电子封装技术第3章

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(完整)半导体集成电路芯片封装技术复习资料_

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半导体集成电路封装技术复习大纲第一章集成电路芯片封装技术1.(P1)封装概念:狭义:集成电路芯片封装是利用(膜技术)及(微细加工技术),将芯片及其他要素在框架或基板上布置、粘贴固定及连接,引出接线端子并通过可塑性绝缘介质灌封固定,构成整体结构的工艺.广义:将封装体与基板连接固定,装配成完整的系统或电子设备,并确保整个系统综合性能的工程。

2。

集成电路封装的目的:在于保护芯片不受或者少受外界环境的影响,并为之提供一个良好的工作条件,以使集成电路具有稳定、正常的功能.3.芯片封装所实现的功能:①传递电能,②传递电路信号,③提供散热途径,④结构保护与支持.4.在选择具体的封装形式时主要考虑四种主要设计参数:性能,尺寸,重量,可靠性和成本目标。

5.封装工程的技术的技术层次?第一层次,又称为芯片层次的封装,是指把集成电路芯片与封装基板或引脚架之间的粘贴固定电路连线与封装保护的工艺,使之成为易于取放输送,并可与下一层次的组装进行连接的模块元件.第二层次,将数个第一层次完成的封装与其他电子元器件组成一个电子卡的工艺。

第三层次,将数个第二层次完成的封装组成的电路卡组合成在一个主电路版上使之成为一个部件或子系统的工艺。

第四层次,将数个子系统组装成为一个完整电子厂品的工艺过程。

6.封装的分类?按照封装中组合集成电路芯片的数目,芯片封装可分为:单芯片封装与多芯片封装两大类,按照密封的材料区分,可分为高分子材料和陶瓷为主的种类,按照器件与电路板互连方式,封装可区分为引脚插入型和表面贴装型两大类。

依据引脚分布形态区分,封装元器件有单边引脚,双边引脚,四边引脚,底部引脚四种。

常见的单边引脚有单列式封装与交叉引脚式封装,双边引脚元器件有双列式封装小型化封装,四边引脚有四边扁平封装,底部引脚有金属罐式与点阵列式封装。

7。

芯片封装所使用的材料有金属陶瓷玻璃高分子8.集成电路的发展主要表现在以下几个方面?1芯片尺寸变得越来越大2工作频率越来越高3发热量日趋增大4引脚越来越多对封装的要求:1小型化2适应高发热3集成度提高,同时适应大芯片要求4高密度化5适应多引脚6适应高温环境7适应高可靠性9。

微电子封装技术智慧树知到答案章节测试2023年潍坊学院

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第一章测试1.封装会使芯片包裹的更加紧实,因此提供散热途径不是芯片封装要实现的功能。

()A:对B:错答案:B2.按照封装中组合使用的集成电路芯片的数目,芯片封装可以分为单芯片封装和多芯片封装两类。

()A:错B:对答案:B3.按照针脚排列方式的不同,针栅排列可以提供较高的封装密度,其引脚形式为()。

A:背部引脚形态B:周边引脚形态C:底部引脚形态D:中心引脚形态答案:C4.针栅阵列式封装的引脚分布形态属于()。

A:底部引脚B:单边引脚C:四边引脚D:中心引脚答案:A5.集成电路的零级封装,主要是实现()。

A:芯片内部器件的互连B:芯片内部不同功能电路的连接C:打码D:键合引线答案:AB第二章测试1.硅晶圆可以直接用来制造IC芯片而无需经过减薄处理工艺。

()A:错B:对答案:A2.当金-硅的质量分数为69%和31%时能够实现共熔,且共熔温度最低。

()A:错B:对答案:B3.玻璃胶粘贴法仅适用于()。

A:塑料封装B:陶瓷封装C:金属封装D:玻璃封装答案:B4.以下芯片互连方式,具有最小的封装引线电容的是()。

A:WB键合B:FC焊接C:Hot-WB键合D:TAB键合答案:B5.集成电路芯片封装的工序一般可分为()。

A:前道工序B:第二工序C:第一工序D:后道工序答案:AD第三章测试1.轴向喷洒涂胶工艺的缺点为成品易受到水气侵袭。

()A:对B:错答案:A2.碳化硅是半导体,因此它不能作为陶瓷封装的材料。

()A:错B:对答案:A3.陶瓷封装工艺首要的步骤是浆料的制备,浆料成分包含了无机材料和()。

A:玻璃粉末B:有机材料C:塑料颗粒D:陶瓷粉末答案:B4.金属封装所使用的的材料除了可达到良好的密封性之外,还可提供良好的热传导及()。

A:抗腐蚀B:保护C:电屏蔽D:支撑答案:C5.降低密封腔体内部水分的主要途径有以下几种()。

A:采取合理的预烘工艺B:抽真空工艺C:尽量降低保护气体的湿度D:避免烘烤后管壳重新接触室内大气环境答案:ACD第四章测试1.双列直插封装的引脚数可达1000以上。

第3章 存储设备

第3章 存储设备
音圈/主轴控制芯片 主控芯片
桥接芯片
晶振
ROM芯片
缓存Байду номын сангаас片
硬盘
硬盘的内部结构
硬盘盘体内部由固定面板、前置控制电路、磁头组件、盘片、主轴、电机、 接口及其他附件组成。
外壳
磁盘盘片 紧固螺孔 主轴 读写磁头 传动手臂
电机磁头驱动小车
前置控制电路
转动轴
硬盘
硬盘的结构
前置控制电路
电磁线圈电机 磁头驱动小车
数据保护与震动保护技术
自动检测并分析硬盘的运转状况,及时修正硬盘发生的问题,提供最高级 别的数据完整性和可靠度保护。 在意外碰撞发生时,尽可能避免磁头和磁盘表面发生撞击,有效地提高硬 盘的抗震性能,减少由此引起的磁盘表面损坏。
MTBF(连续无故障时间)
指硬盘从开始运行到出现故障的最长时间,单位是小时。
永磁体
电磁线圈
读写磁头
传动臂
转动轴
磁头
磁头驱 动机构
盘片和主轴组件
盘片
主轴组件
硬盘
硬盘的逻辑结构
硬盘的术语中有磁头、磁道、扇区、交叉因子等概念,这些都是逻辑的 概念,是为了方便对磁盘上数据的读写而进行的虚拟化操作的称谓。
扇区 磁道
柱面
磁道和扇区
柱面
硬盘
硬盘的接口技术
USB、1394
IDE
硬盘
硬盘的性能参数
平均访问时间(Average Access Time)
又称平均存取时间,包括平均寻道时间、平均潜伏时间与相关的内务操作 时间平均访问时间≈平均寻道时间+平均潜伏时间。
数据传输率(Data Transfer Rate)
包括内部数据传输率和外部数据传输率。

第3章微电子的封装技术

第3章微电子的封装技术

第3章微电子的封装技术微电子封装技术是指对集成电路芯片进行外包装和封封装的工艺技术。

封装技术的发展对于提高微电子产品的性能、减小体积、提高可靠性和降低成本具有重要意义。

封装技术的目标是实现对芯片的保护和有效连接,同时满足对尺寸、功耗、散热、信号传输等方面的要求。

封装技术的发展经历了多个阶段。

早期的微电子产品采用插入式封装,芯片通过引脚插入芯片座来连接电路板,这种封装方式容易受到环境的影响,连接不可靠,也无法满足小型化和高集成度的需求。

后来,绝缘层封装技术得到了广泛应用,通过在芯片上覆盖绝缘层,然后连接金属线路,再通过焊接或压力连接的方式实现芯片与电路板之间的连接。

这种封装方式提高了连接的可靠性,但由于绝缘层的存在,芯片的散热能力受到限制。

随着技术的进步,微电子封装技术也得到了快速发展。

现代微电子产品普遍采用半导体封装技术,具有体积小、功耗低、可靠性强和成本低等优点。

常见的半导体封装技术有裸片封装、焊接封装和微球栅阵列封装等。

裸片封装是将芯片裸露在外界环境中,并通过焊接或压力连接的方式与电路板相连。

这种封装方式具有体积小、重量轻和散热能力强的优点,但对芯片的保护较差,容易受到外界的机械和热力作用。

焊接封装是将芯片与封装底座通过焊接的方式连接起来。

常见的焊接技术有电离子焊接、激光焊接和超声波焊接等。

电离子焊接是利用高能电子束将封装底座和芯片焊接在一起,具有连接可靠、焊接速度快的优点。

激光焊接利用激光束对焊接点进行加热,实现焊接。

超声波焊接则是利用超声波的振动将焊接点熔化,并实现连接。

焊接封装具有连接可靠、工艺简单和尺寸小的优点,但要求焊接点的精度和尺寸控制较高。

微球栅阵列封装是一种先进的封装技术,其特点是将芯片中的引脚通过微小球连接到封装底座上。

这种封装方式不仅提高了信号传输的速度和可靠性,还可以实现更高的封装密度和更小的封装尺寸。

微球栅阵列封装需要使用高精度的装备和工艺,但具有很大的发展潜力。

除了封装技术的发展,微电子封装材料的研究也十分重要。

第二章-电子封装的基本工艺-PDF全

第二章-电子封装的基本工艺-PDF全
优点: 键合温度低,操作方便、灵活,焊点牢固,压
点面积大,无方向性,可自动化焊接。
三种引线键合的焊接拉力比较
热压焊:<0.05N/点 超声焊:>0.1N/点(Al丝, 40µm) 热超声焊:0.07-0.09N/点(Au丝, 25µm)
引线键合可能产生的失效
脱焊(lift-off):原因是焊盘上存在有机沾污或是 表面氧化层太厚 疲劳断裂(fatigue break):原因是生成金属间化 合物,使接触电阻增大。金属间化合物形成的同 时,在焊接点产生空洞,在热冲击、温度循环过 程中,空洞越来越大,导致焊点断裂。 (金属间化合物的生成是二种金属键合的关键, 金属间化合物的剪切强度比纯金和纯铝高。)
TAB的应用
主要应用在低成本,大规模生产的电子产品。
TAB的引线在九十年代: 200—300根,内引线间距50—80um,外引线
间距<0.3mm 2000年:达到800—1000根引线
2.2.3 倒装焊
倒装焊(FCB)是芯片面朝下,芯片焊区直接与基板 焊区直接互连的一种方法。
优点: • 互连线短,互连电容、电阻、电感小,适合高频高速器件; • 占基板的面积小,安装密度高; • 芯片焊区可面分布,适合高I/O器件; • 芯片安装和互连可以同时进行,工艺简单、快速,适合
1.热压焊:
利用加热和加压力使金属丝与Al或Au金属焊区压焊在一 起。 原理:使焊区金属塑性形变,破坏压焊界面氧化层,使金属 丝和焊区金属接触面产生原子间吸引力,达到键合的目的。 此外,界面上、下金属在加热加压下相互镶嵌。 焊接压力:0.5-1.5N/点 焊头温度:150℃ 芯片温度:>200℃ 缺点:高温:氧化,生成金属间化合物;
第二章 电子封装的基本工艺

第3章 逻辑门电路

第3章 逻辑门电路

数字电子技术
门电路的概念:
实现基本和常用逻辑运算的电子电路,叫逻辑门 电路。实现与运算的叫与门,实现或运算的叫或门, 实现非运算的叫非门,也叫做反相器,等等。
分立元件门电路和集成门电路:
分立元件门电路:用分立的元件和导线连接起 来构成的门电路。简单、经济、功耗低,负载差。 集成门电路:把构成门电路的元器件和连线都 制作在一块半导体芯片上,再封装起来,便构成了集 成门电路。现在使用最多的是CMOS和TTL集成门电路。
A 、B 全1 , F才为1。
可见实现了与逻辑
数字电子技术
5. 逻辑符号 6. 工作波形
7. 逻辑表达式
F=A B
二极管与门 (a)电路 (b)逻辑符号 (c)工作波形
数字电子技术
二极管或门电路
1. 电路 2. 工作原理
A、B为输入信号(+3V或0V) F为输出信号
电路输入与输出电压的关系 A B F 0V 0V 0V 0V 3V 2.3V 3V 0V 2.3V 3V 3V 2.3V
1. 电压传输特性
数字电子技术
开门电平UON: 确保输出为“0” 的UIH最小值

输出高电平UOH 输出低电平UOL 输入高电平UIH 输入低电平UIL
关门电平UOFF : 确保输出为“1” 的UIL最大值
数字电子技术
2. 输入噪声容限:


输入低电平噪声容限 允许在低电平上叠加的正向噪声电压 UNL=UOFF - UIL 输入高电平噪声容限 允许在高电平上叠加的负向噪声电压 UNL=UIH -UON
电路为正常 的与非工作 状态,所以 称控制端低 电平有效。
1
Y=AB
0
截止
数字电子技术

中职电子技术工艺基础第6版第3章电子课件(高教版)(共31张PPT)

中职电子技术工艺基础第6版第3章电子课件(高教版)(共31张PPT)

3.5 表面组装元器件的安装方式
1.单面混合安装。 元器件全部安装在印制电路板的一侧 ,采用 的方式有:先贴后插 或先插后贴。
2. 双面混合安装。 元器件分别安装在印制电路板的两测,常采 用的方式是将表面元器件(SMC/SMD ) 贴于A、 B面,把通孔插装元器件(THT)都安装在A面 。 3. 全部采用表面元器件的安装。 该种安装方式可分为单面表面元器件的贴装 和双面表面元器件的贴装。
在编带上的标注除有阻值大小外,还标有 其它参数,如尺寸代码、产品代号、阻值 误差、温度系数、包装方式等。
三、片式电位器
片式电位器的阻值为线性的、而且是 无手动旋转轴的电位器。它可以分为片状、 圆柱状和扁平矩形状。根据结构的不同可 分为敞开式、全密封式、微调式和防尘式 几种。由于安装方法的不同,可分为立式 和卧式两种。
二、片式电阻器
1. 片式电阻器的尺寸代码
片式电阻器的尺寸代码是以它们的外形 尺寸命名的(长×宽),同时用此尺寸来表示 它们的外形大小。外形尺寸由4个数字组成, 并且用英制或公制进行表示。用英制尺寸 表示外形的称为英制代码,用公制尺寸表 示外形的称为公制代码,英制代码与公制 代码的比较如下页所示,应用较多的为英 制代码。
3.3 表面组装工艺流程
1 再流焊工艺流程 采用再流焊安装方式的工艺流程是:固定基板 →涂焊膏→贴装表面安装元器件→低温固化→再 流焊→清洗→检测。 2 波峰焊工艺流程 采用波峰焊安装方式的工艺流程是:安装基板 →点胶→贴片→固化→波峰焊→清洗→检测。 3混合焊组装方式的工艺流程 混合焊组装是指即采用波峰焊,又采用再流焊 的组装方式。
3.6 表面组装用印制电路板
1. 对表面安装印制电路板的要求
表面安装对印制电路板的要求要比通孔安装 的高。由于表面安装的特点,使用的基板尺寸的 稳定性要高、高温特性要好。而且要求基板的机 械特性和绝缘特性必须能满足安装质量和电器性 能的要求。

03 2 载带自动焊

03 2  载带自动焊

电子制造技术基础夏卫生副教授/博士连接与电子封装中心材料科学与工程学院什么是TAB?载带自动焊技术(TAB)最早在20世纪60年代应用于电子封装领域,是为了克服引线键合法无法生产更小尺寸、更高密度I/O数目器件这一缺点而产生的。

到了20世纪80年代,TAB 技术曾一度被认为是芯片高密度封装的主要发展方向。

TAB主要缺陷是成本较高,并只适用于大批量生产。

因此自20世纪90年代起,随着BGA、CSP等在表面贴装技术上的兴起和倒装键合技术的快速发展,TAB技术的应用受到了一定的限制,并在近几年有一定的萎缩。

载带自动焊技术又称载带自动键合法是一种基于金属化柔性高分子载带将芯片组装到基板上的集成电路封装技术。

这种载带是一种金属化膜片,形状类似于电影胶片,两边有走带齿孔,多采用聚酞亚胺(PI)材料制作。

它既作为芯片的支撑体,又作为芯片同周围电路的连接引线。

什么是TAB?TAB工艺步骤1)在裸芯片上形成凸点、制备带内侧端子和外侧端子引线图形的柔性有机薄带;2)将芯片上凸点同载带上的内侧端子通过引线压焊机键合在一起,然后对芯片进行密封保护;3)再经过热压或钎焊将外侧端子与布线板上的焊盘相连接。

TAB关键工艺关键工艺有:•芯片凸点制作•TAB载带制作•内、外引线焊接TAB法适合自动化流水线大批量生产, 效率高; 适应高密度I/O以及高速超大规模集成电路的封装要求。

凸点的制作-I首先在表面沉积一层合金系•采用电镀在硅表面覆盖一层导电层,•防止金扩散到Al和Si中(扩散障碍物)•便于金更好的结合•常用Ti/Ni/W体系(大约是每种金属沉积1000 Å)在Si 圆片上的凸块可以用金或铅锡合金制成,而金是最常见的凸块材料。

金属化制程其通常由三层金属薄膜组成。

附着层(Adhesion Layer):在提供IC晶片上铝焊盘与凸块间良好的j结合力与低接触电阻(Contact Resistance)特性,常用材料为Ti、Cr或Al;阻挡层(Barrier Layer):是阻止晶片上的铝焊盘与凸块材料间的扩散反应,常使用的材料为Pd、Pt、Cu、Ni或W;表层:金起抗氧化保护的作用,凸点润湿连接的作用,又称为润湿层(Wetting Layer)。

1第一讲 电子封装

1第一讲 电子封装

从半导体 芯片到50 微米的工 程领域为 实装工程 将封装体 连接于基 板之上 四个层次构 成了电子封 装工程
电子封装工程的定义
电子封装工程的各个方面: 随半导体大规模集成电路技 术的进展及电子机器设备向 轻量、小型、多功能等方向 的发展,对电子封装工程提 出越来越高的要求。例如, 超高性能化、薄型小型化、 多端子引线、高频、大功耗 以及高可靠性等等。这意味 着电子封装工程所涉卫的科 学技术颂域越来越多,范围 越来越广,问题的难度也越 来越大。
电子封装工程的定义-狭义的封装
狭义的封装 在后工程中完成 利用膜技术及微细连接技术,将半导体元器件 及其它构成要素在框架或基板上布置、固定及 连接,引出接线端子,并通过可塑性绝缘介质 灌封固定,构成整体立体结构的工艺。 前图所示的封装工程是指将封装体与基板连接 固定,装配成完整的系统或电子机器设备,以 确保整个系统综合性能的工程。
第一章 电子封装技术概述
1、电子封装工程的定义及范围 1.1 定义 1.2 范围 1.3 功能 1.4 分类 2、技术课题 2.1 信号的高速传输 2.2 高效率冷却 2.3 高密度化 2.4 防止电磁波干扰技术
第一章 电子封装技术概述
3、从电子封装技术到电子封装工程 3.1 电子封装技术的体系和范围 3.2 电子封装工程的主要课题 3.3 电子封装材料 3.4 电子封装发展的国内外现状
MCM技术是电子封装的发展趋势
电子封装工程的范围-层次划分
3层次 指构成板或卡的装配工序,将多数个完成层次 2的单芯片封装和MCM,实装在PCB板等多层 基板上,基板周边设有插接端子,用于与母板 及其它板或卡的电气连接。 4层次 称为单元组装。将多个完成层次3的板或卡, 通过其上的插接端子,措载在称为母板的大型 PCB板上,构成单元组件。

集成电路芯片封装技术第三章 厚薄膜技术

集成电路芯片封装技术第三章 厚薄膜技术
第三章 厚/薄膜技术
重庆城市管理职业学院
第三章
前课回顾
1.芯片互连技术的分类 1.芯片互连技术的分类
2.WB技术、TAB技术与FCB技术的概念 技术与FCB 2.WB技术、TAB技术与FCB技术的概念 技术
3.三种芯片互连技术的对比分析 3.三种芯片互连技术的对比分析
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第三章
芯片互连技术对比分析
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第三章
传统金属陶瓷厚膜浆料成分—粘结成分 传统金属陶瓷厚膜浆料成分 粘结成分
金属氧化物粘接机理: 金属Cu和Cd(镉)与浆料混合,发生基板表面氧化反 应生成氧化物,金属与氧化物粘结并通过烧结结合在一起。 金属氧化物粘结的优缺点? 金属氧化物粘结的优缺点?
玻璃-氧化物粘接机理: 氧化物一般为氧化锌或氧化钙,低温下可发生反应, 克服了上述两种粘结剂的缺点,称之为混合粘结系统。
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第三章
厚膜浆料
所有厚膜浆料通常有两个共性: 一、适于丝网印刷的具有非牛顿流变能力的黏性流体; 二、有两种不同的多组分相组成,一个是功能相,提供 最终膜的电和力学性能,另一个是载体相(粘合剂),提供 合适的流变能力。
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第三章
牛顿流体和非牛顿流体
牛顿流体指剪切应力与剪切变形速率成线性关系,即在 受力后极易变形,且剪切应力与变形速率成正比的低粘 性流体。凡不同于牛顿流体的都称为非牛顿流体。 牛顿内摩擦定律表达式:τ=μγ 式中:τ--所加剪切应力; γ--剪切速率(流速梯度); μ--度量液体粘滞性大小的物理量—黏度, 其物理意义是产生单位剪切速率所需要的剪切应力。 服从牛顿内摩擦定律的流体称为牛顿流体。
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第三章

电子封装技术综合课程设计

电子封装技术综合课程设计

电子封装技术综合课程设计一、课程目标知识目标:1. 让学生掌握电子封装技术的基本概念、分类及发展历程;2. 了解封装材料、封装工艺及封装设备的基本知识;3. 掌握常见电子封装结构的原理和特点;4. 了解电子封装技术在微电子领域的应用及发展趋势。

技能目标:1. 培养学生运用电子封装技术解决实际问题的能力;2. 提高学生动手操作能力,能够独立完成简单电子封装实验;3. 培养学生查阅相关资料、分析问题、撰写实验报告的能力。

情感态度价值观目标:1. 培养学生对电子封装技术的兴趣和热情,激发学生探究精神;2. 培养学生团队合作意识,学会与他人共同解决问题;3. 增强学生的环保意识,认识到电子封装技术在环保方面的责任和作用;4. 培养学生严谨、务实的学习态度,为我国微电子产业的发展贡献力量。

课程性质:本课程为电子技术专业选修课,以实践为主,理论联系实际。

学生特点:学生具备一定的电子技术基础,对新技术和新工艺感兴趣,动手能力强。

教学要求:结合课程特点和学生实际情况,注重理论与实践相结合,提高学生的实践能力和创新能力。

通过本课程的学习,使学生能够掌握电子封装技术的基本知识和技能,为从事相关领域工作打下基础。

同时,注重培养学生的情感态度和价值观,使他们在学习过程中形成良好的职业素养。

教学过程中,将目标分解为具体的学习成果,以便进行教学设计和评估。

二、教学内容1. 电子封装技术概述- 封装技术的基本概念- 封装技术的分类及发展历程- 封装技术在微电子产业中的应用2. 封装材料与工艺- 常见封装材料及其性能- 封装工艺流程及其原理- 封装设备的基本知识3. 常见电子封装结构- QFN、BGA、CSP等封装结构原理及特点- 封装热管理、电性能分析- 封装可靠性评价4. 电子封装技术应用与发展- 微电子领域典型应用案例- 封装技术发展趋势及新型封装技术- 环保型封装技术及其在绿色制造中的应用5. 实践教学- 简单电子封装实验操作- 实验报告撰写与交流- 创新设计实验项目教学内容按照以上五个部分进行组织,注重科学性和系统性。

电子封装、微机电与微系统第四章 封装工艺

电子封装、微机电与微系统第四章  封装工艺

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4.2 厚 膜 技 术
厚膜材料是有机介质掺入微细金属粉、玻璃粉或陶瓷 粉末的混合物,通过丝网印刷工艺,印制到绝缘基板上。 无机相金属粉可确定厚膜成分:
● 金属或金属合金组成无机相导体; ● 金属合金或钌(Ruthenium)系化合物组成厚膜电阻; ● 玻璃或玻璃陶瓷无机相组成多层介质、密封剂或高介 电常数的电容层。
第四章 封 装 工 艺
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图4-12 寄生电容
第四章 封 装 工 艺
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4.8 倒装芯片技术
倒装芯片技术(Flip Chip Technology,FCT)是1960年首 先由IBM公司设计并开发研制出来的,但一直到近几年才 开 始应用于高速、单芯片微处理器或微电子集成芯片。倒装芯 片技术应用于少数功率器件,则是在最近的时间内。
第四章 封 装 工 艺
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3. 孔内电连通 斜孔深度一般有几百微米,要在其侧壁上形成电通路, 通常可采用溅射、蒸发、电镀等方法。直孔电连通的常用 方法有低温化学淀积、熔融金属淀积、电镀等。
第四章 封 装 工 艺
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4. 重布线 通孔内金属层制作完毕后,可以采用类似于集成电路
的再分布技术对键合好的圆片表面进行重新布线。
第四章 封 装 工 艺
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2) 保温段 保温段是指温度从120℃~150℃升至焊膏熔点的区域, 其主要目的是使PCB上各元器件的温度趋于稳定,尽量减 少 温差。应保证足够的时间,使较大元器件的上升温度同 较 小元器件上升温度同步,保证焊膏中的助焊剂得到充分 挥 发。
第四章 封 装 工 艺
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3) 回流段 在回流区域里,加热温度最高,元器件的温度快速上 升至峰值温度。在回流阶段,不同的焊膏,焊接峰值温度 不同,一般为焊膏的熔点温度加20℃~40℃。对于熔点为 183℃的Sn63Pb37焊膏和熔点为179℃的Sn62Pb36Ag2焊膏, 峰值温度一般为210℃~230℃。回流时间不要过长,以防 对PCB及元器件造成不良影响。理想的温度曲线是超过焊 锡熔点“尖端区”覆盖的面积最小。

第三章-封装与测试技术ok【芯片封装测试】

第三章-封装与测试技术ok【芯片封装测试】
与其它封装技术相比,COB技术有以下优点: 价格低廉、节约空间、工艺成熟。
缺点:另配焊接机和封装机、封装速度慢、 PCB贴片对环境要求更为严格、无法维修。
Flip chip技术:又称为倒装片,与COB相比, 芯片结构与I/O端子(锡球)方向朝下,由于 I/O引出端分布于整个芯片表面,故在封装密度 和处理速度上已达到顶峰。它可以采用SMT技
•目前在实际应用中SOC还而临着很多限制因 素,包括现阶段lP资源还不够丰富、研发成 本高及设计周期长、生产工艺复杂、成品率 不高等。此外在SOC中采用混合半导体技术 (如GaAs和SiGe)也存在问题。
速度——密度质量因子
• 封装工艺 2)
• SOC
• MCM
质量因子(英寸/10-9秒)×(英寸/英寸 28.0
引线数为:3~300, 引线节距为1.27~0.4mm
例:0.5mm焊区中心距,208根I/O引脚的QFP封装的 CPU
外形尺寸28×28mm,芯片尺寸10×10mm, 芯片面积/封装面积=10×10/28×28=1:7.8 QFP比DIP的封装尺寸大大减小。 QFP的特点是: 1.适合用SMT表面安装技术在PCB上安装布线; 2.封装外形尺寸小,寄生参数减小,适合高频应用; 3.操作方便; 4.可靠性高。 在这期间,Intel公司的CPU,如Intel 80386就采用塑 料四边引出扁平封装PQFP。
术的手段来加工,是封装技术及高密度安装的 方向。90年代,该技术已在多种行业的电子产
品中加以推广,特别是用于便携式的通信设备 中。
二、多芯片模块(MCM)
将高集成度、高性能、高可靠的CSP芯片(IC)和专 用集成电路芯片(ASIC)在高密度多层互联基板上 用表面安装技术(SMT)组装成为多种多样电子组 件、子系统或系统。

数字集成电路周润德课后题

数字集成电路周润德课后题

数字集成电路周润德课后题哎呀,宝子们,这数字集成电路周润德课后题可真是有点小挑战呢,但咱不怕,来一起好好研究研究。

1. 第一章课后题第1题:简述数字集成电路的基本概念。

(5分)答案:数字集成电路是将大量的晶体管和其他电子元件集成在一块半导体芯片上,用来处理数字信号的电路。

数字信号是离散的,只有0和1两种状态。

第2题:数字集成电路有哪些主要的分类方式?(5分)答案:按功能可分为组合逻辑电路和时序逻辑电路;按集成度可分为小规模集成电路、中规模集成电路、大规模集成电路和超大规模集成电路等。

第3题:请列举三个常见的数字集成电路芯片。

(5分)答案:74系列芯片(如74LS00)、4000系列芯片、微处理器芯片(如Intel 8086)。

2. 第二章课后题第1题:解释逻辑门的作用。

(5分)答案:逻辑门是数字集成电路的基本构建块,它对输入的数字信号进行逻辑运算,产生相应的输出信号。

例如,与门只有当所有输入为1时输出才为1,或门只要有一个输入为1输出就为1等。

第2题:画出与非门的逻辑符号和真值表。

(5分)答案:与非门的逻辑符号是一个与门后面加一个小圆圈(表示取反)。

真值表为:输入A和B,当A = 0,B = 0时,输出为1;当A = 0,B = 1时,输出为1;当A = 1,B = 0时,输出为1;当A = 1,B = 1时,输出为0。

第3题:如何用基本逻辑门构建一个异或门?(5分)答案:可以用与门、或门和非门构建。

异或门的表达式为A⊕B=(A·¬B)+(¬A·B),先分别构建A·¬B和¬A·B这两个部分,然后用或门将它们连接起来。

3. 第三章课后题第1题:什么是时序逻辑电路的状态?(5分)答案:时序逻辑电路的状态是指电路在某一时刻存储的信息,它由电路内部的触发器等存储元件的状态决定。

第2题:描述D触发器的工作原理。

(5分)答案:D触发器在时钟信号的上升沿(或下降沿,取决于具体的触发器类型),将输入D的值存储到触发器内部,并将该值输出。

第3章微电子的封装技术

第3章微电子的封装技术

第3章微电子的封装技术
微电子的封装技术是集成电路行业中重要的技术之一,它是将微电子器件封装在一定的结构或材料形式中,使微电子器件具有完整的功能和稳定的性能的技术。

封装技术有助于提高微电子器件的可靠性和功能,并且可以实现对器件的封装封装,封装和测试,以及开发更先进的封装技术,有助于改善元器件的可靠性和功能。

封装技术包括单层封装技术、多层封装技术、全封装技术、焊接封装技术等。

单层封装技术是根据微电子器件的物理结构和电气特性,在其表面涂布一层化学稳定的涂层,使其功能更加稳定可靠的技术。

多层封装技术是根据微电子器件的结构和电气特性,在其表面使用多层封装技术,使其功能更加稳定可靠。

全封装技术是将微电子器件封装于一种全封装材料中,以保护微电子器件免受污染和外界环境的攻击,从而保证其功能的技术。

焊接封装技术是将微电子器件封装在一定的结构中,以保护微电子器件免受环境中的外界物质影响,以及改善器件的可靠性和可靠性的技术。

微电子封装考试内容(带选择题)PLUS版

微电子封装考试内容(带选择题)PLUS版

微电⼦封装考试内容(带选择题)PLUS版第1章:绪论微电⼦封装技术中常⽤封装术语英⽂缩写的中⽂名称。

主要封装形式: DIP、QFP(J)、PGA、PLCC、. SOP(J)、SOT、SMC/D BGA CCGA、KGD、CSP、DIP:双列直插式封装QFP(J):四边引脚扁平封装PGA:针栅阵列封装PLCC:塑料有引脚⽚式载体SOP(J): IC ⼩外形封装.SOT:⼩外形晶体管封装SMC/D:表⾯安装元器件BGA:焊球阵列封装CCGA:陶瓷焊柱阵列封装KGD:优质芯⽚(⼰知合格芯⽚)CSP:芯⽚级封装MC主要封装⼯艺技术: WB、TAB、FCB、OLB、ILB、C4、UBM、SMT、THT、COB、COG等。

M(P)、WLP等。

WB:引线键合TAB:载带⾃动焊FCB:倒装焊OLB:外引线焊接.ILB:内引线焊接C4:可控塌陷芯⽚连接UBM:凸点下⾦属化SMT:表⾯贴装技术THT:通孔插装技术COB:板上芯⽚COG:玻璃上芯⽚M(P):WLP:圆⽚级封装不同的封装材料: C、P等。

C:陶瓷封装P:塑料封装T:薄型F:窄节距B:带保护垫简写的名字DIP:双列直插式封装QFP:四边扁平封装BGA:焊球阵列封装MCP:多芯⽚封装/⾦属罐式封装MCM:多芯⽚组件3.芯⽚封装实现的5个功能。

(1)电能传输,主要是指电源电压的分配和导通。

电⼦封装⾸先要接通电源,使芯⽚与电路导通电流。

其次,微电⼦封装的不同部位所需的电压有所不同,要能将不同部位的电压分配适当,以减少电压的不必要损耗,这在多层布线基本上尤为重要,同时,还要考虑接地线的分配问题。

(2)信号传递,主要是要使电信号的延迟尽可能的⼩,在布线时要尽可能的使信号线与芯⽚的互连路径以及通过封装的I/O接⼝引出的路径达到最短。

对于⾼频信号,还要考虑到信号间的串扰,以进⾏合理的信号分配布线和接地线的分配。

(3)提供散热途径,主要是指各芯⽚封装要考虑元器件、部件长时间⼯作时如何将聚集的热量散发出去的问题。

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3.1 概述
在微电子封装中,半导体器件的失效约有1/4—1/3是由芯片互连引起的, 故芯片互连对器件长期使用的可靠性影响很大。在传统的WB中,互连引起的失 效主要表现为引线过长,与裸芯片易搭接短路,烧毁芯片;压焊过重,引线过 分变形,损伤引线,容易造成压焊处断裂;压焊过轻,或芯片焊区表面太脏, 导致虚焊,压焊点易于脱落;压焊点压偏,或因此键合强度大为减小,或造成 压焊点间距过小而易于短路;此外,压点处留丝过长,引线过紧、过松等,均 易引起器件过早失效。
芯片焊区与封装引脚的键合一般使用WB技术;芯片焊区与基板 焊区或PWB焊区之间的键合可以应用WB、TAB和FCB的方式。芯片焊 区与引脚、基板焊区的连接属于一级封装的芯片互连,而与PWB焊 区的连接属于二级封装的芯片互连。
3.2 芯片粘接
芯片的焊接是指半导体芯片与载体形成牢固的、传导性或绝缘性 连接的方法。焊接层除了为器件提供机械连接和电连接外,还须为器 件提供良好的散热通道。
为了减小Au-Al金属间化合物的产生,应避免高温下长时间 压焊,器件的使用温度也应尽可能低一些。
3.4 载带自动焊(TAB)技术
3.4.1 TAB技术的发展状况
TAB技术早在1965年就由美国通用电气(GE)公司研究发明出来, 当时称为“微型封装”。1971年,法国Bull SA公司将它称为“载带 自动焊”。这是一种有别于且优于WB、用于薄型LSI芯片封装的新型 芯片互连技术。
球焊时,衬底需加热(金丝不需加热),压焊时加超声,因此加热 温度远低于热压焊(100℃左右),所加压力一般为0.5N/点,与热压焊 相同。由于是Au-Al接触热声焊,尽管加热温度低,仍有Au-Al中间化合 物生成。球焊只适于使用温度较低、功率较小的IC和中小功率晶体管的 焊接。
第二键合点
引线框架
金丝球焊
3.3 引线键合(WB)技术
WB是将半导体芯片焊区(芯片I/O端)与微电子封装的I/O引线(封装 引脚)或基板(或PWB)上的金属布线焊区用金属细丝连接起来的工艺 技术。焊区金属一般为Al或Au,金属丝多是数十微米至数百微米直径 的Au丝、Al丝或Si-Al丝。其焊接方式主要有热压焊、超声键合焊(超 声压焊)和金丝球焊(超声热压焊)三种。
3.1 概述 3.2 芯片粘接 3.3 引线键合(WB)技术
3.3.1 WB的分类与特点 3.3.2 引线键合的主要材料 3.3.3 Au-Al焊接的问题及其对策 3.4 载带自动焊(TAB)技术 3.4.1 TAB技术的发展状况 3.4.2 TAB技术的优点 3.4.3 TAB的分类 3.4.4 TAB技术的关键材料和关键技术 3.4.5 TAB芯片凸点的设计制作要点 3.4.6 TAB载带的设计要点 3.4.7 TAB载带的制作技术 3.4.8 TAB的焊接技术 3.4.9 TAB的可靠性 3.4.10 凸点载带自动焊(BTAB)简介 3.4.11 TAB的应用
第一焊点要使金属丝端部熔成球形,而第二焊点不必在金属丝端部熔成 球形,是利用劈刀的特定形状施加压力以拉断金属丝。重复前面的过程,进 行第二根、第三根……金属丝的焊接。
劈刀下降,锁定焊球(劈刀未 夹紧金丝,内径大于金丝直径)
内引脚或 基板焊区
电极
电弧 成球
金丝球

劈刀下降,锁定焊球



加热 &加压
3.3.2 引线键合的主要材料
热压焊和金丝球焊主要选用Au丝,超声焊主要用Al丝和Si-Al丝, 或Cu-Si-Al丝等,且均需要经过退火处பைடு நூலகம்。Au-Au和Al-Al同种金属间不 会形成有害的金属间化合物。
3.3.3 Au-Al焊接的问题及其对策
焊区和IC布线的材料主要是Al,而焊接材料除了Al丝超声焊外,更 多的是Au丝球焊和热压焊。Al丝超声焊不会产生金属间化合物(均是 Al),而Au丝球焊和热压焊则会因为Au-Al接触而产生金属间化合物 AuAl2(300℃,紫斑),引起焊接的失效。除紫斑外,还有可能生成Au2Al (白斑)等化合物。
夹紧金丝,拉断
形成楔形焊点后劈 刀上升至一定高度
与焊区键合(第一键 合点)后劈刀上升
加热&加压
劈刀快速移至第二 键合点,形成弧形
不同材料的形球工艺
金丝形球的规范 为15mA,30s;而在 此参数下,即使有氩 气保护,生成的铝球 外观皱折,内部充满 空洞。铝球的最佳规 范为电流5A,时间 0.38ms,Ar+H2保护。
超声键合与热压焊相比,能充分去除焊接界面的金属氧化层,可提 高焊接质量,焊接强度高于热压焊(40μmAl丝的焊接强度可达0.1N/点 以上)。超声焊不需加热,可在常温下进行,因此对芯片性能无损害, 并且可以根据不同的需要随时调节超声键合能量和条件,以适应不同尺 寸的Al丝或Al带。
超声键合采用超声波的能量,使金属丝与铝电极在常温下直接键合。 由于键合工具头呈楔形,故又称楔压焊。注:超声焊没有电火花加热过程,因此
TAB是连接芯片焊区和基板焊区(或PWB焊区)的桥梁,包括芯 片焊区凸点形成、载带引线制作、载带引线与芯片凸点焊接(内引 线焊接)、载带外引线焊区与基板(或PWB)焊区的外引线焊接几部 分。
零级封装强调的是芯片与各级封装之间电路的连通工艺(如芯片焊 区与引脚、基板焊区或PWB焊区的连接,但不包含引脚与PWB的连接,后 者属于二级封装),可以在不同的封装形式中存在,如DIP、PGA、QFP、 BGA和DCA等等。零级封装与一级、二级和三级封装的共同作用使得芯片 实现其可靠的功能。
由于人们已经对WB有普遍的深入了解,本章只作简要的介绍;而对 国际上正在开发、应用、发展的TAB和FCB将详细论述。
第一键合点 芯片
超声热压焊的优势
结合了超声丝焊和热压焊两者的优点,比较超声热压焊和热 压焊的拉伸结果,在达到规定的强度超声热压焊的时间和温度都 比热压焊小得多,超声压接时,一般需要3微米以上的振幅和约1 秒的时间,而超声热压焊只需要十分之一的振幅和二十分之一的 时间。
热压焊和金丝球焊的区别
热压焊和热压超声焊(金丝球焊)的原理基本相同,区别在于热压键合 采用加热加压;而热超声键合采用加热加压加超声。3种引线键合方式各有特 点,也有各自适用的产品。但由于热超声键合可降低热压温度, 提高键合强 度,有利于器件可靠性等优点,热超声键合已取代了热压键合和超声键合, 成为引线键合的主流键合方式。
1. Au-Si合金共熔法
芯片背面沉积Au层,基板或PWB上要有金属化层(一般为Au或Pd钯Ag)。由于芯片背面有Si,而Au和Si在370℃有共熔点,这样,在芯片 烧结(即焊接)时,根据烧结温度就能知道一定厚度的Au大约能够使Si 溶解多深。
Au-Si合金共熔法可在多个IC芯片装好后在H2保护下烧结,也可用 超声熔焊法逐个芯片超声熔焊。
热压焊时,金属丝因变形过大而受损,焊点键合拉力小(<0.05N/点), 因此热压焊使用越来越少。
用高压电火花使金属丝端部熔成球形, 在IC 芯片上加热加压,使接触 面产生塑性变形并破坏了界面的氧化膜,使其活性化,通过接触面两金属之 间的扩散结合而完成球焊(第一焊点);然后,焊头通过复杂的三维移动到 达集成电路底座外引线的内引出端,再加热加压完成楔焊(第二焊点),从 而完成一根线的连接。
WB(引线键合技术)示意图
WB键合芯片
3.3.1 WB的分类与特点
1. 热压焊 热压焊是利用加热和加压力,使金属丝(Au丝)与金属焊区(Al或 Au)压焊在一起。其原理是通过加热和加压力,使焊区金属发生塑性形 变,同时破坏压焊界面上的氧化层,使压焊的金属丝与焊区金属接触面 的原子间达到原子的引力范围,从而使原子间产生吸引力,达到“键合” 的目的。
2. Pb-Sn合金片焊接法
芯片背面为Au层或Ni层,基板为Au、Pd-Ag或Cu;保护气氛中烧结。
3. 导电胶粘接法 导电胶是含银且具有良好导热、导电性能的环氧树脂。这种方法不 需要芯片背面和基板具有金属化层,芯片粘接后,在烘箱中进行导电胶 的固化。
4. 有机树脂基粘接法 以上方法适合于晶体管或小尺寸的IC。大尺寸的IC,只要求芯片与 基板粘接牢固。可以使用高分子材料的有机粘接剂。
劈刀内径
芯片焊区
热压焊第一焊点的外观
第二键合点
第 一 键 合 点
2. 超声焊
超声焊(超声键合),是利用超声波发生器产生的能量,通过磁致 伸缩换能器,在超高频磁场感应下,迅速伸缩而产生弹性振动,经变幅 杆传给劈刀,使劈刀相应振动;同时,在劈刀上施加一定的压力。劈刀 在两种力的作用下,带动Al丝在被焊焊区的金属化层(如Al膜)表面迅 速摩擦,使Al丝和Al膜表面产生塑性形变。这种形变破坏了Al层界面的 氧化层,使两个纯净的金属面紧密接触,达到原子间的键合,从而形成 牢固的焊接。
将IC芯片固定安装在基板上时,需要芯片和基板之间形成良好的 欧姆接触。
芯欧片姆与接基触板是间指良金属好与的半欧导姆体接的触接是触保,证而其功接率触器面件的正电常阻工值作远的小于前半提。 欧导触姆体面接本。触身 欧不的姆良电接会阻触使,指器使的得是件组 它热件不阻操产加作生大时明,,显散大的热部附不分加的阻均电抗匀压,,降而影在且响活 不电动会流区使在而半器不导在体件接内中的 分部布的,平破衡坏载器流件子的浓热度发稳生定显性著,的甚改至变使。器件烧毁。
在TAB和FCB中也存在WB中的部分失效问题,同时也有它们自身的特殊问题, 如由于芯片凸点的高度一致性差,群焊时凸点形变不一致,从面造成各焊点的 键合强度有高有低;由于凸点过低,使集中于焊点周围的热应力过大,而易造 成钝化层开裂;
WB、TAB和FCB不单主要作为芯片—基板间的电气互连形式,而且 还作为一种微电子封装形式,常称为零级“封装”。从微电子封装今后 的发展来看,将从有封装向少封装、无封装方向发展。而无封装就是通 常的裸芯片,若将这种无封装(未进行一级封装)的裸芯片用WB、TAB、 FCB的芯片互连方式直接安装到PWB基板上,即称为板上芯片和板上TAB 或板上FCB,这些统称为直接芯片安装(DCA)技术,它将在今后的微电 子封装中发挥更重要的作用。
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