PVDCVD设备介绍

Centerfind / Cool Down Chamber
Wafer Cassette Loadlocks
89809-CO.18
Centura
• Centura是 Applied Materials 繼P-5000及Endura之後，又一單晶片 --多反應室設計的半導體製程設備。
• Centura於1992年問世。設計的理念為應用Endura的優異真空架構 及創新的晶圓傳輸設計，結合P5000的彈性製程整合能力以大幅提 高生產力。
• 1987年後，半導體製程設備傾向於單片多反應室設計(single wafer,multi chamber)。其好處為可以解決晶圓尺寸愈來愈大趨勢， 因為批次式反應室所能處理的晶圓片數愈來愈少，而製程條件的控制 也愈來愈複雜，於是採用單片式的設計。
• 單片多反應室設計的優點為共用的製程平台(mainframe，platform)只 須加掛不同的製程反應室就可以應用不同的製程。
Safety is always important 安全第一 安全至上
概說
• P5000
– 應用材料公司1980年代中期推出的機台設計 – Single wafer,multi-chamber design – 6吋8吋設備共用相同的主機架構 – 提高再現性,可靠度 – 共用次系統模組化
• For example, ROBOT
課程目的與大綱
• 電力系統(AC POWER BOX/POWER DISTRIBUTION) • 傳送反應室(Transfer Chamber) • 傳送機制(Wafer Handling) • 晶舟承載(Loadlock Chamber) • 輔助反應室(Auxiliary Chamber) • 系統控制器(SYSTEM CONTROLLER) • 高週波(射頻)產生器(GENERATOR RACK) • 熱交換系統(HEATER EXCHANGER) • 氣體傳送系統(GAS DELIVERY SYSTEM) • 真空系統(VACUUM SYSTEM)
• 配合各種不同之反應室因應不同製程反應之需求
– Process Chambers – Auxiliary chambers—cooldown, orienter
概說
• Endura
– 應用材料公司1980年代末期推出的機台設計
– Single wafer,multi-chamber design – Multi-stage 階梯式減壓 – 6吋8吋設備共用相同的主機架構 – 提高再現性,可靠度 – 兩個獨立的 loadlock 反應室-可規劃生產流程 – 共用次系統模組化 – 統一的操作介面 – 減少機台所佔空間
Precision 5000
Endura
CVD / PVD Process Chambers
CVD / PVD Process Chambers
Integrated Process Chambers
Orienter / Degas
Integrated Process Chambers
Orienter / Degas
Wafer Cassette Loadlocks
Endபைடு நூலகம்ra HP/VHP
• Endrua系統是根據P-5000系統的基本理念而設計的； 它增加了dual loadlock以及階梯式抽真空的架構設計， 如此一來，Endura就可以提供物理氣相沉積技術所需 的超高真空(ultra-high vacuum)條件。
• 配合各種不同之反應室因應不同製程反應之需求
– Process Chambers – Auxiliary chambers—cooldown, orienter/de-gas, pre-clean
批次式與單片式
• 1987年以前，製程都是使用批次式( “batch”)製程技術，一個製程步 驟同時進行多片製程處理，所以使用一個大型反應室，例如爐管.
製程設備主機介紹
課程目的與大綱
• AMAT System – Mainframe+Process Chamber+Remote – Subsystem
• 了解次系統觀念與次系統工作原理與應用 – 廠務設計(facility) – 主機系統輔助設備 – 反應室輔助設備
• 大綱
– 安全(SAFETY/LOCKOUT TAGOUT) – 概說(Introduction) – 主機平台(MAINFRAME) – 廠務設施設計(System Facilities)
• Endura同時提供半導體元件製造時所需最先進的物理 氣相沉積製程能力。
Endura PVD 5500 System
centura
• 單片 • 多反應室 • 製程整合 • 良好真空能力 • 製程控制
Centura®
Process Chambers
Centerfind / Cool Down Chamber
Precision 5000
Process Chamber
Cassette Indexer
Precision 5000®
Process Chamber
Process Chamber
Robot
Wafer Cassettes
P-5000
• P-5000 系統是世界上第一台成功地以單晶片、多反應室 理念而設計成的量產與研發均適用的半導體製程設備。
– 統一的操作介面 – 減少機台所佔空間
• 配合各種不同之反應室因應不同製程反應之需求
– Process Chambers – P5000 interface
概說
• Centura
– 應用材料公司1990年代推出的機台設計 – Single wafer,multi-chamber design – 6吋8吋設備共用相同的主機架構 – 提高再現性,可靠度 – 兩個獨立的 loadlock 反應室-可規劃生產流程 – 共用次系統模組化 – 統一的操作介面 – 減少機台所佔空間
• 自1987年P-5000系統問世以來，Applied Materials發展 了許多以P-5000為主體而加掛於其上的製程反應室，包 括蝕刻製程及薄膜製程。
• P-5000系統具有絕佳的製程整合、量產製造等優點，並 在不破真空的狀況下最多可有四個相同或不相同的製程 反應室同時進行生產，更富彈性與整合能力。