计流程中的关键部分。

这些规则定义了电路板或芯片的物理和电气特性,确保设计在制造和操作过程中能够正常工作。

在本文中,我们将深入探讨Cadence设计规则的重要性、不同类型的规则以及它们在EDA工具中的应用。

### **1. Cadence设计规则的重要性:**设计规则在EDA工具中的重要性不可忽视,它们有助于确保设计的可靠性、性能和可制造性。

以下是一些设计规则的重要方面:#### **可靠性和性能:**设计规则确保电路在操作中的可靠性和性能。

通过定义电路中各个元件的准确位置、尺寸和连接方式,规则确保电路在预期工作条件下能够稳定运行。

#### **制造可行性:**设计规则在制造过程中起到了至关重要的作用。

它们确保设计是可制造的,可以满足制造工艺的要求。

例如,规定最小特征尺寸、间距和层间连接的规则有助于确保制造过程的成功。

#### **减少错误和返工:**遵循设计规则有助于减少设计中的错误和需要返工的可能性。

通过在设计阶段检测和解决问题,可以提高整个设计流程的效率,并减少后续阶段的成本。

#### **提高设计团队协作:**规则的使用也有助于提高设计团队之间的协作。

它们提供了设计的标准,确保每个设计者都遵循相同的规范,从而简化了设计审核和交接的过程。

### **2. Cadence设计规则的分类:**在Cadence工具中,设计规则可以分为多个类别,每个类别都关注电路设计的不同方面。

以下是一些常见的设计规则类别:#### **物理设计规则:**- **DRC(Design Rule Check)规则:** DRC规则关注电路的物理布局,确保元件之间的间距、连接等满足工艺和制造的要求。

- **LVS(Layout vs. Schematic)规则:** LVS规则用于验证布局与原理图之间的一致性,确保设计与预期的电气特性相匹配。

Cadnece版图设计技巧总结

Cadnece版图设计技巧总结

Cadnece版图设计技巧总结Cadence 版图设计技巧总结在集成电路设计领域,Cadence 版图设计是至关重要的环节。

它不仅关系到芯片的性能、功耗和可靠性,还直接影响到芯片的制造成本和生产周期。

对于版图设计师来说,掌握一些实用的技巧能够显著提高设计效率和质量。

接下来,就让我们一起深入探讨 Cadence 版图设计中的那些关键技巧。

一、布局规划良好的布局规划是成功版图设计的基础。

在开始设计之前,需要对整个芯片的功能模块进行合理划分,并确定它们之间的连接关系。

这有助于减少布线长度,降低寄生电容和电阻,从而提高芯片的性能。

首先,要考虑电源和地的分布。

电源和地网络应该尽可能地均匀分布,以减少电压降和噪声。

可以采用多层金属来构建电源和地的平面,以提供低阻抗的路径。

其次,对于高速信号线路,要尽量缩短其走线长度,并避免穿越其他信号密集区域。

同时,要注意信号之间的隔离,以防止串扰。

另外,在布局时还要预留足够的空间用于放置 ESD(静电放电)保护器件、测试结构和封装引脚等。

二、器件匹配在模拟和混合信号电路中,器件的匹配性对性能有着重要影响。

为了实现良好的匹配,需要遵循一些原则。

首先,将需要匹配的器件放置在相邻位置,并采用相同的方向。

这样可以减少由于工艺偏差引起的不匹配。

其次,对于对称的电路结构,要保持布局的对称性。

例如,差分放大器的两个晶体管应该具有相同的环境和布局。

此外,在布线时,要确保匹配器件的连线长度和宽度相同,并且走在相同的层次上。

三、布线策略布线是版图设计中的关键步骤之一。

合理的布线策略可以减少信号延迟、串扰和功耗。

对于电源线和地线,要使用较宽的金属线来降低电阻。

同时,要避免出现锐角和狭窄的通道,以防止电流集中和电迁移现象。

对于信号线,要根据信号的频率和特性选择合适的布线层次。

高频信号通常需要走在顶层金属层,以减少寄生电容。

在布线过程中,要注意控制走线的阻抗,以保证信号的完整性。

另外,要合理设置过孔的数量和位置。

Cadence版图设计环境的建立及设计规则的验证.

Cadence版图设计环境的建立及设计规则的验证.

Cadence版图设计环境的建立及设计规则的验证摘要:对版图设计需要的工艺库(technology file)文件、显示(display)文件的书写进行了详细分析,并对设计规则验证(DRC)中遇到的问题进行了解释。

关键词:工艺库;显示文件;设计规则验证;版图Cadence提供的Virtuoso版图设计及其验证工具强大的功能是任何其他EDA工具所无法比拟的,故一直以来都受到了广大EDA工程师的青睐[1],然而Virtuoso工具的工艺库的建立和Dracula的版图验证比较繁琐。

本文将从Virtuoso的工艺库的建立及Dracula版图的设计规则验证等方面做详细介绍。

1Technology file与Display Resource File的建立版图设计是集成电路设计中重要的环节,是把每个元件的电路表示转换成集合表示,同时,元件间连接的线网也被转换成集合连线图形[2]。

与电路设计不同的是版图设计必须考虑具体的工艺实现,因此,存放版图的库必须是工艺库或附在别的工艺库上的库。

否则,用隐含的库将没有版层,即LSW窗口是空框,无法画图。

因此,在设计版图前必须先建立工艺库,且要有显示文件(display resource file)displaydrf。

technology file中应包含以下几部分[3]:层定义(Layer definitions)、器件定义(Device definitions)、层物理电学规则(Layer, physical and electrical ru les)、布线规则(Place and route rules)和特殊规则(Rules specific to individual Cadence applications)。

层定义中主要包括:(1)该层的用途设定,用来做边界线的或者是引脚标识的等,有cadence系统保留的,也有用户设定的。

(2)工艺层,即在LSW中显示的层。

基于Cadence的电路版图绘制及验证PPT文档30页

基于Cadence的电路版图绘制及验证PPT文档30页
基于Cadence的电路版图绘制及验证
16、自己选择的路、跪着也要把它走 完。 17、一般情况下)不想三年以后的事, 只想现 在的事 。现在 有成就 ,以后 才能更 辉煌。
18、敢于向黑暗宣战的人,心里必须 充满光 明。 19、学习的关键--重复。
20、懦弱的人只会裹足不前,莽撞的 人只能 引为烧 身,只 有真正 勇敢的 人才能 所向披 靡。
谢谢你的阅读
❖ 知识就是财富 ❖ 丰富你的人生
71、既然我已经踏上这条道路,那么,任何东西都不应妨碍我沿着这条路走下去。——康德 72、家庭成为快乐的种子在外也不致成为障碍物但在旅行之际却是夜间的伴侣。——西塞罗 73、坚持意志伟大的事业需要始终不渝的精神。——伏尔泰 74、路漫漫其修道远ห้องสมุดไป่ตู้吾将上下而求索。——屈原 75、内外相应,言行相称。——韩非

cadence讲义版图设计验证(清华微电子所)

cadence讲义版图设计验证(清华微电子所)

基本版图设计 (具有交互 DRC 功能)
基本版图设计 (具有自动化设 计工具和交互验 证工具)
系统启动
3 系统级启动命令
命令
规模
swb
s
msfb
l
icfb
xl
功能
Pcb 设计
混合型号IC设 计 前端到后端大 多数工具
系统启动
系统启动
Command Interpreter Window(CIW)
集成电路设计流程
客户
版图验证 设计规则检查 互连参数提取
功能定义 电路生成 功能验证 测试生成 布局布线
后仿真
算法设计 逻辑综合 可测性设计 低功耗设计
CELL 设计流程
符号生成 模拟
创建工艺文件
版图单元 验证版图 反标注
生成参数化单元 生成复杂阵列
打印输出
生成抽象
单元转换系统组ຫໍສະໝຸດ 结构❖大多数 Cadence 工具使用同样的库模型, 库结构按目录结构组织数据,这利于不 同工具之间的数据交互和一致操作。
系统组织结构
❖Terms and Definitions
库(library):特定工艺相关的单元集合 单元(cell):构成系统或芯片模块的设计对象 视图(view):单元的一种预定义类型的表示 CIW:命令解释窗口 属性(attributes):预定义的名称-值对的集合 搜索路径(search path):指向当前工作目录和
系统启动
5 工艺文件(technology file)
技术文件包含了设计必需的很多信息,对设计,尤其 是版图设计很重要。它包含层的定义,符号化器件定 义,几何、物理、电学设计规则,以及一些针对特定 Cadence 工具的规则定义,如自动布局布线的规则,版 图转换成 GDSII 时所使用层号的定义。

Lab 1 Cadence系统环境设置与基本操作

Lab 1 Cadence系统环境设置与基本操作

Lab 1 Cadence系统环境设置与基本操作lab1cadence系统环境设置与基本操作Lab1存储系统环境设置和基本操作1.实验目的熟悉cadence系统环境,了解CIW窗口的功能,掌握基本操作方法2.实验原理系统启动①前端启动命令:②版图工具启动命令③系统级启动命令ciw窗口CIW窗口如图1.1所示。

图1.1ciw窗口CIW窗口按功能可分为主菜单、信息窗口和命令行。

信息窗口:给出一些系统信息(如出错信息,程序运行情况等),故而ciw窗口具有实时监控功能。

命令行:通过输入一些用skill语言编写的特定命令,可以用于辅助设计。

菜单栏中有文件、工具、选项、技术文件和其他选项(不同模块下的不同内容)。

以下是一些常用菜单:2.2.1文件菜单library(库)的地位相当于文件夹,它用来存放一整个设计的所有数据,其中包括单元(cell)以及单元(cell)中的多种视图(view)。

单元可以是一个简单的单元,如与非门,也可以是一个更复杂的单元(由多层符号构成)。

view则包含多种类型,常用的有schematic、symbol、layout、extracted等,各自代表的意思在以后实验中将会提到。

新菜单项将在下面的实验中详细介绍。

图1.2newlibrary窗口图1.3createnewfileopen菜单项打开相应的openFile窗口,如图1.4所示。

在“库名称”中选择库名称,在“单元名称”中选择要打开的单元名称,并在“视图名称”中选择视图。

单击浏览以选择库、单元格和视图。

模式项可以在可编辑状态或只读状态下打开。

图1.4openfile窗口图1.5librarymanager窗口退出菜单项退出CIW窗口。

在CIW窗口中,点击右上角的关闭图标“×”可以关闭CIW窗口,但速度较慢;在命令行中输入“退出”,然后按回车键(即回车键)快速退出CIW窗口。

注意:本实验的操作说明中,在保证读者能看懂的前提下,尽量保留cadence系统自带的默认方式以及常用的专有名词。

版图设计与验证知识点

版图设计与验证知识点

版图设计与验证知识点版图设计是集成电路设计中至关重要的一环,它涉及到电路的物理布局、电气连线以及验证等多个方面。

本文将介绍版图设计与验证的核心知识点,包括版图设计的基本原理、验证技术和常见问题解决方法。

一、版图设计的基本原理1. 版图设计概述版图设计是将逻辑设计所得到的电路结构和电气连线转化为实际可制造的物理布局的过程。

它涉及到器件的放置、连线的规划以及信号和电源的引入等内容。

版图设计的目标是满足电路性能要求,并优化面积、功耗和可靠性等指标。

2. 版图设计流程版图设计流程包括电路结构分解、布局规划、连线布线以及电气规则检查等步骤。

在进行版图设计时,需要考虑电路的特性、器件的模型和引脚定义、工艺限制以及可靠性要求等因素,以确保设计的正确性和可生产性。

3. 器件放置与布局器件的放置和布局是版图设计的关键步骤之一。

在进行器件放置时,需要考虑信号传输的延迟、功耗和电磁兼容等因素。

同时,还需要遵循电路结构分解的原则,将电路划分为功能块,并将其放置在合适的位置,以满足设计要求。

4. 连线布线与电源引入连线布线是版图设计的核心内容之一,它决定了电路信号的传输质量。

在进行连线布线时,需要考虑信号的延迟、功耗和敏感度等因素,并采用适当的布线规则和技术来保证电路的性能。

此外,还需要引入电源并进行电源线的布局,以确保电路的稳定性和可靠性。

二、验证技术与方法1. 版图验证概述版图验证是在版图设计完成后,对设计结果进行检查和验证的过程。

它包括电气规则检查、物理设计规则检查、仿真验证和设计规模评估等步骤。

版图验证的目标是发现和修复设计中的错误,并确保设计的正确性和可制造性。

2. 电气规则检查电气规则检查是对电路连接性、电气参数和器件模型等进行验证的过程。

它可以帮助设计师发现并纠正电气连接错误、功耗过高、电压偏差和敏感度等问题。

通过使用专业的电路仿真工具,可以对电路进行全面的电气特性分析和验证。

3. 物理设计规则检查物理设计规则检查是对版图设计的布局、连线和器件布置等方面进行验证的过程。

版图设计规则及验证

版图设计规则及验证

IN GND
4.4 1.4 4.2 1.3 2.2 3.1 3.4 4.5 4.7 2.1 2.1 5.2 4.7 3.1
1.3
VDD
4.4
4.2
4.5 4.7
3.4
OUT
1.1 5.1
反相器最终版图
单元门电路版图总高38μ,阱高18.8μ, 2(W/L)p=(W/L)n.其它尺寸是按规则计算出来的.
5#版为N+掺杂区掩膜。经磷或砷离子注入,扩散推进, 完成N沟管和N阱欧姆接触区的制作。 对于八版工艺 N+区掩膜为P+区版的负版,此版并不需要单独制备, 只需要对4#版的版图进行光刻时采用与4#版相反的光 刻胶即可,即硅片上所有非P+区均进行N+离子(磷或 砷)注入掺杂。由于只有有源区域是薄氧化层,实际上 进入有效的恰恰就是N管的漏,源区和N阱区的欧姆引 出区,硅栅自对准完成了N管和阱区欧姆接触的制作。 大面积的N+掺杂还有利于降低多晶连线电阻。
版图数据 命令文件 ZSE
LDC
CDL/Spice
DRC, ERC
NE LVS
Slognet
PDT
LDX
四、版图验证与检查
DRC(Design Rule Cheek):几何设计规则检查 ERC(Electrical Rule Check):电学规则检查 LVS(Layout versus Schematic):网表一致性检查
目的与作用
保证多晶硅线的必要电导 防止多晶硅联条 保证沟道区尺寸 保证栅长及源、漏区的截 断 保证电流在整个栅宽范围 内均匀流动
多晶硅最小宽 度 多晶硅间距 与有源区最小 外间距 多晶硅伸出有 源区 与有源区最小 内间距
Poly相关设计规则示意图

Candence集成电路版图设计报告

Candence集成电路版图设计报告

目录一、实验目的: (2)二、实验工具: (2)三、设计规则: (2)1. 版图设计的内容: (2)2. 设计规则(Design Rule ): (2)四、实验原理: (5)1.CMOS反相器工作原理 (5)2.三级反相器工作原理 (5)3.电流镜工作原理 (6)4.差分放大电路 (6)5.基准电压源电路 (7)五、实验内容: (7)1.CMOS反相器 (7)2.三级反相器 (8)3.电流镜 (8)4.差分放大电路 (8)5.基准电压源电路 (8)六、原理图和版图绘制结果: (9)七、版图设计与绘制的总结: (9)1.设计方法、技巧以及要注意的问题 (9)2.心得体会 (9)参考文献 (10)附录 ................................................................................................................... 错误!未定义书签。

一、一、实验目的:1.在Linux系统下熟悉IC设计软件Cadence Virtuoso的使用方法。

2.掌握集成电路基本单元的原理图设计、版图设计的流程方法以及技巧。

然后对其进行基本的DRC检查和LVS检查。

二、实验工具:3.Virtuoso三、设计规则:1. 版图设计的内容:①布局:安排各个晶体管、基本单元、复杂单元在芯片上的位置。

②布线:设计走线,实现管间、门间、单元间的互连。

③尺寸确定:确定晶体管尺寸(W、L)、互连尺寸(连线宽度)以及晶体管与互连之间的相对尺寸等。

④版图编辑(Layout Editor ):规定各个工艺层上图形的形状、尺寸和位置。

⑤布局布线(Place and route ):给出版图的整体规划和各图形间的连接。

⑥版图检查(Layout Check ):设计规则检验(DRC,Design Rule Check)、电气规则检查(ERC,Electrical Rule Check)、版图与电路图一致性检验(LVS,Layout Versus Schematic )。

Cadence版图设计

Cadence版图设计
window 项回到电路图;Save State 项打开相应的窗口,保存当前所设定的模拟所用到的各种
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Cadence cdsSPICE 使用说明
图 1-4-2 Save State 窗口 参数。如图 1-4-2 所示。窗口中的两项分别为状态名和选择需保存的内容。 Load State 打开相应的窗口,加载已经保存的状态。 Reset 重置 analog artist。相当于重新打开一个模拟窗口。 二.Setup 菜单 包括 Design、Simulator/directory/host、Temperature、Model Path 等菜单项: Design 项选择所要模拟的线路图。 Simulator/directory/host 项选择模拟使用的模型,系统提供的选项有 cdsSpice、hspiceS、 spectreS 等等。我们一般用到的是 cdsSpice 和 spectreS。其中采用 spectreS 进行的模拟更加 精确。下面我们只以这两种工具为例说明。 Temperature 打开如图 1-4-3 的窗口,可以设置模拟时的温度。
icfb&↙(回车键) 即进入 cadence 中。出现的主窗口如图 1-1-1 所示。 以上是使用 xstart 登陆 cadance 的方法。在使用其他软件登陆 cadance 时,可能在登录 前要修改文件.cshrc,方法如下: 在提示符下输入如下命令:vi .cshrc↙ (进入全屏幕编辑程序 vi) 将光标移至 setevn DISPLAY ZDASIC22:0.0 处,将“ZDASIC22”改为 PC 机的 IP,其 它不变(重新回到服务器上运行时,还需按原样改回)。改完后存盘退出。 然后输入如下命令: source .cshrc↙ (重新载入该文件) 以下介绍一下全屏幕编辑程序 vi 的一些使用方法:

版图设计环境的建立及设计规则的验证

版图设计环境的建立及设计规则的验证
I | 局布线时 ’ 将照该模块中定义的线宽和线间距进行 { A
工艺库的建立和 > 的版图验证比较繁琐 A 本 文 将 从 n = 0 d 4 = 版图的设计规则验证 y8 n . d 3 ; 3的工艺库的建立及 > n = 0 d 4 = 等方面做详细介绍 A
与\ 的建立 } ~ $ & ! % R ‘ R ^ ZX P ‘ $ P ] W ‘ " Z_ $ ] R V Q & $" P ‘ $
( ’C ’l ’) * * * + ) ’@ , k 2 ; . 8 . d . /3 7 l / m8 0 3 2 : d 0 . 3 no k 2 7 3 n m= . 8 3 2C / 0 1 2 3 4 3 5 6 3 2 5 j 8 g2 8 p / n ; 8 . 6 1 = 2 5 1 = 8 1 8 2 =
版图设计是集成电路设计中重要的环节 ’ 是把每个元 件 的电路表示转换成集合表示 ’同时 ’元件间连接的线网 也被转换成集合连线图形 A与电路设计不同的是版图设 计 必须考虑具体的工艺实现 ’因此 ’存放版图的库必须是
{ ) |
工 艺库或附在别的工艺库上的库 A否则 ’用隐含的库将没 有版层 ’即 # l a 窗口是空框 ’无法画图 A因此 ’在设计版 图 前 必 须 先 建 立 工 艺 库’ 且 要 有 显 示 文 件 ( : 8 ; < 4 = 6 ,: F A n / ; 3 d n 0 /7 8 4 / 8 ; < 4 = 6 : n 7 J | 中 应 包 含 以 下 几 部 分{ -层 定 义 . / 0 1 2 3 4 3 5 67 8 4 / ( , 9器件定义 ( , 9层物 # = 6 / n : / 7 8 2 8 . 8 3 2 ; > / p 8 0 /: / 7 8 2 8 . 8 3 2 ; 理电学规则 ( 布线规 ’< , 9 # = 6 / n 1 6 ; 8 0 = 4 = 2 :/ 4 / 0 . n 8 0 = 4 n d 4 / ; 则 ( ,和特殊规则 ( $ 4 = 0 /= 2 :n 3 d . /n d 4 / ; ? d 4 / ;; < / 0 8 7 8 0. 3 , A 8 2 : 8 p 8 : d = 4 @ = : / 2 0 /= < < 4 8 0 = . 8 3 2 ; 层定义中主要包括 ( E ,该层的用途设定 ’用来做边界线的或者是引脚标 识的等 ’ 有 0 系统保留的 ’ 也有用户设定的 A = : / 2 0 /

CadencePCB设计教程

CadencePCB设计教程

CadencePCB设计教程PCB(Printed Circuit Board)是电子产品中最常见的组成部分之一,它负责将电子元件连接并提供电气连接和机械支持。

Cadence PCB设计工具是一种流行的工具,用于设计和布局PCB。

本篇文章将为您提供一些关于如何使用Cadence PCB设计工具的基本知识和技巧。

1.创建新的设计项目首先,在Cadence PCB设计工具中创建一个新的设计项目。

选择“File”菜单,然后选择“New Project”选项。

在弹出窗口中,输入项目名称和目录,并选择设计项目的类型。

2.添加元件库在设计项目中,您需要使用元件库来选择和添加电子元件。

选择“Library”菜单,然后选择“Add”选项。

在弹出窗口中,选择合适的元件库,并添加到您的设计项目中。

3.添加元件在Cadence PCB设计工具中,您可以从元件库中选择合适的电子元件,并将其添加到设计中。

选择“Place”菜单,然后选择“Part”选项。

在弹出窗口中,选择合适的元件库和元件,并将其放置在设计中。

4.连接元件在设计中,您需要连接电子元件以完成电路。

选择“Route”菜单,然后选择“Connect”选项。

使用鼠标选择电子元件上的引脚,并将其连接到其他元件上的引脚。

通过点击鼠标来完成连线。

5.布局设计6.进行布线在设计中,您需要进行电路板的布线,即将电子元件之间的连接线路完成。

选择“Route”菜单,然后选择“Manual”选项。

使用鼠标将电子元件之间的连线完成。

确保连线符合设计要求,并避免交叉和干扰。

7.添加层和填充在设计中,您可以添加额外的层和填充来改善电路板的性能和可靠性。

选择“Layer”菜单,然后选择“Add”选项。

在弹出窗口中,选择合适的层,并将其添加到设计中。

使用填充来提供电气连接和机械支持。

8.设计验证在设计完成后,您需要对设计进行验证,以确保电路板的性能和可靠性。

选择“Verify”菜单,然后选择“Design Rules Check”选项。

Cadecn软件绘制版图一些研究

Cadecn软件绘制版图一些研究

Cadence软件绘制版图的一些研究高锋(上海电子信息职业技术学院电子工程系上海201411)摘要:本文主要是在本人学习半导体集成电路版图这门课程中,对绘制版图环境的建立及对绘制完成的版图进行验证等方面内容的一些粗浅的见解,希望能得到资深人士的批评与指点。

关键字:版图、版图环境、版图验证some study about layout in cadeneGao Feng(Department of Electronic Engineering ,STIEI,Shanghai 201411 ,Chia)Abstract:In this paper, I study in the course of semiconductor integrated circuit layout, the layout of the environment to create and draw on the drawing to verify completion of the territory of the other aspects of some shallow insights, hoping to get senior members of the criticism and advice.Keywords: layout, layout environment, layout verificationCadence 是CADENCE公司生产的集成电路设计产品的总称,属于目前世界上占垄断地位的几个优秀的EDA软件之一,它在仿真、电路图设计、自动布局布线,版图设计及验证等方面都占有绝对优势,尤其是Cadence提供Virtuoso版图设计及验证工具的强大的功能是其它电子设计自动化(EDA Electronic Design Automation)工具无法比拟的,所以一直以来受到广大EDA工程师的青睐。

所以本文就对Virtuoso环境的建立及Dracula设计验证等方面做些详细的介绍。

版图设计规则及验证

版图设计规则及验证


制定设计规则的目的:使芯片尺寸在尽可能小的 前提下,避免线条宽度的偏差和不同层版套准偏 差可能带来的问题,尽可能地提高电路制备的成 品率。
三、设计规则及工艺参数
版图设计规则的制定 考虑器件在正常工作的条件下,根据实际工艺水平(包 括光刻特性、刻蚀能力、对准容差等)和成品率要求, 给出的一组同一工艺层及不同工艺层之间几何尺寸的 限制,主要包括线宽、间距、覆盖、露头、凹口、面 积等规则,分别给出它们的最小值,以防止掩膜图形 的断裂、连接和一些不良物理效应的出现。
版图数据 命令文件 ZSE
LDC
CDL/Spice
DRC, ERC
NE LVS
Slognet
PDT
LDX
四、版图验证与检查
DRC(Design Rule Cheek):几何设计规则检查 ERC(Electrical Rule Check):电学规则检查 LVS(Layout versus Schematic):网表一致性检查

4#版为P+掺杂区图形掩膜。多晶硅栅本身作为漏, 源掺杂离子注入的掩膜(离子实际上被多晶硅栅阻 挡,不会进入栅下硅表面,称硅栅自对准工艺)。经 硼离子注入,扩散推进,完成P沟管和P型衬底欧姆 接触区的制作。
光刻4:P管源漏区注入光刻
P+注入
N- Si 阱
P-S i Sub
光刻5:N管源漏区注入光刻
N阱层相关的设计规则
编 号 1.1 1.2 1.3 描 述 尺 寸 3.0 6.0 2.5 目的与作用 保证光刻精度和器件尺寸 防止不同电位阱间干扰 保证N阱四周的场注N区环的 尺寸 减少闩锁效应
N阱最小宽度 N阱最小外间距 N阱内N阱覆盖P+
1.4
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Cadence版图设计环境的建立及设计规则的验证
摘要:对版图设计需要的工艺库(technology file)文件、显示(display)文件的书写进行了详细分析,并对设计规则验证(DRC)中遇到的问题进行了解释。

关键词:工艺库;显示文件;设计规则验证;版图
Cadence提供的Virtuoso版图设计及其验证工具强大的功能是任何其他EDA工具所无法比拟的,故一直以来都受到了广大EDA工程师的青睐[1],然而Virtuoso工具的工艺库的建立和Dracula的版图验证比较繁琐。

本文将从Virtuoso的工艺库的建立及Dracula版图的设计规则验证等方面做详细介绍。

1Technology file与Display Resource File的建立
版图设计是集成电路设计中重要的环节,是把每个元件的电路表示转换成集合表示,同时,元件间连接的线网也被转换成集合连线图形[2]。

与电路设计不同的是版图设计必须考虑具体的工艺实现,因此,存放版图的库必须是工艺库或附在别的工艺库上的库。

否则,用隐含的库将没有版层,即LSW窗口是空框,无法画图。

因此,在设计版图前必须先建立工艺库,且要有显示文件(display resource file)displaydrf。

technology file中应包含以下几部分[3]:层定义(Layer definitions)、器件定义(Device definitions)、层物理电学规则(Layer, physical and electrical ru les)、布线规则(Place and route rules)和特殊规则(Rules specific to individual Cadence applications)。

层定义中主要包括:
(1)该层的用途设定,用来做边界线的或者是引脚标识的等,有cadence系统保留的,也有用户设定的。

(2)工艺层,即在LSW中显示的层。

(3)层的优先权,名字相同用途不同的层按照用途的优先权的排序。

(4)层的显示。

(5)层的属性。

器件模块中可以定义一些增强型器件、耗尽型器件、柱塞器件、引脚器件等,这些器件定义好之后,在作版图时可以直接调用该器件,从而减轻重复的工作量。

层、物理、电学规则的模块包括层与层间的规则,物理规则和电学规则。

层规则中定义了通道层与柱塞层。

物理规则中主要定义了层与层间的最小间距,层包含层的最小余量等。

电学规则中规定了各种层的方块电阻、面电容、边电容等电学性质。

布线规则主要为自动布局布线书写的,在启动自动布局布线时,将照该模块中定义的线宽和线间距进行[4]。

书写工艺规则文件时主要应包括以下几项:
显示对于版图设计也很重要,因此要有自己的显示文件(display resource file)displ aydrf。

显示文件应包括以下几个部分[3]:显示器的介绍(显示器中的监控器、绘图仪等的指标)drDefineDisplay()、颜色定义(颜色的定义)drDefineColor()、条纹定义(条纹的定
义)DefineStipple()、线形定义(线形的定义)drDefineLineStyle()、显示包定义(列出各层分别对应的颜色、条纹、线形)
2Virtuoso工具的使用
启动Virtuoso最简单的方法是通过CIW打开或者新建一个单元的版图视图。

启动后出现Virtuoso界面及LSW窗口,从LSW窗口中选择所需要的层画图即可[5]。

Virtuoso作为版图设计,其界面比较容易方便掌握。

3设计规则的书写
电路设计师希望电路设计尽量紧凑,而工艺工程师却希望是一个高成品率的工艺。

设计规则是使他们都满意的折衷[2]。

所以设计规则的编写必须非常规范。

设计规则是一个由用户创建的包含Dracula命令的文本文件,这些命令指定了设计中所用到的验证操作,在结构上主要包含描述块Description block、层定义块Inputlayer block、操作命令块Operation block 三部分。

(1)描述块Description block
这部分定义了Dracula运行于何种系统平台,也包含了要进行验证的版图的一些信息,例如:执行模式、版图模块名称、输入/输出的文件名和格式等。

(2)层定义块Inputlayer block
这部分用来将版图层编号或名称与Dracula层的名称联系起来,同时规定Dracula所需要的关于层的其他信息,在操作命令块中使用到这些层时,可以使用该层的名称。

以下为有关层定义块的示例。

*inputlayer
;layer name ingds description
(3)操作命令块Operation block
这部分主要通过对已定义的层进行逻辑操作,如AND、OR等以进行器件的识别。

此外,还定义将要运行的操作并对出现的错误进行标记,其中必须包含DRC命令,该命令指定Dracula 进行DRC验证操作。

4设计规则的验证
设计规则的验证是版图与具体工艺的接口,因此就显得尤为重要,Cadence中进行版图验
证的工具主要有dracula和diva。

Dracula为独立的验证工具,不仅可以进行设计规则验证( DRC),而且可以完成电学规则验证(ERC)、版图与电路验证(LVS)、寄生参数提取(LPE )等一系列验证工作,功能强于Diva[6]。

通过CIW窗口中的Export→Stream菜单,将版图转变成GDS2格式文件*gds,并存到运行目录下。

在创建了规则文件之后,就可以使用PDRACULA预处理工具对其进行编译。

首先,检查规则文件中的语法错误,通过后方可对规则文件进行编译,并将结果存为可执行文件进行或,这个可执行文件包含了提交Dracula 任务的命令。

在进行验证操作过程中用到的库都应位于当前运行目录或由路径指定链接到该运行目录。

如果库不位于当前运行目录,则由Pdracula建立一个从库到运行目录的链接,并将其加入上述可执行文件中,经jxrun.con执行后产生的错误文件(*DAT)。

打开要验证单元的版图界面,点击file下的Dracula Interactive,DRC,LVS,LPE等窗口弹出在菜单栏上,在DRC菜单下的setup中,给出错误文件的路径,即可将错误报告与Virtuo so的图形界面结合起来,根据错误层的提示,在图中直接修改即可。

根据错误报告的提示,修改版图的步骤为:
(1)将错误文件导入Virtuoso界面。

(2)找到错误层,根据错误提示进行修改。


(3)更新gdsII,编译规则文件,进行DRC验证,重复上述(1),(2)操作,直至版图完全通过DRC验证。

有一类错误比较隐蔽,称为offgrid错误[7]。

这类错误是因为位置位于最小栅格的内部造成的,这样的版图在制版中因分辨率的限制会对尺寸四舍五入,造成数据的失真,甚至可能违反设计规则,故必须修改。

在最高层的offgrid错误易于修改,移动该层或线使其位于栅格边界上,在底层的错误要descend数层后,修改instance才可完成。

5结语
在IC设计过程中,利用Virtuoso做版图的layout,用Dracula作为验证工具,这是比较完美的搭配。

要想快速、准确地完成版图的Layout,就需要正确书写technologe file 文
件、display文件及设计规则文件,以及在设计规则验证时快速的定位错误并修改之,所以掌握这些技能可以减少了设计流程的反复,进而显著降低设计的成本、提高设计的可靠性。

参考文献
[1] Cadence installation guide, Cadence company, product Version2.1.2001,Cadence design systems Inc Printed in the United States of America
[2]程未,冯勇建,杨涵.集成电路版图(layout)设计方法与实例[J].现代电子技
术,2003 ,26(3):7578
[3] Technology file and display resource file user guide Product version 5.0, Jan uary 2003 Cadence design systems Inc. Printed in the United States of America
[4] Virtuoso layout accelerator user guide, product Version 4.4.6, June 20 00,Cadence design systems Inc. Printed in the United States of Americ a
[5] Virtuoso layout editor user guide, product Version 5.0, June 2000,Cadence desi gn systems Inc. Printed in the United States of America
[6]石春琦,吴金,常昌远,等.LVS 版图验证方法的研究[J].电子器件,2002,25(2): 165169
[7]孙润.Tanner集成电路设计教程[M].北京:北京希望电子出版社,2001。

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