低温等离子体处理时效性
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时效性产生的机理
目前比较普遍的观点认为这种现象是由高分 子材料表面动态重组过程引起的。(高分子材 料表面极性基团的翻转和分子链段的迁移) 等离子处理后材料表面被引入大量极性基团 , 处于非常不稳定的高能状态 ,由于物质系统 ห้องสมุดไป่ตู้量越低越稳定 ,所以任何高分子材料表面 都有将能量降至最低点以保持最稳定结构的 趋势。为了降低表面能量 ,等离子处理后材 料表面被引入的极性基团向材料内部发生翻 转同时高分子材料内部部分未被处理的分子 链段向表面迁移 ,这种过程一直持续到材料 表面达到动态平衡状态为止。
对时效性进行研究的 主要方法和表征手段
高分子材料的接触角 X射线光电子能谱( XPS) 静态二次离子质谱(SSIMS) 电子顺磁共振( ESR) 表面形貌和结构表征:扫描电子显微镜 (SEM),环境扫描电子显微镜( ESEM), 扫描探针显微镜(AFM )等。
结语
低温等离子处理对高聚物材料表面性能影响的 时效性是一个非常复杂的物理化学现象 ,影响 因素众多 ,至今仍然有许多问题需进一步探索。 例如等离子处理后高聚物材料表面的动态重组 和材料本身组成结构之间的关系;如何设定等 离子处理工艺参数 ,以获得最佳处理效果同时 减缓时效性;各种不同等离子体产生方式(真空 等离子、介质阻挡放电、常压等离子)的时效 性差异问题等等。对这一领域进行更加系统深 入的研究 ,不但对等离子技术的实际推广应用 有非常重大的意义 ,而且也有利于加深对等离 子处理技术本身的了解和认识。
低温等离子体对高聚物材料表 面改性处理
指利用等离子体与高分子材料表面 相互作用,在表面上形成新的官能 团和改变聚合物链结构,改善亲水 性、粘接性、表面电学性能、光学 性能以及生物相容性等,从而达到 表面改性的目的。
等离子处理的优点
低温等离子处理只作用于材料表面(通 常为几至几十纳米) ,不影响基体的性 质。 此外 ,低温等离子体技术具有易操作、 加工速度快、处理效果好、环境污染小、 节能等优点 ,因此在材料表面改性处理 中得到广泛的应用并具有广阔的发展前 景 。
等离子体
等离子体是指被电离的气体 ,是由电子、 离子、原子、分子或自由基等粒子组成 的集合体。根据等离子体的粒子温度 , 可以分为高温等离子体和低温等离子 体 ,用于材料表面改性处理领域的是后 者。低温等离子体中高能粒子的能量一 般约为几至几十电子伏特 ,大于聚合物 材料分子的结合键能(几至十几电子伏 特) ,完全可以使有机大分子链发生断 裂。
5.被处理材料的基体温度
基体温度低: 被引入的基团位于材料的最 低 表层(大约 0.5nm的范围内) 基体温度高: 极性基团则位于材料表面大 高 约 0. 5~8nm 的范围内,处于材料最表层的 极性基团极易向材料内部翻传 ,使处理效果 衰减。 因此有人提出进行两步法处理:两次处理时 材料基体温度不相同(例如第一步为 100 ℃, 第二步为 45 ℃) 。 这种方法既有利于在材料表面引入大量极性 基团 ,又能增加处理深度 ,从而使等离子处 理后表面极性基团的衰减得到抑制。
影响时效性的主要因素
高分子材料的种类和特性 等离子体气氛 等离子处理功率 等离子处理时间 被处理材料的基体温度 等离子处理后材料的存储环境
1.高分子材料的种类和特性
高分子材料的结晶度对等离子处理的时 效性的影响非常显著。 高分子材料内部无定型区分子结构松散 , 分子间距离较大;而结晶区部分分子紧密 有序排列 ,分子间距离小。对于结晶度 高的高分子材料 ,由于结晶区相对含量 较大 ,等离子处理后表面极性基团的翻 转和链段运动需要克服更大的阻力 ,因 此表面极性基团的衰减程度较小。
等离子处理的时效性
然而等离子对高分子材料表面改性处理 的效果并不持久,虽然等离子处理能在 材料表面引入极性基团 ,但是随着时间 的推移这些基团的数量逐渐减少 ,材料 表面氧元素含量下降 ,表面得到改善的 亲水性能又回复到处理前的疏水状态 , 这种现象通常被称为低温等离子处理对 低温等离子处理对 高聚物表面性能影响的时效性。 高聚物表面性能影响的时效性。
3.等离子处理功率
由于增加等离子处理功率会提高等离子 体内部的能量密度 ,有利于增强等离子 体与高聚物材料表面的反应 ,使高分子 材料表面的氧元素含量升高并产生交联 反应 ,因此等离子处理的时效性得到减 缓。
4.等离子处理时间
等离子处理时间的长短也会对处理后材料表 面动态特征产生影响。 等离子处理时间越短时效性越明显。 这主要是由于等离子处理时间对高聚物材料 表面被氧化层厚度的影响 。等离子处理时间 越短 ,材料表面被氧化层的厚度越小 ,时效 性越显著; 反之处理时间越长 ,被氧化层的厚度越大 , 时效性越不明显。
6.等离子处理后材料的存储环境
等离子处理后材料存放的环境也会对时效性产生 影响 ,具体来讲又可分为存储介质 温度 存储介质和温度 存储介质 温度两个因 素。 温度:在相同的存储介质中 ,环境温度越高 ,分 温度 子链获得更多能量 ,分子链段运动加强 ,表面极 性基团的翻转也更迅速 ,时效性越显著。 存储介质: 存储介质:如果存储环境是亲水性的 ,即使在较 高的温度下 ,也能抑制高分子材料表面极性基团 的丧失。亲水性的存储介质有利于材料表面生成 的极性基团保持在材料的表面;反之 ,疏水性的 存储环境则促使材料表面的极性基团翻转进入基 体内部 。
2.等离子体气氛
不同等离子体气氛对高分子材料表面处 理的效果不同 ,处理后的时效性也存在 差异。 例如:韩国 Kim 等用氩气和氧气混合 等离子体对LDPE进行了处理 ,研究结果 表明等离子处理效果和处理后的时效性 与氩气和氧气的比例有关 ,当氩气和氧 气的体积比是 9 ∶1 时处理效果最好 并且时效性最不显著。