电容触摸屏工艺流程简介
合集下载
相关主题
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
•
目前我司常用的是纳钙玻璃,价格相对低,但是强度相对差,一般材质为旭硝子,铝硅玻璃相比强度更高,但是价格高,一 般材质为康宁。
名词解释:
• • • 6.方阻:d为膜厚,I为电流,L1为膜厚在电流方向上的长度,L2为膜层在垂直电流方向的长度,ρ为导电膜的体电阻率。ρ和d可以认为是不变的定值, 当L1=L2时,为正方形的膜层,无论方块大小如何,其电阻率为定值ρ/ d,这就是方阻的定义,即R□= ρ/ d; 在我们的工作中,对上面的公式进行转化: R( 线阻)=R□*L2/L1
• 即翘曲的高度与翘起边 的长度之比
其中要求如下: 1.不允许有S形翘曲
h
L
曝光
上光阻
金属蚀刻-双面结构
金属 ITO 光阻 Mask
基板
上光阻
曝光
去光阻
蚀刻
显影
金属面ITO蚀刻-双面结构
基板
上光阻
曝光
去光阻蚀刻显影源自非金属面ITO蚀刻-双面结构
基板
上光阻
曝光
去光阻
蚀刻
显影
镀SIO2/OC
镀 SiO2(O C)
不镀 SiO2(OC)
印刷可剥胶
切割
功能测试
后段流程介绍
ITO
绝缘材料 金属或ITO
黄光SITO 结构工艺流程图(金属架桥)
单层镀ITO
ITO蚀刻单面结构
黄光厂工序
金属蚀刻单面结构
镀SIO2/OC
印刷可剥胶 (可选)
成品
贴合
绑定
切割
2.黄光DITO结构触摸屏制程
介绍:DITO是Double ITO的简称。即两面 线路做法。 XY轴分别布于玻璃上下两层 X PATTERN和Y PATTERN分别在玻璃的两 面,实现触摸屏发射极和感应极的作用。
功能测试
IC Sensor ACF贴合 FPC贴合
后段流程介绍
IC IC IC
IC 贴光学胶 SENSOR有 OCA无该工序 IC 贴盖板 加压脱泡
功能测试
名词解释:
• • • • • 1.黄光工艺:是指将光罩上的主要图案先转移至感光材料上,利用光线透过光罩照射在感光材料上,再以溶剂浸泡将感光材料受光照射到的部份加以 溶解或保留,如此所形成的光阻图案会和光罩完全相同或呈互补。由于微影制程的环境是采用黄光照明而非一般摄影暗房的红光,所以这一部份的 制程常被简称为“黄光”。 2.光阻-正光祖-负光阻:亦称为光阻剂,是用在黄光工艺中的的光敏材料,可以在材料表面刻上一个图案的被覆层。 正向光阻是光阻的一种,其照到光的部分会溶于光阻显影液,而没有照到光的部分不会溶于光阻显影液。 负向光阻是光阻的一种,其照到光的部分不会溶于光阻显影液,而没有照到光的部分会溶于光阻显影液。 3.ITO(Indium Tin Oxide:氧化铟锡) 在玻璃基板的表面镀上一层氧化铟锡的导电膜,就形成了LCD常用的氧化铟锡玻璃,通常简称为ITO玻璃。 4.ITO玻璃:在玻璃的表面镀上一层氧化铟锡的导电膜,就形成了LCD常用的氧化铟锡玻璃,通常简称为ITO玻璃。 5.玻璃基板 是一种表面极其平整的薄玻璃片。生产方法有3种:浮法、溢流下拉法,狭缝下拉法。
黄光DITO 制程工艺流程图
双面镀ITO +METAL
METAL蚀刻
金属面 ITO蚀刻
非金属面 ITO蚀刻
镀SIO2/OC
印刷可剥胶
黄光厂工序
成品
贴合
绑定
切割
3.FILM自容结构触摸屏制程
介绍:自电容当手指触摸在金属层上时,由于 人体电场,用户和触摸屏表面形成以一个耦合电容, 对于高频电流来说,电容是直接导体,于是手指从 接触点吸走一个很小的电流。这个电流分从触摸屏 的四角上的电极中流出,并且流经这四个电极的电 流与手指到四角的距离成正比,控制器通过对这四 个电流比例的精确计算,得出触摸点的位置。 常规的自容方案,是使用横三角或者竖三角的 方式,PATTERN通过ITO来实现,再通过金属线将 ITO引导绑定位置。
基板
ITO镀膜
单层镀ITO+METAL
基板
ITO镀膜
金属镀膜
双层镀ITO+METAL
基板
ITO镀膜
金属镀膜
ITO蚀刻-单面结构
ITO 光阻 Mask
基板
上光阻
曝光
去光阻
蚀刻
显影
金属蚀刻-单面结构
搭桥所用光阻为负光阻,ITO&金属蚀刻使用正光阻
基板
上光阻
曝光
显影 (搭桥)
镀金属层
去光阻
蚀刻
显影
FILM自容结构工艺流程图1(印刷线路)
单层镀ITO FILM厂工序
大片ITO蚀刻干蚀刻
印刷 银浆线路
贴大片 OCA
切割成小片
成品
贴合
绑定
FILM自容结构工艺流程图2(镭射线路)
单层镀ITO FILM厂工序
大片ITO蚀刻干蚀刻
印刷 镭射银浆
镭射线路
贴大片 OCA
成品
贴合
绑定
切割成小片
4.FILM-FILM互容结构触摸屏制程
电容触摸屏工艺流程简介
• • • • • • •
电容触摸屏工作原理 1.黄光SITO结构触摸屏制程 2.黄光DITO结构触摸屏制程 3.FILM自容结构触摸屏制程 4.FILM-FILM互容结构触摸屏制程 5.GLASS-DITO印刷工艺互容结构触摸屏制程 6.名词解释
电容触摸屏工作原理
普通电容式触摸屏的感应屏是一块四层复合玻璃屏,玻璃屏的内表面和夹层各 涂有一层导电层,最外层是一薄层矽土玻璃保护层。当我们用手指触摸在感应屏上 的时候,人体的电场让手指和和触摸屏表面形成一个耦合电容,对于高频电流来说, 电容是直接导体,于是手指从接触点吸走一个很小的电流。这个电流分从触摸屏的 四角上的电极中流出,并且流经这四个电极的电流与手指到四角的距离成正比,控 制器通过对这四个电流比例的精确计算,得出触摸点的位置。
L2
I d
R□=ρ×L1/(d×L2)
L1
名词解释:
• • 7.平整度 平整度可用h/1表示,意思为在长度为L的范围内,表面最高点与最低点的差值为h。
h
L
ITO玻璃基板平整度参数包括: 1、玻璃表面粗糙度; 2、基板表面波纹度; 3、基板翘曲度; 4、基板垂直度; 5、ITO膜表面粗糙度;
玻璃微 观表面
1.黄光SITO结构触摸屏制程
介绍:SITO是Single ITO的简称。即菱型 线路做法。XY轴(发射极和感应极)都在玻璃的 同一面。 X PATTERN和Y PATTERN通过搭桥的方式, 实现触摸屏发射极和感应极的作用。 架桥的选择: 金属架桥:导电性好(0.4Ω/■左右),但 是金属点会可见,影响外观。(推荐) ITO架桥:导电性差(40Ω/■左右),解决 了金属点可见的问题,同时增加一道光照,成本 增加。
介绍:在该结构下, X PATTERN 和Y PATTERN分别在两个FILM上,实 现触摸屏发射极和感应极的作用。
FILM-FILM互容结构工艺流程图1
大片ITO蚀刻干蚀刻 单层镀ITO FILM厂工序 大片ITO蚀刻干蚀刻 印刷 银浆线路 切割成小片 印刷 银浆线路
贴大片 OCA1
贴大片 OCA2
成品
贴合
绑定
FILM-FILM互容结构工艺流程图2(镭射)
大片ITO蚀刻干蚀刻 单层镀ITO FILM厂工序 大片ITO蚀刻干蚀刻 印刷 镭射银浆 印刷 镭射银浆 印刷 镭射银浆 镭射线路 贴大片 OCA1
贴大片 OCA2
成品
贴合
绑定
切割成小片
5.GLASS-DITO-印刷工艺互容结构触摸屏制程
成品
贴合
绑定
切割成小片
GLASS-DITO互容印刷工艺流程图2(镭射)
双层镀ITO ITO厂工序 大片正面ITO干蚀刻 大片ITO蚀刻干蚀刻 印刷正面 镭射银浆 印刷反面 镭射银浆
印刷 反面ISO
印刷正面 ISO(可选)
反面银浆镭射
正面银浆镭射
成品
贴合
绑定
切割成小片
单层镀ITO
基板
ITO镀膜
双层镀ITO
介绍:DITO是Double ITO的简称。 即两面线路做法。 XY轴分别布于玻璃 上下两层 X PATTERN 和Y PATTERN 分别在 玻璃的两面,实现触摸屏发射极和感应 极的作用。 相比黄光DITO SENSOR,工艺成 本更低。
GLASS-DITO互容印刷工艺流程图1(印刷)
双层镀ITO ITO厂工序 大片正面ITO干蚀刻 印刷 反面ISO 大片ITO蚀刻干蚀刻 印刷正面 ISO(可选) 印刷正面 银浆线路 印刷反面 镭射银浆
6、ITO玻璃基板、膜厚均匀度。
名词解释:
• 8.基板翘曲度:用h/L表示(如图) • 即翘曲的高度与翘起边 的长度之比
L
其中要求如下: 1.不允许有S形翘曲
h
名词解释:
• 9.浮法方向:
在基板玻璃制造过程中,液态玻璃流动的方向.
拉伸浮法 方向
名词解释:
• 10.基板翘曲度:用h/L表示
(如图)