界面摩擦过程黏滑行为特征研究

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关键词：黏滑；界面摩擦；原子力显微镜中图分类号：Ｔ１７２文献标识码：Ａ文章编号：２４— １０（０１Ｈ１．０５０５２１）６— ０ — ０１３
ＤｙａｉｔｄｙｏｔｃｓｉｉｔｏｓｄｏｎｍｃＳｕｎＳｉｋ．ｌＦｒｃｉｎＢａｅｎｐ
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界面摩擦过程黏滑行为特征研究
龚中良（中南林业科技大学机电工程学院
湖南长沙４００）１０４
摘要：通过建立界面摩擦系统动力学模型，并利用原子力显微镜测试云母、石英以及单晶硅片界面摩擦条件下的
黏滑行为特征，探讨摩擦系统内外因素对黏滑频率、幅值的影响。结果表明：同一实验条件下，不同材料的黏滑频率与黏滑波动幅值不同；缓慢滑动时，黏滑的频率主要取决于表面势场的频率，波动幅值取决于表面势场强度，随着滑动速度逐渐增大，黏滑频率同时取决于表面势场频率和探针系统的固有频率，波动幅值取决于表面势场强度和探针系统结构；滑动速度较大时，黏滑频率及波动幅值主要取决于探针系统，且随着滑动速度增大，波动幅值逐渐减小。
ＮｏｃｎｉｕｏｓＥｎｒｙＤｉｓｐａｉｎｎ－ｏｔｎｕｅｇｓｉｔｏ
ＧｏｎｏｇｉｎｇＺｈｎｌｇａ
（ｏｅｅｏＭｅｈｎｃｌｎｌｔｃｌｎｉｅｒｇＣｎｒｏｔｎｅｉｆｏｅｔＣｌｇｆｃａｉｄＥｅｒａＥｇｅｎ，ｅｔＳｕｈＵｉｒｔｏｒｓｙｌａａｃｉｎｉｌａｖｓｙＦｒａｄＴｃｎｌｙＣａｇｈｕａ１０４Ｃｉａｎｅｈｏｇ，ｈｎｓａＨｎｎ０，ｈｎ）ｏ４０
ｆｃｉｎｂｈｖｅｆｍｉａｑａｔｎｉｉｏｈｐｎｅｔｒａｉｒｃｉｎ，ｈｅｉｆｌｎｅｏｃｉｎｓｓｅｅｔｒａａｔｒｉｏｒｔｅａｉｒｏｃ，ｕｒｚａｄｓｌｃｎｃｉｓｕｄｒｉｅｆｃａｆｉｔｎｌｏｔｎｕｅｃｆｆｔｏｙｔｍｘｅｎｌｆｃｏｉｒｓｗａｘｌｒｄ．ｅｒｓｌｓｓｏｔａｈｅｓｉｋｓｉｒｑｅｃｎｍｐｉｄｒｉｅｅｔｆｏｔｅｍｔｅｉｌｎｅｈａｓｅｐｏｅＴｈｅｕｔｈｗｈｔｔｔｃ－ｌｆｅｕｎｙａｄａｌｕｅａｅｄｆｒｎｒｍｈａｒａｓｕｄｒｔｅｓｍｅｐｔｆ
２１年６月０１
润滑与密封
ＬＵＢＲＩＣＡＴＩＯＮＥＮＧＩＮＥＥＲＩＮＧ
Ｊｎ０ｌｕｅ２１
Ｖｏ．６／．ｓｎ０５０５．０１０．０ＯＩ１．９９ｊｉ．２４— １０２１．６０１ｓ