化学气相沉积设备与装置
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（Ｈ 诱捕 Ｈ Ｉ Ｏ） Ｃ 。小 颗 粒 的 碳 酸钠 诱捕 Ｈ 。 粒 了 阱的 作 用 Ｆ 是 消除 Ｃ Ｄ过 程 中产 生 的 细 小 颗 粒 ， 少粒 子对 真 空 泵 的 损 Ｖ 减 伤 气 体在 粒 予阱 中 首 先要 通 过 油 的 表 面使 其 大 部 分被 捕
系数 和 气流 状 态 。 入 式 ｍ 气 口的 损 失 系 数 最 大 ， 近 于 ｌ 进 接 ；
１ ｖ 设备系统的构成 Ｃ Ｄ
任 何 一种 Ｃ Ｄ系统 都 需 要满 足 以下 四 个最 基 本 的 需求 ： Ｖ
传 输 和控 制 先 驱 体气 体 、载 气 和稀 释 气 体 进入 反 应 室 ： 供 提 激 发 化 学反 应 的 能 量源 ： 除 和 安全 处 理 反应 室 的 副产 物 废 排 气 ：精确 控 制 反应 参 数 ，温度 、压 力 和 气 体流 量 。对 于大 规
化 学 工程 与 装 备
１６ ３
Ｃ ｅ ｃ ｌ ｎ ｎ ｅ ｎ ＆ Ｅ ｕ ｐ ｎｔ ｈ ｍｉ ａ Ｅ ｇｉ ｅ ｒｉ ｇ ｑ ｉ ｍｅ
２ １ 年 第 ３期 ０１
２１ ０ １年 ３月
化 学气 相沉积 设备 与装 置
韩 同 宝
（ 国石 油集 团东 方地 球物理勘 探有限责任公 司敦煌经 理部 ，甘肃 敦煌 ７６ ０ ） 中 ３２ ０
匀， 高沉积厚度和微观结构的均匀性和稳定性 。导圆半径 提
越 人越 有 利 于流 场 的 均 匀 。
计 ，在浮球 、滤网及管壁等处形成附着物，影响流量计的测
控 精 度 。因此 ，两 种流 量 计 都 需 要 定 期进 行 清理 和校 准 。化
Ｃ Ｄ设备的加热 系统 可分为：电阻加热 ， Ｖ 一般要求低电
真 空 系统 包 括 真 空 泵 、 空 阀 门 、 路 、 力 表 等 构成 。 真 管 鹾 Ｃ１的 反 应 雎 力 一般 通 过 真 空系 统 的 阀 门和 真 空 泵 来 联合 、 ） 实 现 ． 空 阀 门 在 真 空 泵 和 反 应 室 之 间 ， 过 调 节真 空 阀 门 真 通 的 开 闭来 调 节真 空泵 的抽 气 速 率 。 从而 控制 反 应 室 内的 压 力 。 空 阀 门通 常 由 粗 调 的 蝶 阀 和 微 调 的 针法 组 或 ， 过 两 真 通 级 阀 门实现 沉积 压 力 的控 制 和 调 节 真 窄 管 路 的 拐 角 比直 管 的落 差损 失 系数 要 大 的 多 ， 种 这
和流量控制器控制其流量．液态、固态反应物的流量可通过 储料罐温度 、 载气流量和储料罐压力的调节来控制． 气体流 量控制仪有浮子流量计和质量流量计两种， 其中质量流量计
的 控 制精 度 更 高 。
２ ２反应系统和装置 ． 反应系统是化学反应和气相沉积进行的腔室，是 Ｃ Ｄ Ｖ
设 备 的核 心 部 件 ，通 常包 括 三 个 部分 ： 水冷 的不 锈钢 炉 体 ； 由进 气 口 、 体 分 散器 、反应 基 底 支捧 物 和 出气 口组 成 的 反 气 应 器 ：由加热 元 件 、绝 缘 和 隔热 件 、温 度 传感 和控 制 器组 成 的 加热 系 统 。 对 于 大 型 的 ＣＤ设备 来 说 。其 反应 室 的 直径 将达 到 Ｖ
保 证排 向大 气 的 气 体是 干 净 的 气 体 。 ３ Ｃ Ｄ设备 系 统 的消 理 和 维护 Ｖ
Ｃ Ｄ设备 系统 需 要 定 期进 行清 理 和 维护 以保 证 沉 积参 Ｖ 数 的准 确 控制 和 沉 积 设 备 的 安全 耐 用 。 时 间使 用后 ，气 体 长 中 的微 尘 等 杂 质或 易与 空 气 反 应 的气 体 会对 污 染 气 体 流 量
废气和控制反应压力，包括真空泵、管道和连接装置；（ ） ６
工 艺 自动 控 制系 统 ， 算机 自动 控 制 系统 用 于测 量和 控 制 沉 计
耐热耐磨耐腐蚀及生物医用材料等领域． 同传统材料制各技 术相比，Ｃ１技术具有以下优点：（） ｖ ） １可以在远低 于材科熔 点的温度进行材 料合成： ２ 可以控制合成材料的元素组成、 （） 晶体结构、微观形貌 （ 粉末状 、纤维状、技状、管状 、块状
４ 结 束 语
Ｃ Ｄ设备系统是保证制各材料微观结构 性能的关键 Ｖ
因素。 Ｖ Ｃ Ｄ系统 的典 型装 置及 仪器 仪 表 的使 用 都 需进 行 精 心 的 设 计和 选 择 ， 能保 证 ｃ， 程 气 流场 和 温 度场 的最 优 和 才 、 Ｄ过 可 控 ，才 能保 证 材 科结 构 和 性 能 的 可控 可 调 。 Ｖ Ｃ Ｄ典 型装 置
（ ）气体传输系统．用 于气体传输和混合：（ ）反应 １ ２
都要设计气体分散器． 对气流进行缓冲和分散，使进入反应
韩 同 宝 ：化 学 气相 沉 积 设备 与 装 置
１７ ３
室 的气 流 更 均 匀 。需 要 说 明 的 是 ，气 体 分 散 器对 气 体 的 分 散 效 果 分 散 器 距 离进 气 口 的距 离 和 分散 器 本 身 孔 隙 的大 小 和 多少 有 关 。通 常 来 讲 ，较 小 的 分 散 器 距 进 气 口距 离 、大量
损 失源 于边 界处 气 流 的分 离 和 二 次 涡 流 的产 生 。 界 的 分 离 边
需定期进行清理和校对。 针对具体的 Ｃ １设备系统和孝 科制 ｖ ） 才
备 要 求需 芟 具 体 的装 置 局 部 结 构 设 计和 调整 。
参 考 文 献
通 常 发 生在 拐 角 的 内测 ， 涡流 的产 生源 于 管路 弯 曲处 向 心 力 的不甲 衡 。在 弯 路 的 拐 角 处 加 装 导 向板 能 有 效 改 善这 一 状 况 ， 落 差 系 数 降 低 ，气 流 均 匀 ，从 而使 气 体 进 入 反 应 室 之 使 前 保持 流 场 均 匀 。
２ Ｉ 反应气 体传 输 装 置 ．
可以实现材料结构微米级 、亚微米级甚至纳米级控制：（） ５ 能够进行复杂形状结构件及图层 的制备； （） ６ 能够 制备梯度 复合材料及梯度涂层和 多层涂层 ：（） ７ 能够进行亚稳态物质 及新材料的合成 。目前 ，Ｃ Ｄ己成为大规模集成 电路的铁电 Ｖ 材料、绝缘材料 、磁性材料、光电子材料、高温热结构陶瓷 基复合材料及纳米粉体材料不可或缺的制备技术。 关于 Ｃ Ｄ技术的热力学、 力学 、 Ｖ 动 各种新型 Ｃ Ｄ方法及 Ｖ 制各粉 体、薄膜、纤维、块体 、复合材料的研究 已经有 了大 量的报道 。 然而， 关于 Ｃ Ｄ设备与装置的系统报道却很少见。 Ｖ 本文对 ＣＤ设备的系统 组成 、 Ｖ 典型装置与仪器及其维护进行
下 ｆ： ． ｊ
液 ，从 而 使大 部 分 酸性 气 体 被 溶 解 和 中和掉 ， 余 的 气 体 向 剩 上 流动 妓喷 洒 出 的 Ｎ Ｏ ａＨ溶 液 进行 再 次 或 多 次 的中 和 ，最 终
专
ｊ中， 为速率系数。 可见 ， 出气 口进 行 导 圆 处 理 后 将 有 利 于 气 体流 场 的 均 对
等 ） ３ 不 需 要烧 结助 剂 ， 以高 纯 度 合 成高 密度 材 料 ；（） ：（） 可 ４
积 温度 、压力、气体流量和沉积时间：（ ）尾气处理系统 ． ７
用 于处 理 危 害和 有 毒的 尾 气 和柱 子 ， 常包 括 冷阱 、 学 阱 、 通 化 粉 尘阱 等 。
２ ｖ 设备系统的典型装置 Ｃ Ｄ
于 宇航 工 业 上 的特 殊 复 合材 科 、 子 反应 堆材 料 、 具材 料 、 原 刀
室， 化学反应和沉积过程在其中进行 ：（ ）进装科系统 ，用 ３ 于装、出炉和产品在反应室 内的支捧装置；（ ）能量系统 ， ４
为 激发 化 学 反应 提 供 能量 源 ； ５ （ ）真 空 系统 ． 于捧 除 反应 用
压大 电流 ， 常 采 用 石 墨 发 热 体 或 电阻 丝 发 热 体 ： 射 加 热 ． 通 辐 如 卤索 灯 加热 ： 电磁 感 应 加 热 和 激 光 加 热 Ｃ Ｄ 度 的测 量 ， Ｖ温 １０ ℃ 以下 通 常 采 用 氧 化 铝 陶 瓷 套 管 保 护 的 金 属 热 电偶 ， ６０ １０ ℃ 以上 通 常 采 用 红 外 测 温 。 用 红 外 测 温 时 通 常 篙要 在 ６０ 采 测 温 点插 入 一 个 石 墨 件 以提 供 红 外 信 号 ． 热 材 料通 常 选 用 隔
了分析 和 总 结 。
Ｃ Ｄ的 反应 物有 气 体 、固 体和 液 体 三种 形 态 ．反应 物 为 Ｖ
气态的直接通入或通过载气传送近反应室 内． 反应物为固体 的通过加热变为气态或溶于无污染溶剂中变为液态经载气 传输进反应 室内。反应物为液态的可通过直接蒸发、 载气携
带 和 鼓 泡方 式 载 入 反应 室 内 。 态 反应 物 可通 过气 体减 压 器 气
摘 要： 本文介绍 了化 学气相沉积设备的系统组成与典型装置 ， 讨论了几种典型装置特点对化学气相沉积
过程的影响，分析和总结 了典型装置的维护对沉积参数控制精度及沉积过程 的影响。 关键词 ：化学气相沉积 ；设各：装置
wenku.baidu.com
前言 化 学气相沉积 （ｖ ） Ｃ Ｄ 技术是一种新型的材料制备方法， 它可以用于制各各种粉体材料 、块体 材料、新晶体材料 、陶 瓷纤维、半导体及金刚石薄膜等多种类型的材料， 广泛应用
石 墨 简 、碳 毡 或 石 英 毡 ． ２ ３真 宅 系 统 和 装 置 ．
学阱的诱捕材料和粒子阱的 油和过滤器长时间使用后其诱 捕功能下降或 丧失，需要定期进行清理和更换．真空泵油需
定 期 更换 ， 以避 免 因 有 害气 体 对 空 泵 油 的污 染 和 损 害对 真 空 泵 造 成损 伤 。 外 ， 电偶 和 力表 等仪 器 也 许 定 期进 行 此 热 校 对 以保 证 沉 积 参 数的 控 制 精 确 度 。
导圆 出气 口的 损 失 系 数 最 小 ， 可 达 ０ ０ ：尖 锐边 缘 出气 口 ．４
捉 ，然 后经 过 多 孔 的过 滤器 被二 次捕 捉 ．
酸性 气 体 通 过 气泵 进 入 尾 气 处 理 罐 ，强 制通 过 Ｎ Ｏ ａ Ｈ溶
的损 失系 数 为 ０６ 。 出气 口的 落 差 损 失 系 数 ｎ 达式 如 ．１ 表
的 小尺 寸 孔径 有 利 于 通 过 分 散 器 的 气 体 流 场 均 匀 。 根 据 流 休 力学 分 析 ． 同 的 Ｈ气 口 具有 不 同 的 落 差损 失 不 ｊ
是通 过 化学 反 应 消耗 腐 蚀 性 的 气 体 ， 如 Ｈ ｌ Ｈ ， 从 而避 ｃ和 Ｆ
免 它们 推 真 空 泵 油和 真 空 泵 本 身 的损 害 ． 常 的 诱捕 材 料 是 通 活 性 炭和 化 学 品 的混 合 物 ， 一 般 采 用 小颗 粒 的 Ｎ Ｏ 或 Ｃ ａＨ ａ
模的生产 ，还必须考虑一些 其它的需求，如生产 量、经济、
安 全和 维 修 等 。
基 于 以 上 的这 些 要求 。 Ｖ Ｃ Ｄ设 备 系 统通 常 要 包 括一 些 一 些 子系 统 ：
５ ０ ５０ ，而进气孔的直径最大只有～２衄 。气体高速 ０ ￣２０ Ｍ ０
经 过 进 气 口进 入 反应 室 时 ， 迅速 扩 张 会 导致 气体产 生 涡 流 其 和 回流 等 ，导致 气 体 流场 不 均匀 ， 而对 沉 积均 匀度 和 沉积 从 物 的微 观 结构 产 生 不利 的 影 响 ． 因此 ，大型 Ｃ１炉 的进 气 口 ｖ ）
２ ４尾 气处 理 系 统 和 装 置 ． 尾 气 处 理 系 统 包 括冷 阱 、 子 阱 、 学 阱和 尾 气 处 理 罐 。 粒 化 其 中 ，冷 阱 、 粒 子 阱 、化 学 阱 处 于 真 空 泵之 前 反 应 室 之 后 ，
系数 和 气流 状 态 。 入 式 ｍ 气 口的 损 失 系 数 最 大 ， 近 于 ｌ 进 接 ；
１ ｖ 设备系统的构成 Ｃ Ｄ
任 何 一种 Ｃ Ｄ系统 都 需 要满 足 以下 四 个最 基 本 的 需求 ： Ｖ
传 输 和控 制 先 驱 体气 体 、载 气 和稀 释 气 体 进入 反 应 室 ： 供 提 激 发 化 学反 应 的 能 量源 ： 除 和 安全 处 理 反应 室 的 副产 物 废 排 气 ：精确 控 制 反应 参 数 ，温度 、压 力 和 气 体流 量 。对 于大 规
化 学 工程 与 装 备
１６ ３
Ｃ ｅ ｃ ｌ ｎ ｎ ｅ ｎ ＆ Ｅ ｕ ｐ ｎｔ ｈ ｍｉ ａ Ｅ ｇｉ ｅ ｒｉ ｇ ｑ ｉ ｍｅ
２ １ 年 第 ３期 ０１
２１ ０ １年 ３月
化 学气 相沉积 设备 与装 置
韩 同 宝
（ 国石 油集 团东 方地 球物理勘 探有限责任公 司敦煌经 理部 ，甘肃 敦煌 ７６ ０ ） 中 ３２ ０
匀， 高沉积厚度和微观结构的均匀性和稳定性 。导圆半径 提
越 人越 有 利 于流 场 的 均 匀 。
计 ，在浮球 、滤网及管壁等处形成附着物，影响流量计的测
控 精 度 。因此 ，两 种流 量 计 都 需 要 定 期进 行 清理 和校 准 。化
Ｃ Ｄ设备的加热 系统 可分为：电阻加热 ， Ｖ 一般要求低电
真 空 系统 包 括 真 空 泵 、 空 阀 门 、 路 、 力 表 等 构成 。 真 管 鹾 Ｃ１的 反 应 雎 力 一般 通 过 真 空系 统 的 阀 门和 真 空 泵 来 联合 、 ） 实 现 ． 空 阀 门 在 真 空 泵 和 反 应 室 之 间 ， 过 调 节真 空 阀 门 真 通 的 开 闭来 调 节真 空泵 的抽 气 速 率 。 从而 控制 反 应 室 内的 压 力 。 空 阀 门通 常 由 粗 调 的 蝶 阀 和 微 调 的 针法 组 或 ， 过 两 真 通 级 阀 门实现 沉积 压 力 的控 制 和 调 节 真 窄 管 路 的 拐 角 比直 管 的落 差损 失 系数 要 大 的 多 ， 种 这
和流量控制器控制其流量．液态、固态反应物的流量可通过 储料罐温度 、 载气流量和储料罐压力的调节来控制． 气体流 量控制仪有浮子流量计和质量流量计两种， 其中质量流量计
的 控 制精 度 更 高 。
２ ２反应系统和装置 ． 反应系统是化学反应和气相沉积进行的腔室，是 Ｃ Ｄ Ｖ
设 备 的核 心 部 件 ，通 常包 括 三 个 部分 ： 水冷 的不 锈钢 炉 体 ； 由进 气 口 、 体 分 散器 、反应 基 底 支捧 物 和 出气 口组 成 的 反 气 应 器 ：由加热 元 件 、绝 缘 和 隔热 件 、温 度 传感 和控 制 器组 成 的 加热 系 统 。 对 于 大 型 的 ＣＤ设备 来 说 。其 反应 室 的 直径 将达 到 Ｖ
保 证排 向大 气 的 气 体是 干 净 的 气 体 。 ３ Ｃ Ｄ设备 系 统 的消 理 和 维护 Ｖ
Ｃ Ｄ设备 系统 需 要 定 期进 行清 理 和 维护 以保 证 沉 积参 Ｖ 数 的准 确 控制 和 沉 积 设 备 的 安全 耐 用 。 时 间使 用后 ，气 体 长 中 的微 尘 等 杂 质或 易与 空 气 反 应 的气 体 会对 污 染 气 体 流 量
废气和控制反应压力，包括真空泵、管道和连接装置；（ ） ６
工 艺 自动 控 制系 统 ， 算机 自动 控 制 系统 用 于测 量和 控 制 沉 计
耐热耐磨耐腐蚀及生物医用材料等领域． 同传统材料制各技 术相比，Ｃ１技术具有以下优点：（） ｖ ） １可以在远低 于材科熔 点的温度进行材 料合成： ２ 可以控制合成材料的元素组成、 （） 晶体结构、微观形貌 （ 粉末状 、纤维状、技状、管状 、块状
４ 结 束 语
Ｃ Ｄ设备系统是保证制各材料微观结构 性能的关键 Ｖ
因素。 Ｖ Ｃ Ｄ系统 的典 型装 置及 仪器 仪 表 的使 用 都 需进 行 精 心 的 设 计和 选 择 ， 能保 证 ｃ， 程 气 流场 和 温 度场 的最 优 和 才 、 Ｄ过 可 控 ，才 能保 证 材 科结 构 和 性 能 的 可控 可 调 。 Ｖ Ｃ Ｄ典 型装 置
（ ）气体传输系统．用 于气体传输和混合：（ ）反应 １ ２
都要设计气体分散器． 对气流进行缓冲和分散，使进入反应
韩 同 宝 ：化 学 气相 沉 积 设备 与 装 置
１７ ３
室 的气 流 更 均 匀 。需 要 说 明 的 是 ，气 体 分 散 器对 气 体 的 分 散 效 果 分 散 器 距 离进 气 口 的距 离 和 分散 器 本 身 孔 隙 的大 小 和 多少 有 关 。通 常 来 讲 ，较 小 的 分 散 器 距 进 气 口距 离 、大量
损 失源 于边 界处 气 流 的分 离 和 二 次 涡 流 的产 生 。 界 的 分 离 边
需定期进行清理和校对。 针对具体的 Ｃ １设备系统和孝 科制 ｖ ） 才
备 要 求需 芟 具 体 的装 置 局 部 结 构 设 计和 调整 。
参 考 文 献
通 常 发 生在 拐 角 的 内测 ， 涡流 的产 生源 于 管路 弯 曲处 向 心 力 的不甲 衡 。在 弯 路 的 拐 角 处 加 装 导 向板 能 有 效 改 善这 一 状 况 ， 落 差 系 数 降 低 ，气 流 均 匀 ，从 而使 气 体 进 入 反 应 室 之 使 前 保持 流 场 均 匀 。
２ Ｉ 反应气 体传 输 装 置 ．
可以实现材料结构微米级 、亚微米级甚至纳米级控制：（） ５ 能够进行复杂形状结构件及图层 的制备； （） ６ 能够 制备梯度 复合材料及梯度涂层和 多层涂层 ：（） ７ 能够进行亚稳态物质 及新材料的合成 。目前 ，Ｃ Ｄ己成为大规模集成 电路的铁电 Ｖ 材料、绝缘材料 、磁性材料、光电子材料、高温热结构陶瓷 基复合材料及纳米粉体材料不可或缺的制备技术。 关于 Ｃ Ｄ技术的热力学、 力学 、 Ｖ 动 各种新型 Ｃ Ｄ方法及 Ｖ 制各粉 体、薄膜、纤维、块体 、复合材料的研究 已经有 了大 量的报道 。 然而， 关于 Ｃ Ｄ设备与装置的系统报道却很少见。 Ｖ 本文对 ＣＤ设备的系统 组成 、 Ｖ 典型装置与仪器及其维护进行
下 ｆ： ． ｊ
液 ，从 而 使大 部 分 酸性 气 体 被 溶 解 和 中和掉 ， 余 的 气 体 向 剩 上 流动 妓喷 洒 出 的 Ｎ Ｏ ａＨ溶 液 进行 再 次 或 多 次 的中 和 ，最 终
专
ｊ中， 为速率系数。 可见 ， 出气 口进 行 导 圆 处 理 后 将 有 利 于 气 体流 场 的 均 对
等 ） ３ 不 需 要烧 结助 剂 ， 以高 纯 度 合 成高 密度 材 料 ；（） ：（） 可 ４
积 温度 、压力、气体流量和沉积时间：（ ）尾气处理系统 ． ７
用 于处 理 危 害和 有 毒的 尾 气 和柱 子 ， 常包 括 冷阱 、 学 阱 、 通 化 粉 尘阱 等 。
２ ｖ 设备系统的典型装置 Ｃ Ｄ
于 宇航 工 业 上 的特 殊 复 合材 科 、 子 反应 堆材 料 、 具材 料 、 原 刀
室， 化学反应和沉积过程在其中进行 ：（ ）进装科系统 ，用 ３ 于装、出炉和产品在反应室 内的支捧装置；（ ）能量系统 ， ４
为 激发 化 学 反应 提 供 能量 源 ； ５ （ ）真 空 系统 ． 于捧 除 反应 用
压大 电流 ， 常 采 用 石 墨 发 热 体 或 电阻 丝 发 热 体 ： 射 加 热 ． 通 辐 如 卤索 灯 加热 ： 电磁 感 应 加 热 和 激 光 加 热 Ｃ Ｄ 度 的测 量 ， Ｖ温 １０ ℃ 以下 通 常 采 用 氧 化 铝 陶 瓷 套 管 保 护 的 金 属 热 电偶 ， ６０ １０ ℃ 以上 通 常 采 用 红 外 测 温 。 用 红 外 测 温 时 通 常 篙要 在 ６０ 采 测 温 点插 入 一 个 石 墨 件 以提 供 红 外 信 号 ． 热 材 料通 常 选 用 隔
了分析 和 总 结 。
Ｃ Ｄ的 反应 物有 气 体 、固 体和 液 体 三种 形 态 ．反应 物 为 Ｖ
气态的直接通入或通过载气传送近反应室 内． 反应物为固体 的通过加热变为气态或溶于无污染溶剂中变为液态经载气 传输进反应 室内。反应物为液态的可通过直接蒸发、 载气携
带 和 鼓 泡方 式 载 入 反应 室 内 。 态 反应 物 可通 过气 体减 压 器 气
摘 要： 本文介绍 了化 学气相沉积设备的系统组成与典型装置 ， 讨论了几种典型装置特点对化学气相沉积
过程的影响，分析和总结 了典型装置的维护对沉积参数控制精度及沉积过程 的影响。 关键词 ：化学气相沉积 ；设各：装置
wenku.baidu.com
前言 化 学气相沉积 （ｖ ） Ｃ Ｄ 技术是一种新型的材料制备方法， 它可以用于制各各种粉体材料 、块体 材料、新晶体材料 、陶 瓷纤维、半导体及金刚石薄膜等多种类型的材料， 广泛应用
石 墨 简 、碳 毡 或 石 英 毡 ． ２ ３真 宅 系 统 和 装 置 ．
学阱的诱捕材料和粒子阱的 油和过滤器长时间使用后其诱 捕功能下降或 丧失，需要定期进行清理和更换．真空泵油需
定 期 更换 ， 以避 免 因 有 害气 体 对 空 泵 油 的污 染 和 损 害对 真 空 泵 造 成损 伤 。 外 ， 电偶 和 力表 等仪 器 也 许 定 期进 行 此 热 校 对 以保 证 沉 积 参 数的 控 制 精 确 度 。
导圆 出气 口的 损 失 系 数 最 小 ， 可 达 ０ ０ ：尖 锐边 缘 出气 口 ．４
捉 ，然 后经 过 多 孔 的过 滤器 被二 次捕 捉 ．
酸性 气 体 通 过 气泵 进 入 尾 气 处 理 罐 ，强 制通 过 Ｎ Ｏ ａ Ｈ溶
的损 失系 数 为 ０６ 。 出气 口的 落 差 损 失 系 数 ｎ 达式 如 ．１ 表
的 小尺 寸 孔径 有 利 于 通 过 分 散 器 的 气 体 流 场 均 匀 。 根 据 流 休 力学 分 析 ． 同 的 Ｈ气 口 具有 不 同 的 落 差损 失 不 ｊ
是通 过 化学 反 应 消耗 腐 蚀 性 的 气 体 ， 如 Ｈ ｌ Ｈ ， 从 而避 ｃ和 Ｆ
免 它们 推 真 空 泵 油和 真 空 泵 本 身 的损 害 ． 常 的 诱捕 材 料 是 通 活 性 炭和 化 学 品 的混 合 物 ， 一 般 采 用 小颗 粒 的 Ｎ Ｏ 或 Ｃ ａＨ ａ
模的生产 ，还必须考虑一些 其它的需求，如生产 量、经济、
安 全和 维 修 等 。
基 于 以 上 的这 些 要求 。 Ｖ Ｃ Ｄ设 备 系 统通 常 要 包 括一 些 一 些 子系 统 ：
５ ０ ５０ ，而进气孔的直径最大只有～２衄 。气体高速 ０ ￣２０ Ｍ ０
经 过 进 气 口进 入 反应 室 时 ， 迅速 扩 张 会 导致 气体产 生 涡 流 其 和 回流 等 ，导致 气 体 流场 不 均匀 ， 而对 沉 积均 匀度 和 沉积 从 物 的微 观 结构 产 生 不利 的 影 响 ． 因此 ，大型 Ｃ１炉 的进 气 口 ｖ ）
２ ４尾 气处 理 系 统 和 装 置 ． 尾 气 处 理 系 统 包 括冷 阱 、 子 阱 、 学 阱和 尾 气 处 理 罐 。 粒 化 其 中 ，冷 阱 、 粒 子 阱 、化 学 阱 处 于 真 空 泵之 前 反 应 室 之 后 ，