第六章:保护基团

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第五章保护基团

第五章保护基团

锂化合物的全部反应。反应完毕,l,3-二噻环己烷化合物可在
高汞离子存在下用酸水解,变为羰基化合物。
43
例3 合成
44
例4 合成
45
例5 合成
46
5.5 羧基常用的保护
形成羧酸酯的形式被保护,
常用甲酯、乙酯、叔丁酯或苄酯。
叔丁酯用酸除去,苄酯用氢解法除去。 还可用酰胺和酰肼来保护羧基 。
甲酯和乙酯可以用羧酸直接与甲醇或乙醇发生酯化反应制得,又 可以被碱水解。 叔丁酯可由羧酸先变为酰氯,再与叔丁醇作用,或者通过羧酸与 异丁烯直接作用而得。它不能氢解,在通常条件下也不被氨解及 碱催化水解 。 苯甲酯可由羧酸与苯甲基卤在碱性条件下反应而得。它除了可在 强酸性或碱性条件下水解,还可以被氢解 。
2-叔丁氧羰基氧亚胺基苯乙腈
N O O N
23
O
NH2 COOH
Boc 2O NaOH, t -BuOH, H 2 O 78%
NH2.HCl HO COOMe
Boc2 O Et3 N 95% HO
NHB
C
H N Boc 2O HN O DMAP, Et N
24
B
N Boc
N
常用脱保护剂:三氟乙酸/CH2Cl2、HF/H2O
25
2、苄氧羰基(Cbz或Z) • 常用保护试剂:苄氧甲酰氯(CbzCl) • 常用脱保护剂:催化氢解、锂氨还原
26
27
3、 9-芴甲氧基羰基(Fmoc):常用于多肽合成 常用保护试剂:Fmoc-Cl(9-fluorenylmethoxycarbonyl-Cl) 常用脱保护剂:NH3, Et2NH(DEA), 哌啶(六氢吡啶) ,吗啡啉
11
5.1.3 生成烷基醚保护基

有机合成课件保护基团

有机合成课件保护基团

要点二
详细描述
在有机合成中,酮是一种常见的反应物和产物,但它的羰 基容易受到氧化和还原等反应的影响。为了保护酮的羰基 ,可以使用各种保护基团,如甲氧羰基、乙氧羰基、丙氧 羰基等。这些保护基团可以与酮形成稳定的化学键,从而 避免酮参与不必要的反应。
THANKS
谢谢
详细描述
在有机合成中,羧酸是一种常见的反应物和产物,但它的羧基容易受到脱羧和氧化等反应的影响。为了保护羧酸 ,可以使用各种保护基团,如甲酯、乙酯、丙酯等。这些保护基团可以与羧酸形成稳定的化学键,从而避免羧酸 参与不必要的反应。
醛基保护基团的应用实例
总结词
醛基保护基团能够保护醛免受氧化和还原等反应的影响。
保护。
硅氧基
如三甲基硅氧基,常用 于醇的保护,易于脱去

磷酸酯基
如磷酸三乙酯、磷酸三 丁酯等,适用于醇的保
护,并可耐强酸。
氨基保护基团
乙酰基
常用于伯胺的保护。
苯磺酰基
适用于仲胺和叔胺的保护,可 在酸性条件下脱去。
甲磺酰基
适用于仲胺的保护,可在酸性 条件下脱去。
丙酮肟基
适用于伯胺的保护,可在酸性 条件下脱去。
羧基保护基团
甲酯基
常用于羧酸的保护,可在碱性条件下脱去。
苯甲酯基
适用于不活泼羧酸的保护,可在碱性条件下 脱去。
乙酯基
适用于羧酸的保护,可在碱性条件下脱去。
氨基甲酸酯基
适用于羧酸的保护,可在酸性或碱性条件下 脱去。
醛基保护基团
烯丙基
常用于醛的保护。
苯甲酰基
适用于醛的保护,可在酸性条件下脱 去。
乙酰基
亲核加成反应
在形成氮-保护基团时,通常发 生亲核加成反应,即试剂进攻有 机物中的硝基、磺酸酯等基团,

保护基团方法大全

保护基团方法大全

2). 硅醚保护基 硅silyl, TMS);
Et3Si
(triethylsilyl, TES);
t-BuMe2Si (tert-butyldimethylsilyl, TBDMS or TBS)
i-Pr3Si (triisopropylsilyl, TIPS)
tbuokdmsonaoh烷氧基烷基醚mom甲氧基甲基醚methoxymethylethermtm甲硫基甲基醚methylthiomethylethermem甲氧基乙氧基甲基醚methoxyethoxymethyletherbom苄氧基甲基醚benzyloxymethylethersem三甲硅基乙氧基甲基醚trimethylsilylethoxymethyletherreagents
硅醚保护基的除去: (F-Si 142 kcal/mol; O-Si 112 kcal/mol) 通常用 HF / CH3CN; TBAF / THF; HF.Py / CH3CN
TMS ether: TMSCl or TMSOTf in pyridine, NEt3, I-Pr2NEt, imidazole, DBU
TBDMS ether: TBDMSCl / imid. / DMF; TBDMSOTf / 2,6-dimethylpyridine
OH OBMPO O
TBDMSOTf
OBz
2,6-di-tert-buylepyridine CH2Cl2, rt, 24 h
OTBS OBz
OBMPO O
Hikota, M.; Tone, H., Horita, K.; Yonemitsu, O. J. Org. Chem., 1990, 55, 7.
O
Cl
OBn OBn

《保护基团》PPT课件

《保护基团》PPT课件

F
F
EtOAc
O
NaN3
F
F
NH2
NH
N3
F
F
F
F
NH2
N-乙酰基保护
N-烷基和 N-甲硅烷基保护
Example
NH2
1)nBuLi H 2)Me3SiCl P Ph
N(H)SiMe3
1)nBuLi/ DBPBr
H 2)MeOH
P Ph
tBu2P
NH2 P
Ph
感谢下 载
基团的保护
➢羟基的保护 ➢二醇的保护 ➢醛\酮的保护 ➢氨基的保护
醇的保护
➢醚化和酰基化 ➢硅醚化
甲基醚
成醚或酰基化
试剂: MeI, (MeO)2SO2, MeOTf 去保护基: TMSI/CH3Cl, BBr3/CH2Cl2
苄基醚
试剂: PhCH2Br/NaH,BnBr/Ag2O/DMF 去保护基: Pd/C-H2, Na/NH3(l), TMSI, BCl3/CH2Cl2
甲氧基ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ基醚
试剂: ClCH2OCH3/NaH/DMF 去保护基: 6M HCl-THF- H2 O
甲硫基甲基醚
试剂: ClCH2SCH3/NaH/DMF 去保护基: AgNO3, HgCl2 , MeI
甲氧基乙氧基甲基醚
MEM
试剂: ClCH2OCH2CH2OCH3/NaH/DMF
去保护基: ZnBr2/CH2Cl2, TiCl4/CH2Cl2
氨基的保护
➢ N-氨基甲酸酯保护基 ➢ N-乙酰基保护 ➢ N-烷基和 N- 硅烷基保护
N-氨基甲酸盐保护基
OH (a)O(Boc)2, NEt3, CH2Cl2

6-1有机合成中的 保护基团-4

6-1有机合成中的 保护基团-4

RCOCH 2CH 2OH +R'MgXC OHCH 2CH 2OH RR'R'H +RCOCH 2CH 2OMgXH 2ORCOCH 2CH 2OHNa R''XRCOCH 2CH 2OR''1.R'MgX2.H 3O +C OHCH 2CH 2OR''RR'ΔHI,H 2OC OHCH 2CH 2OH RR'ProtectdeprotectFisher当多功能基有机化合物进行反应时,为使应用保护基团目的一、能达到反应希望的区域选择性;二、提高反应的立体选择性;三、有利于多种产物的分离。

四、经济的选择。

C123H213NO5341个羟基,1个缩酮,1个半缩酮1个氨基,1个羧基42个被保护(39个羟基,1个二醇1个氨基,1个羧基)520948种不同保护基团,5种除去方法。

O CH 2OHOHOH OHOH O CH 2OAc OAcOAc OAc OAc O CH 2OAc OAc OAcOAcO CHOO CH 2OAcOAc OAcOAc O CH 2OH O CH 2OH OH OH OH O CH 2OH 乙酰化还原水解天麻素乙酰天麻素O CH 2OAc OAc OAc OAc CHOHOMeONa/MeOHNaOH/THF PTCAc 2O/HClO 4KBH 4P/Br 2or AcBrBr天麻素的合成4. 形成三苯基甲醚(ROCPh 3)ROHROCPh 3P h 3CCl,Pyr,DMAP ZnBr 2,or H 2/Pd1.1.2羟基的保护基团-烷基醚类保护基选择性保护伯羟基1.1.3羟基的保护基团-硅醚类保护基R-OH +R-OSiR'Py or Et 3NR'SiClF-Si Cl CH 3CH 3CH 3(TMS)Si Et Et Et Cl (TES)Si Et Et Cl (TBDMS)Me Me Me Si Cl MeMeMe MeMeMe(TIPS)Si Ph Ph Cl Me Me Me (TBDPS)E. J. Corey ,J. Am. Chem. Soc. 1972; 94(17)6190TBAF :Bu 4N +F –酸水解相对稳定性次序:TMS(1) < TES(64) < TBDMS(20 000) < TIPS(700 000) <TBDPS (5 000 000)碱水解相对稳定性次序:TMS(1) < TES(10~100) < TBDMS = TBDPS (20 000) < TIPS(100 000)CH2OH2.HNHRNH(CH2)2OH COOHH2SO4 MeOHRN HOOMeSO3H RNH(CH2)2OHCOOMeMeSO2ClRNH(CH2)2OSO2MeCOOMeMeSO2ClMeoHRNH (CH2)2OSO2MeCOOHRNHN舒马曲坦利扎曲普坦佐米曲普坦肽合成中的氨基保护R2NHR1R2NH·HClR1+Boc2ONaHCO3,EtOH))))),RT R2NBocR184~100%Boc2OO O OO OJacques Einhorn, Syn. Lett. 1991, 37RNHBocTFA/CHCl3+CO2+RNH3+H+1.6 端炔基的保护R M M=Li,Mg R'3SiClR SiR3R SiR3TBAF,THFR HTBAF:Bu4N+F–Br C CMgBr Me3SiClBr C CSiMe3MgTHF BrMg C CSiMe3HO2C C CSiMe31.CO22.H3O+AgNO3/OH-H3O+HO2C C CH思考题O OH O OH OAc OBr O OO按指定原料合成下列化合物欢迎提问!!!!。

《基团保护》课件

《基团保护》课件
基团保护在有机合成中起到关键作用,能够避免副反应的发生,提高合成效率和 产物纯度。
详细描述
在有机合成中,常常需要保护某些特定基团,以避免在合成过程中发生不必要的 副反应。通过基团保护,可以有效地控制反应进程,提高产物的纯度和收率。例 如,在醇的氧化反应中,可以使用硅基团保护醇的羟基,使其免受氧化。
在药物合成中的应用
保护基的选择
常用的胺保护基有苄基、 对甲氧苯基等,可根据需 要选择合适的保护基。
保护基的去除
在需要恢复胺时,可通过 酸碱或还原等方法将保护 基去除。
羧酸的基团保护
羧酸的酯化
通过与醇或酚类等试剂反应,将 羧酸转化为相应的酯或酸酐,以
降低羧酸的酸性。
保护基的选择
常用的羧酸保护基有甲酯、乙酯 、苄基酯等,可根据需要选择合
同时,随着计算机辅助合成路线 的快速发展,基团保护策略的优 化和自动化也成为研究的重要方
向。
02
基团保护的原理
Chapter
基团保护的反应机制
基团保护是指通过化学反应将有机化 合物中的活泼基团暂时转变为相对稳 定的中间体,以实现选择性反应和保 护基团的目的。
基团保护的反应机制是可逆的,可以 通过适当的化学反应将保护基团去除 ,恢复原始化合物的结构和性质。
选择性保护的实现通常依赖于底物结构和反应条件的选择和优化,以实现最佳的保 护效果。
基团保护的反应条件
基团保护的反应条件是指实现 基团保护所需的温度、压力、 溶剂、催化剂等反应条件。
适宜的反应条件可以促进保护 反应的进行,提高反应速率和 选择性,同时减少副反应和产 物分离的难度。
基团保护的反应条件通常需要 温和、无害、环保,以适应大 规模生产和绿色化学的要求。
此外,某些基团在反应中具有不稳定性,容易发生副反 应或降解,通过基团保护可以有效地保护这些基团,提 高产物的收率和纯度。

有机合成中的保护基pdf

有机合成中的保护基pdf

有机合成中的保护基在有机合成中,保护基团的作用是暂时地、有选择性地保护一个或多个反应中心,使之不受反应试剂的影响。

这样,就可以在合成复杂有机分子时,对特定的反应中心进行精确的控制,从而得到所需的产物。

例如,在醇的反应中,常用的保护基团是甲醚和乙醚,它们可以保护醇的羟基免受酸或碱的影响。

而在胺的反应中,常用的保护基团是羧基酯类,如Boc(叔丁氧羰基)和Cbz(苄氧羰基),它们可以保护胺的氨基免受氧化或水解的影响。

保护基团在有机合成中起到了非常重要的作用,主要表现在以下几个方面:1.反应选择性的控制:通过引入保护基团,可以防止某些不希望的副反应发生,提高合成效率。

例如,在醇的氧化反应中,可以通过引入甲醚或乙醚基团来保护醇的羟基,避免氧化反应同时发生。

2.特定化学键的保护:某些化学键在反应条件下不稳定,容易发生反应。

通过引入保护基团,可以保护这些化学键,使其在合成过程中保持稳定。

例如,在氨基酸的合成中,可以通过引入Boc(叔丁氧羰基)基团来保护氨基,使其在酸性条件下保持稳定。

3.简化合成步骤:通过引入保护基团,可以将多步合成反应串联起来,从而简化了合成步骤,提高了合成效率。

例如,在糖类化合物的合成中,可以通过引入磷酸酯基团来保护糖的羟基和氨基,使糖的合成更为方便。

4.增强分子的稳定性:通过引入保护基团,可以提高分子结构的稳定性,从而提高了产物的质量。

例如,在某些天然产物的提取和分离中,可以通过引入乙醚基团来保护某些不稳定的官能团,从而提高其稳定性。

总之,保护基团在有机合成中具有重要的作用,可以控制反应选择性、保护特定化学键、简化合成步骤和提高分子稳定性等。

因此,在实际的有机合成中,选择合适的保护基团是非常重要的。

《保护基团》课件

《保护基团》课件
《保护基团》PPT课件
本课件将为您介绍保护基团的概念及其在化学和生物领域中的重要性和应用。 让我们一起探索这个令人着迷的主题。
保护基团
在本节中,我们将介绍保护基团的定义和其在化学和生物领域中的应用。保 护基团是实现有机合成和生物学研究中成功的关键因素。
保护基团的方法
有机合成中的保护基团
了解有机合成中保护基团的定义和常见的保护基团,以及它们引入和去除的方法。
- Chen, T.; Wu, S.; Li, H. Applications of protecting groups in organic synthesis. Journal of Organic Chemistry, 2018.
- Zhang, L.; Wang, J.; Zhao, S. The role of protective groups in biomedical research. Nature Reviews Drug Discovery, 2019.
结论
通过本课件,我们了解了保护基团在化学和生物领域中的重要性和应用前景。 同时,我们还探讨了今后的研究方向以推动该领域的发展。Fra bibliotek参考文献
- Adams, J.; Dolfi, A.; Hartman, C.; McCoy, M. D.; Smaltz, J. Design and implementation of protected areas. Journal of Environmental Conservation, 2020.
生物学中的保护基团
探索生物大分子中的保护基团的功能和去除方法,以及它们在生物学研究中的重要性。
保护基团在化学及生物领域中的应用
化学合成中的应用

《有机化学保护基团》课件

《有机化学保护基团》课件

总结与展望
通过深入了解有机化学保护基团的概念、选择、设计、引入和去除方法,我 们能更好地应用它们来实现有机合成中的复杂目标。
保护基团的引入与去除方法
有机化学中有多种方法可用于引入和去除保护基团,对应不同的化学官能团和保护基团。
引入保护基团
引入保护基团的方法包括选择 合适的试剂和反应条件,以实 现化学官能团的保护。
去除保护基团
去除保护基团的方法通常涉及 反应条件的调节解除保护基团时需要特定的条 件和试剂,以恢复原始的化学 官能团。
《有机化学保护基团》 PPT课件
通过本课件,我们将深入探讨有机化学中关键的保护基团的概念和应用,帮 助您更好地理解它们的作用和原理,并了解如何选择和设计保护基团,以及 它们的引入和去除方法。
保护基团的概念
保护基团在有机合成中起到关键的作用,它们能够有效保护或控制某些化学官能团的反应,从而实现合 成目标的达成。
保护基团的选择与设计
选择适合的保护基团和设计合理的保护策略是有机合成中的关键步骤。
1
化合物结构分析
通过化合物结构分析,选择适合的保护基团,考虑其稳定性和去除条件。
2
保护和反应评估
通过保护和反应评估,确定保护基团对目标反应的影响,并调整保护条件。
3
保护基团设计
根据化合物和目标反应的要求,设计合理的保护基团序列和去除策略。
有机合成中的保护基团策略
在有机合成中,保护基团策略对于实现复杂分子的全合成至关重要。
多步合成中的保护
在多步合成中,保护基团可以帮助稳定和控制中间产物,从而实现反应的高选择性和高产率。
保留关键官能团
通过保护关键官能团,可以防止其受到不需要的反应的影响,使其在合成过程中保持完整。

有机合成中的重要保护基团和去保护方法

有机合成中的重要保护基团和去保护方法

有机合成中的重要保护基团和去保护方法在有机合成中,保护基团扮演着至关重要的角色。

它们可以保护反应中的特定功能团,以防止其与其他试剂发生不必要的反应。

保护基团的引入和去除成为了有机合成中的两个关键步骤。

在本文中,我们将探讨一些有机合成中的重要保护基团,以及去除它们的方法。

1. 醇保护基团醇保护基团是有机合成中最常用的保护基团之一。

它可以通过与醇反应生成醚来引入。

常用的醇保护基团包括醇酯、醚和醇醚。

在选取保护基团时,需要考虑其稳定性和去保护的条件。

去除醇保护基团的方法有很多种。

常用的方法包括酸处理和还原。

酸处理通常使用强酸,如硫酸、盐酸或三氟甲磺酸。

还原方法则是使用还原试剂,如铝醇盐或氢化钠。

2. 酰基保护基团酰基保护基团是保护羧酸的常用基团。

它可以通过与酸反应生成酯来引入。

常用的酰基保护基团包括乙酰基、苄酰基和丙酰基。

选择合适的酰基保护基团需要考虑其稳定性和易于去除的条件。

去除酰基保护基团的方法主要有碱处理和酸处理。

碱处理通常使用碱性试剂,如碳酸氢钠或氢氧化钠。

酸处理则使用酸性试剂,如盐酸或三氟甲磺酸。

3. 氨基保护基团氨基保护基团常用于保护胺官能团。

常用的氨基保护基团包括铺地基(Boc)、苄基、三甲基硅基(TMS)和甲酰基。

选择保护基团需要考虑其稳定性和去除的条件。

去除氨基保护基团的方法有多种。

常用的方法包括酸处理和碱处理。

酸处理通常使用强酸,如三氟甲磺酸或盐酸。

碱处理通常使用氢氧化钠或氢氧化铯。

4. 硅基保护基团硅基保护基团常用于保护醇和酚官能团。

常用的硅基保护基团包括二甲基氧硅基(TBS)、二异丙基氧硅基(TIPS)和三甲基硅基(TMS)。

选择硅基保护基团需要考虑其稳定性和去除的条件。

去除硅基保护基团的方法主要是酸处理。

常用的酸处理试剂包括氢氟酸、三氟甲磺酸和硼氟酸。

总结起来,有机合成中的保护基团起着至关重要的作用。

正确选择保护基团可以有效地保护特定的功能团,而去除保护基团则是合成目标化合物的关键步骤。

基团的保护

基团的保护

12.4 基团的保护(P209)保护基应满足下列3点要求(李209):(1) 保护基在温和条件下容易引入所要保护的分子。

(2) 保护基与被保护基形成的结构能够经受住保护阶段所发生的反应的条件,而不起反应。

(3) 保护基易于在温和条件下除去,即可以在不损及分子其余部分的条件下除去,而且对反应物分子不起其他作用(如不会因空间效应而引起立体结构的变化)。

一、羟基的保护醇与酚都容易被氧化、烷基化和酰基化(酚羟基使苯环易于氧化)。

但有不同,仲醇和叔醇常易脱水,有时要加以阻止。

保护醇类ROH 的方法一般是将羟基制成醚类ROR ′或酯类ROCOR ′,前者对氧化剂或还原剂都有相当的稳定性。

这是羟基保护的主要方法。

(一)形成甲醚类(讲)先用碱脱去羟基的质子,再与合成子+CH 3作用,如使用试剂NaH /(CH 3)2SO 4、CH 3I/OH -或(CH 3)2SO 4/OH -。

ROH ROCH 3333对RMgX 、LiAlH 4、CrO 3、碱稳定。

C 6H 5OH C 6H 5OCH 3C 6H 5OH CH 3I 或(CH 3)2SO 4-HI对RMgX 、LiAlH 4、CrO 3、碱稳定。

(二)形成混合型缩醛⑴ 四氢吡喃醚ROTHP (Tetrahydropyranyl )(讲)制备时,使用二氢吡喃与醇类在酸催化下进行加成作用。

对RMgX 、LiAlH 4、CrO 3、碱、金属氢化物稳定。

(前讲义)ROH O ,TsOH,Et O ROH +2欲恢复到醇类,则在酸性水溶液中进行水解,即可脱去保护基团。

(三)形成乙酸酯类(ROCOCH 3)用乙酐在吡啶中将一级、二级醇转变为乙酸酯,吡啶是用来吸收生成的乙酸(巨167):ROH ROCOCH 3K 2CO 3溶液(CH 3CO)2O 吡啶-CH 3OH ROH二、二醇的保护三、羰基的保护 最重要的是形成缩醛和缩酮。

缩醛和缩酮的保护基不与碱、氧化试剂或亲核试剂(如H -,RMgBr)作用,而通常以酸水解回复到羰基。

保护基团在有机合成中的应用课件

保护基团在有机合成中的应用课件


保护酚羟基不被硝酸氧化
保护基团在有机合成中的应用
10
练3:工业上用甲苯生产对—羟基苯甲酸乙酯
一种常用的化妆品防霉剂),其生产过程如下(反应条件及某些反应 物、产物未全部注明):
按上图填写下列空白:
(1)在合成路线中,设计反应③和反应⑥的目保的是护_酚__羟___基__不__被__。氧化
(2)写出反应⑤的化学方程式(有机物写结构简式,注明反应条件)。 ______________________保_护_基_团_在_有__机_合_成_中_的_应__用__________________1_1___
将其中不需要反应的基团先保护起来,待
合成任务完成后,再脱去保护基。但是,
从减少反应成本的角度考虑,最好的策略
是尽量避免使用保护基,也能达到有机合
成之目的。
保护基团在有机合成中的应用
17
保护基团在有机合成中的应用
18
答案1
保护基团在有机合成中的应用
19
保护基团在有机合成中的应用
20
答案2
保护基团在有机合成中的应用
• 从题给信息中筛选出以上两条,然后根据 基团保护的有机合成过程:基团保护有机 合成被保基团还原(前后可能还有其他有机 反应),不难得出答案。
保护基团在有机合成中的应用
5
常见的基团保护法
基团保护一般包括引入保护基和去保 护基的两个过程。包括:对碳碳双键 的保护;对酚羟基的保护;对羰基的 保护;对氨基的保护;对碳氢键的保 护;对醇羟基的保护;对羧基的保护 等。
取代基则取代在间位上:
写出试剂X、Y、Z的化学式(或名称)。X__________,
Y_(_3_)浓_H_N_O_3_/_浓_H_2,SOZ4 ____保K_护M_基n_O团_在4_/有H。+机合成中的应Fe用/HCl

有机合成中的保护基

有机合成中的保护基
第六章 有机合成中的保护基
保护基团(Protecting Groups): 将不希望发生反应的部位保护起来成为衍生物形式,待达到 目的后再恢复到原来的官能团。
下列情况考虑应用保护基团:
保护一些基团后能控制反应的区域选择性 保护某些基团后能提高反应的立体选择性 保护某些基团后有利于多种产物的分离
选择保护基时要考虑: 1、保护基的供应来源,经济易得
2、 Cleavage Et3N, Pyr, 2 h, 83-96% yield
C. Gioeli and G. B. Chattopadhyaya, J. Chem. Soc., Chem. Commun., 672 (1982). K. Takeda, K, Tsuboyama, M. Hoshino, M, Kishino, and H. Ogura, Synthesis, 557,(1987).
K. C. Nicolaou, T. J. Caulfield, H. Kataoka, and N. A. Stylianides, J. Am. Chem. Soc., 112,3693 (1990).
2、Sm, I2, MeOH, 24 h reflux, 95% yield. Troc, Ac, and Bz groups are also cleaved.
5、MeC(OMe)3, TsOH, 1.5 h, then H2O for 30 min 6、Ac2O, Sc(NTf2)3, CH3CN, 0 0C, 1 h, 99% yield. The method is also good for tertiary alcohols.
Cleavage
1 . K2CO3, MeOH, H2O, 20 0 C, 1 h, 100% yield。 When catalytic NaOMe is used as the base in methanol, the Method is referred to as the Zemplen de-O-acetylation. 2、KCN, 95% EtOH, 20 0 C to reflux, 12 h, 93% yield. 3、Guanidine, EtOH, CH2Cl2, rt, 85-100% yield. 4、BF3*Et2O, wet CH3CN, 96% yield

有关官能团的保护

有关官能团的保护

有机合成中的基团保护、导向基(高考必备)(一)基团保护在有机合成中,些不希望起反应的官能团,在反应试剂或反应条件的影响下而产生副反应,这样就不能达到预计的合成目标,因此,必须采取对这些基团进行保护,完成合成后再除去保护基,使其复原。

对保护措施一定要符合下列要求:①只对要保护的基团发生反应,而对其他基团不反应;②反应较容易进行,精制容易;③保护基易脱除,在除去保护基时,不影响其他基团。

下面只简略介绍要保护的基团的方法。

1、羟基的保护在进行氧化反应或某些在碱性条件进行的反应,往往要对羟基进行保护。

如防止羟基受碱的影响,可用成醚反应。

防止羟基氧化可用酯化反应。

2、对氨基的保护氨基是个很活泼的基团,在进行氧化、烷基化、磺化、硝化、卤化等反应时往往要对氨基进行保护。

(1)乙酰化(2)对NR 2可以加H + 质子化形成季铵盐,– NH 2也可加H + 成 – NH3而保护。

3、对羰基的保护羰基,特别是醛基,在进行氧化反应或遇碱时,往往要进行保护。

对羰基的保护一般采用缩醛或缩酮反应。

4、对羧基的保护羧基在高温或遇碱性试剂时,有时也需要保护,对羧基的保护最常用的是酯化反应。

– OH –OR– NH 2 CH 3COCl或酸酐–NH 2-C -CH 3O–COOH + R –OH – COORH +–CHO + 2ROH – CH(OR)2H +-O -C -RO– OH5、对不饱和碳碳键的保护碳碳重键易被氧化,对它们的保护主要要加成使之达到饱和。

(二)导向基在有机合成中,往往要“借”某个基团的作用使其达到预定的目的,预定目的达到后,再把借来的基团去掉,恢复本来面貌,这个“借”用基团 我们叫“导向基”。

当然这样的基团,要符合易“借”和易去掉的原则,如由苯合成1,3,5 – 三溴苯,在苯的亲电取代反应中,溴是邻、对位取代基,而1,3,5 – 三溴苯互居间位,显然不是由溴的定位效应能引起的。

但如苯上有一个强的邻、对位定位基存在,它的定位效应比溴的定位效应强,使溴进入它的邻、对位,这样溴就会呈间位,而苯环上原来并无此类基团,显然要在合成时首先引入,完成任务后,再把它去掉,恰好氨基能完成这样的任务,因为它是一个强的邻、对位定位基,它可如下引入:– H → – NO 2 → – NH 2 ,同时氨基也容易去掉:– NH 2 → – N 2 → – H 因此,它的合成路线是:根据导向基团的目的不同,可分为下列几种情况: 1、致活导向假如要合成 可以用 但这种方法产率低,因为丙酮两个甲基活性一样,会有副反应发生:但在丙酮的一个甲基上导入一个致活基团,使两个甲基上的氢的活性有显著差别,这可用一个乙酯基(–COOC 2H 5)导入丙酮的一个甲基上,则这个甲基的氢OC 6H 5O+ C 6H 5BrOC 6H 5OC 6H 5C 6H 5Br碱C 6H 5Br碱O C 6H 5C 6H 5O有较大的活性,使这个碳成为苄基溴进攻的部位,因此,利用乙酰乙酸乙酯而不用丙酮,完成任务后,把乙酯基水解成羧基,利用β– 酮酸易于脱羧的特性将导向基去掉,于是得出合成路线为:2、致钝导向活化可以导向,有时致钝也能导向,如合成氨基是很强的邻、对位定位基,进行取代反应时容易生成多元取代物:如只在苯胺环上的氨基的对位引入一个溴,必须将氨基的活性降低,这可通过乙酰化反应来达到,同时乙酰氨基是一个邻、对位定位基,而此情况下对位产物是主要产物:3、利用封闭特定位置来导向例如合成 ,用苯胺为起始原料,用混酸硝化,一方面苯胺易被硝酸氧化,另一方面,苯胺与硫酸还会生成硫酸盐,而 是一个间位定位基,硝化时得到,所以苯胺硝化时,要把苯胺乙酰化后,再硝化。

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CH2OH CHOH CH2OH PhCHO HCl (20%) O OH O H
CH3COCH3 (80%) HCl O CH3 O CH3 CH2OH (1)CH3(CH2)14CO2H (43%) dry HCl (2)H2O CH2OH CHOH CH2OC(CH2)14CH3 O
Ph H
保护基团与 第六章 保护基团与合成策略
一 保护基团 复杂的有机化合物可能含有多种官能团, 复杂的有机化合物可能含有多种官能团 , 在合成的 过程中,若能够利用高选择性的试剂, 过程中 , 若能够利用高选择性的试剂 , 只对某个特定的 部位或官能团进行反应,当然是最佳的策略。 部位或官能团进行反应,当然是最佳的策略。 但是在实际的过程中常常无法找到适当的试剂,能 但是在实际的过程中常常无法找到适当的试剂, 够满足选择性的要求。 这个时候 , 够满足选择性的要求 。 这个时候, 可先将某些基团保护
非环键的断开可有如下规律: 非环键的断开可有如下规律: 的断开可有如下规律
(1)确定可保持的主体结构。芳环、芳烷、烷基可属于此类 )确定可保持的主体结构。芳环、芳烷、 结构。要考虑到它们应达到最大利用效率。 结构。要考虑到它们应达到最大利用效率。如能保持一 个芳烷基要比保持一个芳基为好。 个芳烷基要比保持一个芳基为好。这样才能是合成达到 较高的简化。 较高的简化。 (2)如环直接嵌入骨架中,不要在环旁切断,而应在离环 )如环直接嵌入骨架中,不要在环旁切断,而应在离环13个碳原子处。有立体中心时,也在离该中心 个原子 个碳原子处。 个碳原子处 有立体中心时,也在离该中心1-3个原子 处切断。 在两个官能团之间, 也在其中1-3个碳原子处 处切断 。 在两个官能团之间 , 也在其中 个碳原子处 断开。 断开。 是切开的地方。 (3)碳原子和杂原子的连接处是切开的地方。 )碳原子和杂原子的连接处是切开的地方 相同的部分, (4)如一个分子切开后,能出现两个相同的部分,这是切开 )如一个分子切开后,能出现两个相同的部分 的好地方,会引来合成的简化。 的好地方,会引来合成的简化。
(一)基于转化方式的策略 选择有高效的, 简化的转化方式, 选择有高效的 , 简化的转化方式 , 以列出一条起 自目标物(TGT或goal)的反合成路线 合成路线, 自目标物(TGT或goal)的反合成路线,也可以分成多个 合成步骤( steps) 反合成步骤(antisynthetic steps),而有多个亚目标 sub-goals) 物(sub-goals)。 基于转化方式的策略就是在合成的几个关键反应上 选择最佳的单元合成反应。 选择最佳的单元合成反应。
在一些例子中, 最后一条可以放宽, 允许保护基 在一些例子中 , 最后一条可以放宽 , 被直接转变为另一种官能团。 被直接转变为另一种官能团。
(一)羟基的保护基团
保护醇类 ROH 的方法一般是制成醚类 (ROR′) 或酯 ′ ROCOR′ 前者对氧化剂或还原剂都有相当的稳定性。 类(ROCOR′),前者对氧化剂或还原剂都有相当的稳定性。 1. 形成甲醚类 ROCH3
(二) 基于结构目标的策略
从目标物的分子结构出发考虑引向一个有效 目标物的分子结构出发考虑引向一个有效 的前体,可以是中间体,逐步反推到合成的起始 的前体,可以是中间体,逐步反推到合成的起始 也可以有多条反合成路线而再加以比较。 物。也可以有多条反合成路线而再加以比较。也 可以双向探索( search) 可以双向探索(bidirectional search),即从 目标物反推到某中间体, 目标物反推到某中间体,再由已有的原料出发列 出合成此中间体的路线。 出合成此中间体的路线。
R2C=O CH3OH,H+ 2N H2SO4 OCH3 R2C OCH3
2) 形成乙二醇缩酮R2C(OCH2)2
R2C=O HOCH2CH2OH,H+ H3O+ R2C O CH2 O CH2
CO2CH3 O
HOCH2CH2OH TsOH benzene (86%)
CO2CH3 O O LiAlH4 (67%)
苄基对于温和酸处理是稳定的,它易被氢解除去。 苄基对于温和酸处理是稳定的,它易被氢解除去。
(五) 氨基的保护
氨基常用N-烷基或 N-硅烷基作为保护基
苄基保护 最常用的保护基是 N-苄基保护 苄基保护:
K2CO3 H2,AcOH/10%Pd C
RNH2
+
PhCH2X
RNHCH2Ph
X=Cl,Br
二 合成策略
Corey 根据他的极为丰富的有机合成路线设计经验, 根据他的极为丰富的有机合成路线设计经验, 将有关有机合成路线设计的总的策略分为五个方面, 将有关有机合成路线设计的总的策略分为五个方面 , 被 称为“五大策略” 这就是: 称为“五大策略”。这就是: 1. 基于转化方式的策略(Transform-based strategies) 基于转化方式的策略( ) 转化方式的策略 结构目标的策略 2. 基于结构目标的策略(Structural-goal strategies) 基于结构目标的策略( ) 3. 拓扑学的策略(Topological strategies) 拓扑学的策略 的策略( ) 4. 立体化学的策略(Stereochemical strategies) 立体化学的策略 的策略( ) 5. 基于官能团的策略(Functional group-based 基于官能团的策略( 官能团的策略 strategies) )
(40%)
(1) CH3(CH2)14COCl (2) H2/Pd
CH2OH CHOCO(CH2)14CH3 CH2OH
(三) 羰基的保护
R R C O R' R' C Y X
保护羰基的方法主要是形成缩
酮或其对等物
缩酮的保护基不与碱 氧化剂或亲核剂( 缩酮的保护基不与碱,氧化剂或亲核剂(如H-,RMgBr 作用,而通常以酸水解回复到羰基。 以酸水解回复到羰基 )作用,而通常以酸水解回复到羰基。 1) 形成二甲醇缩酮 R2C(OCH3)2
ROH
NaH,PhCH2Br Li,NH3
ROCH2Ph
4. 形成酯类 主要保护基有: 主要保护基有:t-BuCO(Piv)、PhCO、MeCO等。 、 、 等
OH HO t-BuCOCl Py-CH2Cl2 OH 90% HO OH O O
t-BuCOCl可以选择性地保护伯羟基。 可以选择性地保护伯羟基。 可以选择性地保护伯羟基
关于有机合成路线设计的具体知识已在前几章 中都介绍完了。大致可分成两类: 中都介绍完了。大致可分成两类:
一类是有机合成的具体技术,有氧化反应,还原反应, 一类是有机合成的具体技术,有氧化反应,还原反应, 具体技术 环化反应,杂原子和杂环化合物的合成等; 环化反应,杂原子和杂环化合物的合成等; 另一类是有机合成路线设计的策略,即思维方法, 另一类是有机合成路线设计的策略,即思维方法,有 策略 分子的拆开,导向基,基团的保护等。 分子的拆开,导向基,基团的保护等。
BF3 Et2O Cat 2 N HCl,MeOH,
ROH +
RO
3. 形成苄醚 ROCH2Ph: :
制备时, 反应, 制备时,使醇在强碱下与苄溴 (benzyl bromide)反应,通常以加 反应 通常以加 氢反应或锂金属还原,使苄基脱除,并回复到醇类。 氢反应或锂金属还原,使苄基脱除,并回复到醇类。
起来,不使其作用,而只留特定要作用的官能团进行反 起来 , 不使其作用 , 应 ; 然后再将保护基团除去,以便进行下一个步骤,这 然后再将保护基团除去 , 以便进行下一个步骤 , 种保护-除保护 (protection-deprotection)的方法在有机 种保护- 合成上应用极广。 合成上应用极广。
R O Me3Si CH3 CH3I + ROSiMe3 H2O ROH + Me3SiOH
I
2. 形成叔丁基醚类 ROC(CH3)3 (
醇与异丁烯在Lewis 酸催化下制备。叔丁基为一巨大的取代基( 酸催化下制备。叔丁基为一巨大的取代基( 醇与异丁烯在 bulky group),脱去时需用酸处理: 酸处理: ) 脱去时需用酸处理
可以用碱脱去醇ROH质子,再与合成子 +CH3作用,如使用试剂 质子, 作用, 可以用碱脱去醇 质子 NaH / Me2SO4。 也可先作成银盐 RO-Ag+ 并与碘甲烷反应 , 如使用 并与碘甲烷反应, Ag2O / MeI; 但对三级醇不宜使用这一方法 。 醇类也可与重氮甲烷 ; 但对三级醇不宜使用这一方法。 CH2N2,在Lewis酸(如BF3·Et2O)催化下形成甲醚 酸 )催化下形成甲醚.
NaOH,Me2SO4 ROH Me3Si I ,CHCl3 ROCH3
脱去甲基保护基, 回复到醇类, 通常使用Lewis酸 脱去甲基保护基 , 回复到醇类 , 通常使用 酸 , 如 BBr3 及 Me3SiI,也就是引用硬软酸碱原理 ( hard, 也就是引用硬软酸碱原理( soft acids and bases principle),使氧原子与硼或硅原 ) 子结合(较硬的共轭酸),而以溴离子或碘离子(较软 子结合(较硬的共轭酸) 而以溴离子或碘离子( 的共轭碱)将甲基(较软的共轭酸)除去。 的共轭碱)将甲基(较软的共轭酸)除去。
(二) 二羟基的保护基团
在多羟基化合物中,同时保护两个羟基往往很方便。 在多羟基化合物中,同时保护两个羟基往往很方便。 保护基即可以是缩醛,缩酮,也可以是碳酸酯。 保护基即可以是缩醛,缩酮,也可以是碳酸酯。
1. 缩醛或缩酮 在这种反应中,一般使用的羰基化合物是丙酮 苯甲醛, 丙酮或 在这种反应中,一般使用的羰基化合物是丙酮或苯甲醛,丙酮在 反应, 酸催化下与顺式1,2-二醇反应 苯甲醛往往在氯化锌存在下与1,3 酸催化下与顺式 -二醇反应,苯甲醛往往在氯化锌存在下与 二醇反应 反应。 -二醇反应。 缩醛和缩酮在中性和碱性条件下稳定,因此, 缩醛和缩酮在中性和碱性条件下稳定,因此,假如反应可以碱性 条件下进行,则它们在烷基化,酰基化, 条件下进行,则它们在烷基化,酰基化,氧化和还原时用于保护 二醇。 二醇。 二醇可用稀酸处理再生。苄叉基可用氢解方法除去。 二醇可用稀酸处理再生。苄叉基可用氢解方法除去。
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