下摆机精磨抛光工艺标准

文件名称下摆机研磨工艺制定时间版次第一版作成审核批准

一、目的：光学零件的抛光是获得光学表面最重要的工序。1去除精磨的破坏层达到规

定的外观质量要求。

2、精修面形，达到图纸规定的曲率半径R值，并满足零件光圈数N及光圈局部误差的

要求。

二、抛光机理：

认为抛光是精磨的继续，它们从本质上是相同的，都是尖硬的磨料颗粒对玻璃表面进行微小切削作用的结果。但由于抛光是用很细颗粒的抛光剂。所以微小切削作用可以在分子大小范围内进行。由于抛光模与镜片表面相当吻合，因此抛光时切向力很大，从而使玻璃表面凸凹微痕结构被切削掉，逐渐形成光滑的表面。实验表明抛光粉粒度在一定范围时，粒度越大，抛光效率越高；抛光粉硬度越高，抛光速率越高（如氧化铈CeQ抛光粉比红粉FM3硬度高，前者比后者抛光速率高2〜3倍）。

另外在一定范围内，增大抛光压力，提高主轴转速，抛光速率显著提高，高速抛光即是依此而发展起来的。通过实验测得，抛光去除掉的玻璃颗粒尺寸大约为1〜 1.2 um。仅从以上几点即可以看出抛光的机械磨削作用是十分明显的。

三、抛光基本常识：

1、光圈的概述：

被检查镜面表面面形与标准曲率半径的原面形有偏差时，它们之间形成对称的契形空气间隙，从而产生等厚干涉条纹，在白光照射下，可见到彩色光环，这种彩色环称为光圈，物理学中称牛顿环。

光圈

数:

红色光圈有几圈，光圈数就几圈

、［人1^1 光圈

*「象散光圈允差T椭圆、马鞍形、棱形

（面检）（△ N1表示）

局部

L光圈局部不规则程度T中高、中低、翘边等

2、光圈的识别：（△ N2表示）

高光圈与低光圈：

3、光圈数与局部误差的计算方法：

a）光圈数的计算方法：N=N检-N补

光圈数N,实际光圈数为N检，基准补负为N补。

例：基准补负2圈，实际测光圈数为一4圈，贝U: N = N检一N补=4-（-2 ）=-2 圈

b）局部误差计算方法：

A、象散光圈：△ N仁b/a-1 B 、光圈局部不规划：△ N2=a/b=0.2/仁0.2

具

体

内

容

a. 高光圈：一低头或稍用力压镜片，光圈向外扩散的，即高光圈;

b. 低光圈：一低头或稍用力压镜片，光圈向内收缩的，即低光圈;

规则：0.5圈OK

多种。一般单片加工采用薄的聚氨酯片（0.5mm或0. 8mm）,而大镜片或多片加工

镜盘口径较大时宜采用厚的聚氨酯片。

3、准备抛光所需的所有模具：

聚抛模3~5个，对改模正负各一个，大小面样板各一个，夹具大小面各2~4个, 台灯，纱布若干块，黑皮（0.5或者0.8），剪刀（以上2样可以在用到时临时解决）下摆机加工：弯勾，扳手，对应压力头，轴。

上摆机加工：顶针

4、模具制作：

由于新贴好的聚抛模表面未磨过，多个原因造成聚氨酯片表面达不到要求的面型：

4.1车床车出来的聚抛基模表面不是一个理想的球面，会有凹凸不平，甚至有严重的毛

刺。

4.2贴上去的聚氨酯片自身凹凸不平，也不是理想的球面

4.3即使没有以上两者原因，在贴聚氨酯片的时候，由于AB胶的原因或者因为操作者

的原因会使聚氨酯片和基模的表面接触不理想，造成凹凸不平。

所以模具制作是球面零件抛光作业前的必需工作，否则无法加工。（注意：如果用下摆机加工，模具制作工作应做在抛光加工之前）

五、附件：

1、《SSP-4上摆机（研磨）操作手册》

2、《SSP-4上摆机（研磨）调机手册》

3、《光进045下摆机研磨机操作手册》

4、《抛光不良及对策》

5、《局部误差不良状况分析》

6、《光圈不良状况分析》

附件1:《SSP-4上摆机（研磨抛光）操作手册》

附件2:《SSP-4上摆机研磨抛光调机手册》

附件3:《光进045下摆机研磨抛光操作手册》

附件4:《研磨抛光不良及对策》

附件5:《局部误差不良状况分析》

附件6:《光圈不良状况分析》