真空镀膜机基础知识
真空镀膜机相关知识简单介绍
真空镀膜机相关知识简单介绍真空镀膜机是一种常见的表面处理设备，用于给各种物体表面镀上不同的金属、化合物或其他材料，以改变物体的物理性质和化学性质。
本文将介绍真空镀膜机的基本原理、应用领域和主要组成部分。
基本原理真空镀膜机利用真空环境下金属或其他材料的蒸发性质，通过加热材料在真空室内蒸发，使蒸汽在真空室内扩散、沉积在物体表面，形成一层非常薄的镀层。
通俗地说，真空镀膜就是将一种材料“喷”到另一种材料上，形成一层新的物质。
在真空中，各种气体的压强和密度非常低，因此可以有效地防止被镀物表面吸收其它气体，避免对镀层的影响。
出于安全考虑，通常采用金属或化合物中的稳定元素进行镀膜。
应用领域真空镀膜机广泛应用于不同行业，包括但不限于：1.电子器件制造业。
例如，应用在LED、红外传感器、太阳能电池、太赫兹探测器、光电器件中等的金属薄膜制备。
2.制品装饰领域。
例如，应用于家具、灯饰、珠宝、手表、手机外壳等产品的表面镀膜。
3.化工和材料科学领域。
例如，应用在新材料的制备、研究和改性中。
主要组成部分真空镀膜机通常由以下几个主要组成部分构成：1.真空室：是镀膜的核心部分。
真空室通常采用不同材质，如不锈钢、玻璃、陶瓷、石英等。
真空室外设有加热器和冷却器以调节温度。
2.加热系统：主要用于加热镀膜材料并使其蒸发。
加热系统应具有精度、稳定性和安全性。
3.泵、管道和阀门：主要用于真空室内气体的排放和进出口控制。
4.控制系统：用于控制加热、通气和真空度等参数。
5.监控系统：用于监控真空度、温度、压力等参数。
通常采用传感器和计算机技术，在运行时实时监测并反馈给操作者。
总结真空镀膜机作为一种常见的表面处理设备，具有广泛的应用领域和多样化的镀膜材料选择。
运用科学的理论和技术，充分掌握真空镀膜机的基本原理和组成部分，可以达到更高的制备效率和更好的镀膜效果。
镀膜真空基础知识培训
1.2 真空的单位
對外秘
■ 真空的单位 -. 真空的单位跟压力单位是相同的。 ☞ 如果能表示压力单位的话，就也可以表示真空度
■ 标准大气压 ☞ 认识标准大气压的各种单位的是非常重要的
区分 Torr m㍴ micron psi atm
Torr 1 0.751 0.001 51.72 760
m㍴ 1.33 1 0.0013 68.96 1013
国际单位上使用 Bar 也叫帕斯卡(㎩) 真空技术的现况 现在使用的真空泵能达到的最高真空是 10 torr，残留气体的分子数是 1㎤ 里有3000个 左右。为了产生应用真空需要人为控制生产出真空来。真空技术主要有：发生技术、加工 及部件技术、评价及控制技术，这些要素合起来就成立了真空的应用技术
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精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道
尖端科学
加速器、表面分析装置、质量分析、宇宙科学、次时代材料
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精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道
真空泵
對外秘
2.1
低真空泵
2.2
高真空泵
2.3
各部件功能
2.4
安装及事后管理
2.5
泵的维护
2.6
故障措施
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精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道
2.1 低真空泵
對外秘
1-1) 旋转叶片泵
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精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道
2.2 高真空泵
對外秘
TMP分子泵的内部结构
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精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道
2.2 高真空泵
對外秘
TMP的种类
l 按物理结构分类 l 按制造结构分类
真空镀膜设备操作培训
关机 流程
三、镀膜主控界面说明(总貌画面）
三、镀膜主控界面说明(生产参数表）
三、镀膜主控界面说明(加热参数表）
三、镀膜主控界面说明(工艺参数表）
三、镀膜主控界面说明(分子泵分布）
三、镀膜主控界面说明(报警记录）
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报告完毕
放，立式放置一般通过弹片、夹扣固定基片。 9. 基片：膜层承受体。 10.试验基片（工艺片）：在镀膜开始、镀膜过程中或镀膜结束后用作测量和（
或）试验的基片。 11.沉积速率：在给定时间间隔内,沉积在基片上的材料量,除以该时间和基片表
面积。
一、名词解释
12.加热装置：在真空镀膜设备中,通过加热能使一个基片或几个基片达到理想温 度的装置。
13.冷却装置：在真空镀膜设备中,通过冷却能使一个基片或几个基片达到理想温 度的装置。
14.连续镀膜设备：被镀膜物件（单件或带材）连续地从大气压经过压力梯段进 入到一个或数个镀膜室，再经过相应的压力梯段，继续离开设备的连续式镀 膜设备。
15.真空泵：抽除气体，能使腔体达到设计的真空度。 16.阴极：靶材安装位置，兼工艺布气管入口。 17.阳极：非阴极区域。 18.工艺气体：镀膜所需冲入气体，常用的有氩气、氮气、氧气。 19.真空度：低于一个标准大气压。
4. 镀膜室：真空镀膜设备中实施实际镀膜过程的部件。 5. 溅射装置：包括靶和溅射所必要的辅助装置(例如供电装置,气体导入装置等
)在内的真空溅射设备的部件。 6. 靶材：母材，用来制取膜层的原材料。 7. 挡板：用来在时间上和(或)空间上限制镀膜并借此能达到一定膜厚分布的装
置；挡板可以是固定的也可以是活动的。 8. 基片架：可直接夹持基片的装置,别称夹具或治具,基片安装方式分平放、立
真空镀膜机操作指导
资料范本本资料为word版本，可以直接编辑和打印，感谢您的下载真空镀膜机操作指导地点：__________________时间：__________________说明：本资料适用于约定双方经过谈判，协商而共同承认，共同遵守的责任与义务，仅供参考，文档可直接下载或修改，不需要的部分可直接删除，使用时请详细阅读内容真空镀膜实验指导真空镀膜常用的方法有蒸发镀膜、射频溅射镀膜和离子镀膜等。
本实验通过介绍蒸发镀膜原理，掌握蒸发镀膜的操作方法。
真空镀膜技术在电真空、无线电、光学、固体物理、原子能和空间技术中有广泛的应用。
真空镀膜原理：蒸发镀膜机理蒸发镀膜是真空镀膜的一种，它是在高真空条件下将物质加热到沸腾状态，沸腾出来的原子或分子溅落在固体材料表面，形成一层或多层膜的方法。
凡是在沸腾温度下不分解或不变性的物质都可以用此法蒸镀成膜。
蒸发原子的成膜过程比较复杂，这里只能粗略描述如下：溅落原子首先被固体表面吸附，当表面温度低于某一临界温度时，原子开始“核化”——部分原子凝聚成团，出现若干“岛”，然后这些“岛”逐渐吸收周围的原子而长大，众多的“岛”相互连接成一片而成一块连续的膜。
蒸发镀膜的条件主要有两个，分别介绍如下：高真空我们希望蒸发出来的原子或分子不要受空气分子的阻挡而直接溅落到固体的表面，这样，蒸发镀膜的速度高，成膜质量也好。
相反，如果真空度低，有大量的空气分子存在，一方面，蒸发出来的原子或分子与空气分子碰撞，阻碍了膜材分子的扩散，降低了蒸镀的速度，影响了膜的均匀性，另一方面，空气的导热使得膜材的温度不能很快地升高，必然要加大加热功率；更有甚者，空气的存在可能使膜材的某些成分氧化，引起成分变性；在连接着抽气机的情况下，若不能很快完成镀膜，膜料将被抽走。
因此，蒸发镀膜需要在高真空条件下进行。
当然，真空度也不需要绝对地高。
事实上，只要分子的平均自由程大于膜材到基底的距离即可。
如果膜材到基底的距离为10 --20cm，根据自由程公式（d是分子的直径，n是分子数密度）不难估计真空度在Pa以上就可以满足要求。
真空镀膜基础知识ppt
05
真空镀膜技术的发展趋势 与挑战
真空镀膜技术的发展趋势
持续创新
随着科技的不断进步，真空镀膜技术也在持续创新，新 的工艺和设备不断涌现，为解决实际应用中的问题提供 了更多可能性。
绿色环保
随着环保意识的增强，真空镀膜技术正朝着更加环保、 节能的方向发展。例如，一些新的工艺可以大大减少废 气、废水和废渣的产生，降低对环境的影响。
高性能材料
随着制造业的发展，对材料性能的要求也越来越高。真 空镀膜技术可以制备出具有高性能、高精度的薄膜，满 足各种复杂的应用需求。
真空镀膜技术面临的挑战与解决方案
技术门槛高
真空镀膜技术涉及到多个学科领域，包括物理、化学、材料科学等，技术门槛较高，需要 专业技术人员进行研发和生产。
成本高
真空镀膜设备的购置和维护成本较高，对于一些中小企业来说，可能会面临较大的经济压 力。因此，需要寻求更加经济、实用的解决方案。
THANKS
冷却系统
用于降低设备温度，保证设备长时间稳定运行。
真空镀膜工艺的分类及特点
物理气相沉积(PVD)
利用物理方法将镀膜材料蒸发并沉积在基片 上，包括真空蒸发、离子束溅射、激光脉冲
等方法。
• 缺点
薄膜质量受限于蒸发源的尺寸和形状，难以 制备复杂结构薄膜。
03
01
• 优点
能够制备复杂结构薄膜，附着力强，适合制 备化合物薄膜。
高硬度保护膜
在光学元件表面覆盖一层 高硬度的薄膜，防止划伤 和磨损，延长光学设备的 使用寿命。
真空镀膜技术在电子学领域的应用案例
热控涂层
在航天器和卫星表面覆盖 一层热控涂层，控制表面 温度，保证电子设备的正 常工作。
电磁屏蔽膜
在电子设备表面覆盖一层 电磁屏蔽膜，防止电磁干 扰和辐射，保证电子设备 的稳定性和可靠性。
培训系列之真空镀膜技术基础
真空镀膜技术的材料
金属材料：如金、银、铜等，具有良好的导电性和反射性
非金属材料：如碳、氮、氧等，可以用于制造各种薄膜
陶瓷材料：如氧化铝、氧化硅等，具有较高的硬度和耐腐蚀性
玻璃材料：如硼硅酸盐玻璃、石英玻璃等，具有较好的透过性和化学 稳定性
高分子材料：如聚乙烯、聚四氟乙烯等，具有较好的柔韧性和耐候性
真空镀膜技术的基本原理是利用 物理或化学方法，将材料从蒸发 源或溅射源中蒸发或溅射出来， 然后在真空中沉积到基底表面。
空镀膜技术的应用领域
光学应用：提高光学元件的 透过率和反射率
电子应用：提高电子元件的 导电性和绝缘性
装饰应用：为金属表面赋予 美丽的外观和耐腐蚀性
机械应用：提高机械零件的 硬度和耐磨性
薄膜质量高：真空镀膜技术可以获得高质量的薄膜，具有高纯度、高密度和良好的 均匀性。
适用范围广：真空镀膜技术可以应用于各种材料表面，如金属、陶瓷、玻璃等，并 且可以制备多种功能的薄膜，如金属膜、介质膜、半导体膜等。
操作简便：真空镀膜技术操作简单，易于控制，可以连续稳定地生产高质量的薄膜。
环保性好：真空镀膜技术是一种环保型的生产技术，不会产生有害物质，对环境和 人体健康没有负面影响。
真空技术：真空镀膜技 术的基本原理是利用真 空技术，在真空环境下 进行薄膜的沉积。
薄膜沉积：在真空环境 下，通过蒸发、溅射、 化学气相沉积等方法， 将材料沉积在基底表面 形成薄膜。
物理过程：薄膜的 沉积过程涉及物理 和化学过程，如分 子运动、表面吸附、 化学反应等。
薄膜特性：真空镀膜技 术可以制备出具有优异 性能的薄膜，如高硬度、 高耐磨性、高耐腐蚀性 等。
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真空镀膜技术基 础
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《真空镀膜设备》课件
通过自动化和智能化的技术手段，降低人工成本和操作难度。
节能减排技术
研究节能减排技术在真空镀膜设备中的应用，以降低能耗和减少环 境污染。
高效清洗与维护技术
开发高效、环保的清洗和维护技术，以降低设备维护成本和延长设 备使用寿命。
感谢您的观看
THANKS
真空泵的工作原理
利用机械或物理的方法，从真空系统中排除气体分子 。
真空度的测量与控制
使用真空计测量真空度，通过调节阀门或泵的工作状 态来控制真空度。
真空室的清洁与维护
定期清洁真空室，确保其内部无残留物，以保持高真 空度。
镀膜材料的蒸发与凝结
01
蒸发源的选择
根据镀膜材料的不同，选择相应 的蒸发源，如电阻加热、电子束 加热等。
设备。
高精度
能够实现纳米级薄膜厚度的控 制。
高质量
镀膜过程中无杂质混入，薄膜 纯度高。
长寿命
设备结构稳定，维护成本低。
真空镀膜设备的应用领域
01
02
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光学领域
镀膜在眼镜、相机镜头、 太阳能集热管等方面有广 泛应用。
电子领域
镀膜在集成电路、电子元 件、平板显示器等方面有 重要应用。
装饰领域
镀膜在金属工艺品、高档 家具、钟表等方面有装饰 作用。
01
03
真空系统的维护和保养对于设备的正常运行至关重要 ，定期检查和清洁各部件，确保其正常运转，是保证
设备性能和延长使用寿命的关键。
04
为了保证设备的稳定运行和延长使用寿命，真空系统 的设计和制造需要充分考虑材料的选择、密封性能以 及各部件之间的连接与配合。
加热系统
加热系统是实现真空镀膜工艺的重要部分，其主 要功能是为工件和/或镀膜材料提供所需的热量。
真空镀膜基础知识培训
沈阳法雷奥车灯有限公司
工艺工程师：孙成志
July 2013 I 1
July 2013
目录:
为什么需要真空？ 实现加工的目的 需要实现不同的工艺
真空的基础 什么是真空？ 如何获得真空？
真空蒸发镀膜原理 真空蒸镀 物理气相沉积 离子清洗与离子轰击
机器的设计 单个腔体的 多个腔体的
July 2013 I 2
立式双腔体
July 2013 I 27
镀膜质量
质量检测：薄膜性能 附着力：划格实验（百格）在铝层表面划1mm*1mm 100个小方格，深至基材 粘贴3M810胶带压实，等待5分钟，胶带沿90°向上迅速剥离。 结果无脱落 耐腐蚀性：1%NaOH溶液在常温下15分钟 结果铝层无变化
July 2013 I 28
July 2013 I 38
镀铝笼架
1，不同类型有不同的设计要求：
卧式笼架
立式笼架
July 2013 I 39
镀铝笼架
2，不同类型有不同的设计要求：
→ 通过改变产品定位，改善产品质量
July 2013 I 40
镀膜常见缺陷
缺陷
原因
解决措施
附着力NG
对产品进行前处理（酒精擦拭、清理磨 产品表面油污
可以提供一个清洁的表面
July 2013 I 7
真空基础知识
真空量度单位
1标准大气压=760mmHg=760(Torr) 1标准大气压=1.013x105 Pa 1Torr=133.3Pa 1mbar=100Pa
水银柱， 1N/M2=1Pa
July 2013 I 8
真空基础知识
工业上把压力低于大气压的气体空间称为真空，习惯上又把真空分为低真空、 中真空、高真空、超高真空、极高真空。
镀膜机教学课程ppt课件
:
真空系統有以下組成：
•
RP〔機械泵浦）
•
MP〔輔助泵浦）
•
DP〔擴散泵浦）
:
RP〔機械泵浦）
• 工作原理：是靠改變氣缸的體積完成吸 氣與排氣工作，氣體被分成兩部分。轉 子並非繞着圓心鏇轉，這使吸氣鍴的體 積不斷變化。吸氣壓縮與排氣過程是同 時進行的，隨着轉子的不斷鏇轉，泵體 的兩部分體積的變化。當排氣鍴壓力大 于排氣口彈簧的壓力時，空氣分子不斷 經RP排到大氣中 。 • 是增大兩耑的壓力差使排氣速度加
快。它用于初抽與精抽，最大壓力可達 到10－4Torr。泵體內部使兩各8字型 的轉子，兩個轉子緊密配閤在 一起， 轉子與轉子、轉子與泵體之間隻有0.2～ 0.3mm的極小空隙 。
:
MP:分解图
:
注意：
• 因轉子與轉子、轉子與泵體之間隻有0.2～0.3mm的 極小空隙，所以平時要保持泵體內部的清潔度，不能 有其它雜質〔物），泵體內部沒有油的，油的主要作 用是用來潤滑泵浦體的齒輪及軸承，如果有油機臺可 能返油或者機械輔助泵浦體的油封磨損，在加註油之 前必須讓機臺停下來，以及泵浦處于大氣狀態下。因 為機臺在運轉時泵浦內部處于真空狀態、如果打開頂 部油封會造成大量的油洩漏以及嚴重損壞泵浦。當泵 浦停止且處于大氣壓狀態時，必須停止冷卻水否則當 溫度很高時空氣的水分會凝固在泵浦裏，影響泵浦的 極限壓力。
:
DP〔扩散泵〕图：
1. 水冷套； 2. 喷油嘴；: 3. 导流管； 2. 4. 泵壳； 5. 加热器
控制系统:
:
F1界面：
:
F3界面：
:
真空计界面：
:
1) 人機畫面顯示鍍膜機 首頁，按下首頁鍍膜機 桶身任一地方，即進入 Screen1中英文選擇畫 面。
真空镀膜技术基础
真空镀膜技术基础1.采用什么镀膜机？光学镀膜机多是基于PVD，即物理气相沉积的镀膜机。
国产机以南光和北仪为代表，进口机以德国的莱宝机，美国的Vecco机和日本的光驰机、昭和机为代表。
2.采用什么样的膜料气汽化方式？对于物理气相沉积型真空镀膜机，有三种汽化方式：热蒸发，溅射，离子镀。
目前国内在光学真空镀膜方面多采用热蒸发的方式。
溅射技术以磁控溅射为代表，溅射和离子镀的方式在大批量生产的表面处理、太阳能电池板生产中应用较多。
热蒸发又分为四种方式：电阻加热，电子束加热，电磁感应加热和激光束加热。
四种方式各有特点和优势，电磁感应加热适合大规模连续型设备，并且只能镀金属膜料；激光束加热方式目前尚不成熟；电阻加热方式使用最早，但不适合高熔点膜料，自动化程度低，适合镀制金属膜和膜层较少的膜系；电子束加热方式使用电子枪产生电子束通过聚焦集中于膜料上进行加热，该方法应用最广，自动化程度高，技术成熟。
3.如何精确控制膜层厚度？膜层厚度的控制方法有：目视法、光电极值法，石英晶振法和全光谱在线控制法等。
目视法最早应用，适合于膜层较少的可见光波段的膜系，人为误差较大；全光谱在线控制法适合宽波段膜系的镀制，可以实时反馈及时修正误差，但目前上不普及；光电极值法适合镀制单点要求的膜系，自动化程度不高；石英晶振法自动化程度最高，应用最为普及，他采用石英晶体的振动频率和质量的相关性来测定膜层的质量，从而根据密度换算成物理厚度。
采用石英晶振法控制膜层厚度，和电子束加热的方式相配合，可以实现镀制过程的高度自动化，确保工艺的重复性。
采用美国生产的360石英晶体控制仪，石英晶体探头表面镀金，其振动信号转换成电信号后，经后续电路处理，输入360石英晶体控制仪，实时输出结果，并反馈调节电子束能量，形成闭环控制，确保膜厚控制的精度。
4.如何加强曲面镀膜均匀性？理论上，当蒸发源为点源时，被镀件和蒸发源距离一样时满足均匀性，即蒸发源位于球心，被镀件位于同一球面；当蒸发源为面源时，符合余弦分布，既蒸发源和被镀件位于同一球面。
真空镀膜机详细镀膜方法
真空镀膜机详细镀膜方法真空镀膜技术是一种应用广泛的表面加工技术，可以为各种材料表面提供不同颜色、不同功能的涂层。
如何进行真空镀膜，是一个需要掌握的基本技术。
本文将详细介绍真空镀膜的方法及其优缺点。
一、真空镀膜的基本原理真空镀膜技术是一种在真空环境下对材料表面进行涂层加工的技术。
通过真空系统将膜材料蒸发，沉积在基材表面，形成涂层。
在镀膜过程中需要注意的是：不同材料的膜材料，在蒸发、沉积的过程中有不同的温度和气压要求；基材表面也需要钝化处理，以保证表面涂层的附着性。
二、真空镀膜的优缺点优点：（1）沉积速度快，可制备厚度、均匀度好的涂层。
（2）具有高质量、高透明度、高硬度、高耐磨性及耐高温等特点。
（3）涂层成分稳定，能耐受环境变化，具有长时间稳定性。
缺点：（1）设备及材料投入成本高，要求专业技术人员操作。
（2）镀膜工艺步骤复杂，环境控制要求高。
（3）镀膜过程中会有一定的污染，对真空系统要求高。
三、真空镀膜的具体过程真空镀膜的过程通常包括五个步骤：1. 清洗和钝化处理在进行真空镀膜之前，需要对基材表面进行钝化处理，以提高涂层附着性。
清洗方法需要根据基材的情况和涂层的要求来确定。
通常会采取化学清洗、氧化清洗和机械打磨等方法，以使表面清洁、光滑。
2. 蒸发材料的制备膜材料的蒸发过程需要保证蒸发速度、蒸发量及蒸发均匀度。
膜材料通常选用纯度高、化学稳定的材料，如金属或半导体材料。
制备膜材料的方法也因材料而异，如金属材料可采用电功率热源加热蒸发、电子束蒸发、离子束蒸发等方法，而半导体材料可采用溅射等方法。
3. 准备真空环境真空镀膜需要在高真空环境下进行。
可以使用單純管和机械泵联合的方式轻松地在低真空状态下达到高真空状态。
具体环境控制要求根据不同的蒸发材料有所不同。
4. 蒸发沉积蒸发沉积是最核心的步骤，也是关键的涂层制备过程。
在蒸发材料制备完成后，通过真空系统控制蒸发材料温度和气压，将蒸发材料蒸发并沉积在基材表面。
培训系列之真空镀膜技术基础
在真空环境中，凝结在基材表面的镀膜材料分子通过聚集形成连续的薄膜。
薄膜的形成是一个动态过程，受到镀膜材料的性质、基材的温度和表面特性、蒸发速率等因素的影响。
用于制造集成电路、太阳能电池等，具有半导体特性。
半导体薄膜
用于散热、隔热等，具有良好的导热性能。
导热膜
用于生物医疗领域，如人工关节、生物传感器等。
生物薄膜
彩色膜
通过镀制不同颜色的薄膜，实现装饰和美化的效果。
THANKS
感谢您的观看。
真空镀膜技术的起源可以追溯到20世纪初，当时主要是为了解决光学仪器的表面处理问题。
随着科技的不断进步，真空镀膜技术逐渐发展成为一种广泛应用的表面处理技术，涉及的领域也日益扩大。
目前，真空镀膜技术已经成为了新材料、新能源、电子信息等领域的核心技术之一。
光学领域
装饰领域
半导体制造领域
新能源领域
01
02
与先进制造技术的结合
02
真空镀膜技术在先进制造领域如航空航天、汽车、电子等领域的应用越来越广泛，与其他制造技术的结合可以进一步提高产品的性能和可靠性。
与新材料技术的结合
03
新材料技术的发展为真空镀膜提供了更多的选择和应用空间，如新型陶瓷、高分子材料等。
05
CHAPTER
真空镀膜技术的应用实例
通过在光学元件表面镀制一层特定厚度的薄膜，减少光的反射，提高透射率。
减反射膜
增透膜
滤光片
增加光学元件的透光率，减少反射损失。
通过镀制不同材料和厚度的多层薄膜，实现特定波段的透射和反射。
03
02
《真空镀膜知识培训》PPT课件
四、真空镀膜分为哪几种：
①蒸发真空镀：在真空条件下，将材料加热并蒸 发到基片上，称为真空蒸发镀。
②溅射真空镀：利用各种材料在气相间、气相和 固体基体表面间所产生的物理、化学过程而沉积 薄膜的方法。它又可以分为物理气相沉积。物理 气相沉积可分为利用加热膜材而产生热蒸发沉积、 利用气体放电产生的正离子轰击阴极（靶材）所 产生的溅射沉积、将蒸发和溅射结合起来的离子 镀以及分子束外延。我们称之为溅射真空镀。
八、塑料真空镀膜常见问题分析
真空镀膜技术是一个多学科综合的 产 物，其工艺过程也必然涉及多方面的技术知 识，生产上出现的技术问题也非单纯的涂料 技术可以解决的，需进行多学科的综合分 析。首先，塑料基材的质量要合乎真空镀膜 的要求，基材成型加工不当时，容易出现各 种缺陷，直接或间接影响真空镀膜质量。
5、产品做完下班后，关了扩散泵后须 待温度降低至60℃后才能关维持泵。
谢谢
富森钛金设备 迪通恒业科技
联合出品
感谢下 载
镍-铁，铁-钴，金-银-金等。金属化合物型的镀
膜材料有：SiO2 、 Ti3O5 、 SnO2 、MgF2 、 ZnS 等。在众多镀膜材料中，以铝材的应用最多，这是因
为铝在真空条件下，蒸发湿度较低，易操作。铝镀 膜
层对塑料的附着力强，富有金属光泽；铝镀膜层还 能
够遮蔽紫外线，对气体阻隔性也很好。另外，高纯 度
问题及现象 基材放气
可能原因
基材离蒸发源太近
真空系统泄漏，可能进入太多氧气
真空镀膜有黯 真空泵抽气能力低
淡的杂色，出 蒸发源或阴极损坏
现蓝色、黄色 或黑色
镀膜时真空镀较低
真空度过高，夹具和基材放气 底涂层放气
夹具、挂笼或卷绕机有积垢，或残存
真空镀膜基础知识共46页
56、书不仅是生活，而且是现在、过 去和未 来文化 生活的 源泉。 ——库 法耶夫 57、生命不可能有两次，但许多人连一 次也不 善于度 过。— —吕凯 特 58、问渠哪得清如许，为有源头活水来 。—— 朱熹 59、我的努力求学没有得到别的好处， 只不过 是愈来 愈发觉 自己的 无知。 ——笛 卡儿
真空镀膜基础知识
21、没有人陪你走一辈子，所以你要 适应孤 独，没 有人会 帮你一 辈子， 所以你 要奋斗 一生。 22、当眼泪流尽的时候，留下的应该 是坚强 。 23、要改变命运，首先改变自己。
24、勇气很有理由被当作人类德性之 首，因 为这种 德性保 证了所 有其余 的德性 。--温 斯顿． 丘吉尔 。 25、梯子的梯阶从来不是用来搁脚的 ，它只 是让人 们的脚 放上一 段时间 ，来自便 让别一 只脚能 够再往 上登。
拉
60、生活的道路一旦选定，就要勇敢地 走到底 ，决不 回头。 ——左
真空镀膜基础知识
真空镀膜设备
真空镀膜机设备图示
汽车车灯真空镀铝生产流程图
来料检验（抽检）
静电除尘
净化除油
手动除尘
喷涂底漆
常温自流平
IR预烘
UV固化
真空镀铝
离子轰击
镀SIO保护膜
检验及包装
来料检验
净化除油
手动除尘
手动除尘：对塑料制品使用特殊化学物品对产品进行擦拭，达到去除产品表面灰尘为目的。
静电除尘
基片与靶材同在真空腔中。 蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。 现行涂装厂使用的真空镀膜设备原理为蒸发镀膜原理。
☆☆☆涂装真空镀膜基础知识培训
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真空镀膜应用之范围：
光学
• 反射镜、增透膜、濾光片
• 天文望远镜、建筑玻璃、相机、灯具
• 导电膜、绝缘膜、保护膜
• 逻辑元件、运算器、磁片、CCD
• 透明导电膜、摄像管导电膜
• LCD、录像磁头
电子电路
显示器
元件
• 蒸发镍、铝、金属陶瓷
真空术语解释
真空度单位 通常用托（Torr）为单位，近年国际上取用帕（Pa）作为单位。 1托＝1/760大气压＝ห้องสมุดไป่ตู้毫米汞柱 托与帕的转换 1托＝133.322帕 或 1帕＝7.5×10-3托
1643年，意大利物理学家托里拆利(E.Torricelli)首创著名的大气压实验，获得真空。 极限真空 真空容器经充分抽气后，稳定在某一真空度，此真空度称为极限真空。通常真空容器须经12小时炼气，再经12小时抽真空，最后一个小时每隔10分钟测量一次，取其10次的平均值为极限真空值。
真空镀膜基础知识
真空镀膜基础知识
一,镀膜作业步骤:
准备工作
1.镀膜前洗净
2.抽检镜片外观确认(裂边,伤痕,不洁)情况,全检镜片锁板情况(镜片倾斜,
3.确认好准备镀膜的镜片(数量,机种,面别)并做好相应记录
4.上伞,
将镜片从包装盒内装到镀膜机台伞架上(主意带手套拿取镀膜板四周,勿碰到镜片
5.区分需要镀膜镜片种类面别
6.清洁坩埚电子枪周围用铜刷刷,吸,并添加药材
7.确认晶振片,监控片是否OK在新的位置
8.确认机台内无杂物,后关门排气加热
9.镀膜
选取相应的制程
10.人员镀膜过程中进行监控
11.下伞
将镀膜后的镜片从伞架取下,放入包装盒
12.抽检
主要为膜点,雾状,颜色异常,不洁
13.光谱测量
采用奥林巴斯反射测定仪和U4100分光光度计
14.伞架每圈抽1PCS共5圈
15.膜强度测试(采用3M胶带粘拉膜3次)
16.光谱量测OK后可送出
二,镀膜制造需要部分耗材
1.SIO2颗粒或环状(∮300*∮230*T7.5mm,)需要根据机台配置选用
2.TIO2颗粒
3.晶振片Filtex 6MHZ或INFICON6MHZ
4.监控片BK7 Φ142*80*1.8mm,需要根据机台配置选用
5.铜坩埚,需要根据机台配置选用
6.铝箔厚度0.05mm*宽610mm
7.电子枪灯丝,需要根据机台配置选用
8.离子源,需要根据机台配置选用耗材
三,设备日常维修保养部件需要根据机台型号选用
四,光学镀膜机台品牌分玻璃机和塑胶机配置不一样,尺寸可以选择,900mm,1100mm,1300mm,1350mm, 日本光驰,OPTORUN 台湾龙翩日本昭和德国莱宝新克隆。
真空镀膜机基础知识
真空镀膜机基础知识目录一、真空镀膜机概述 (2)1.1 真空镀膜机的定义 (3)1.2 真空镀膜机的工作原理 (3)1.3 真空镀膜机的应用领域 (4)二、真空镀膜机的主要构成部分 (5)三、真空镀膜机的操作与维护 (6)3.1 开机前的检查与准备 (8)3.2 设备的启动与停止 (9)3.3 环境参数对镀膜质量的影响 (9)3.4 镀膜过程中的注意事项 (10)3.5 设备的日常保养与维护 (11)四、真空镀膜机的性能指标及测试方法 (12)4.1 真空度 (13)4.2 抛光速率 (14)4.3 镀膜厚度 (15)4.4 表面粗糙度 (17)4.5 光泽度 (18)五、真空镀膜机的选购与验收 (19)5.1 选购时应考虑的因素 (20)5.2 选购指南 (22)5.3 设备验收流程 (23)六、真空镀膜机的未来发展与趋势 (24)6.1 新技术的应用 (25)6.2 智能化发展 (26)6.3 绿色环保要求 (27)一、真空镀膜机概述真空镀膜机是一种在真空条件下，利用物理或化学方法，对材料表面进行沉积、改性或镀覆薄膜的设备。
它广泛应用于光学、电子、机械、建筑、轻工、冶金等多个领域，为各种功能性薄膜的制备提供了有效手段。
真空镀膜机的主要工作原理是利用真空技术，将靶材（如金属、合金、化合物等）蒸发或溅射出来，与基体材料（如玻璃、塑料、陶瓷等）表面的原子或分子发生相互作用，从而形成一层厚度均匀、性能稳定的薄膜。
根据不同的应用需求和工艺条件，真空镀膜机可以设计成各种形式，如真空蒸镀机、离子溅射镀膜机、反应离子镀膜机等。
在真空镀膜过程中，基体材料置于真空室内，靶材则置于真空室的另一侧。
通过真空泵系统维持真空室的真空度，使气体分子数量减少，气体分子的平均自由程减小，从而提高沉积速率和薄膜质量。
根据不同的工艺要求，还可以在真空室内设置各种辅助设备，如料筒、料筒旋转机构、料筒加热器、料筒冷却器等，以实现连续化、自动化的镀膜生产。
真空镀膜基础技术介绍
真空鍍膜基本技術介紹
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輝光放電(Glow Discharge)
在一定壓力之真空下施加電場 原子電離 e-+A→A++2e 原子激發 e-+A→e-+A* 輝光放電 A*→A+hυ(光子)
真空鍍膜基本技術介紹
(1)A腔體 >> B腔體 (2)約相同 (3)B腔體 >> A腔體
真空鍍膜基本技術介紹
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問題 2
M2
M3
GV1
GV2
GV3
當M2的壓力為5x10-1Torr，M3的壓力為5x10-4Torr時， 兩邊的壓力相差3個order，且GV2承受的力量為M2往 M3方向，若GV2閥板的面積為1000cm2時，請問GV2 承受的力量有多大 ?
1000-1mbar
760-1Torr Viscous Flow
Medium vacuum (中度真空)
(黏滯流)
1- 10-3 mbar
1- 10-3Torr Transition Flow
High vacuum (高真空)
(過渡流)
10-3 - 10-7 mbar 10-3 - 10-7Torr Molecular Flow
長度單位
•1m(米) =102cm(釐米) =103mm(毫米) =106μm(微米)
1mbar= 0.75Torr= 1hpa(100pa) 1 Torr= 133pa 1 Pa= 1 N/m2
=109nm(奈米) =1010Å (埃)
真空鍍膜基本技術介紹
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矿产资源开发利用方案编写内容要求及审查大纲
矿产资源开发利用方案编写内容要求及《矿产资源开发利用方案》审查大纲一、概述
㈠矿区位置、隶属关系和企业性质。
如为改扩建矿山, 应说明矿山现状、
特点及存在的主要问题。
㈡编制依据
(1简述项目前期工作进展情况及与有关方面对项目的意向性协议情况。
(2 列出开发利用方案编制所依据的主要基础性资料的名称。
如经储量管理部门认定的矿区地质勘探报告、选矿试验报告、加工利用试验报告、工程地质初评资料、矿区水文资料和供水资料等。
对改、扩建矿山应有生产实际资料, 如矿山总平面现状图、矿床开拓系统图、采场现状图和主要采选设备清单等。
二、矿产品需求现状和预测
㈠该矿产在国内需求情况和市场供应情况
1、矿产品现状及加工利用趋向。
2、国内近、远期的需求量及主要销向预测。
㈡产品价格分析
1、国内矿产品价格现状。
2、矿产品价格稳定性及变化趋势。
三、矿产资源概况
㈠矿区总体概况
1、矿区总体规划情况。
2、矿区矿产资源概况。
3、该设计与矿区总体开发的关系。
㈡该设计项目的资源概况
1、矿床地质及构造特征。
2、矿床开采技术条件及水文地质条件。