双压电变形反射镜的优化设计
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*本课题得到国家科委863高科技项目部分支持。
**现工作单位:钢铁研究总院工艺研究所,北京100081。
收稿日期:1998-04-07;收到修改稿日期:1998-07-14
第19卷 第9期
1999年9月光 学 学 报ACT A OPT ICA SIN ICA V o l.19,N o.9September ,1999
双压电变形反射镜的优化设计
*杨 强** 朱建平 曹根瑞
(北京理工大学光电工程系,北京100081)
摘 要 利用K o ko ro w ski 导出的自由边界条件下双压电变形镜表面位移-电压所满足的偏微分方程,运用高斯迭代法求解该方程,得出变形镜的静态响应函数矩阵f (r , )。考虑到由大气湍流造成的光学波前畸变中各泽尼克(Zer nike)基元模式的统计权重分布,以及变形镜的实际装夹定位方式,对双压电变形反射镜的优化设计进行了分析。结果表明:变形镜的校正能力随被校正的各项泽尼克模式像差在大气湍流造成的波前畸变中所占统计权重的不同而有很大的差别,其优化设计结果也随之而变;变形镜的定位方式对其校正能力有一定的影响,但影响不大。
关键词 自适应光学, 变形反射镜, 优化设计, 响应函数矩阵。
1 引 言
变形反射镜(通常也称之为波前校正器)是自适应光学系统中的核心器件之一,它具有能可控地改变其反射波前相位畸变的特点。目前国内外用得比较普遍的分立式压电变形镜具有灵敏度高、校正自由度多、动态范围大等优点,但造价昂贵,结构复杂,加之随着控制电极的增多,信号处理电路也变得复杂,导致整个系统的响应速度变慢。相比之下双压电变形镜具有工作电压低、动态范围大、结构简单、造价低廉以及在和曲率波前传感器配合使用的情况下系统响应速度快等优点。不足之处是它只适合于校正低阶像差,但在多数情况下,这已能满足使用要求,因此仍有广阔的应用前景。
双压电变形镜的优化设计工作目前在国外初见报道[1~3]。本文研究的重点是针对大气湍流造成的光学波前畸变中各泽尼克基元模式统计权重的不同,以及变形镜的实际装夹定位方式不同,对优化设计作更深入的研究和探讨。
2 双压电变形镜的工作原理
利用压电体的逆压电效应,把两个沿旋转对称轴方向极化的圆片形压电材料以相反的极化方向粘到一起构成一双压电片变形镜,当在圆片的两侧加电压时,横向压电效应将使两个粘成一体的圆片朝相反的方向弯曲,如图1所示。Kokorow ski 导出了决定这种双压电变形镜
的变形量与所加电压之间满足的微分方程[4]:
2w (x ,y )=-4V (x ,y )/ah 2(1)
其中V (x ,y )为变形镜上所加的电压,h 为薄圆片的厚度,a 为和压电材料有关的常数,w (x ,y )为圆片表面上点(x ,y )处的法向位移, 2是二维拉普拉斯算子。同时存在的纵向逆压电效应也将导致薄圆片在厚度方向发生变化,但在圆盘直径远大于圆盘厚度h 的情况下,该变化和w (x ,y )相比可以忽略不计。
图2所示为控制电极的分布图。图中电极1~7与镜面的有效通光口径相对应;电极8~13在有效通光口径之外,用以控制有效通光口径的边界条件。把该器件固定于半径为R 3的圆周上,当各电极加上一定电压而使表面变形时,变形量的计算问题就成为求解上述泊松(Po isso n )方程的第一边值问题。不难通过求解极坐标形式下的泊松方程得到镜面上(r ,
)F ig .1Pr inciple of bimor ph defor mable mirr or F
ig .2Electro de patt ern of 13-seg ment bimo rph
defor mable m irr o r
处的法向位移与电压的关系:
w (r , )r r +w (r , )r /r +w (r , ) /r 2=-4V (r , )/ah 2
V (r , )=V 0, R i (2) 这里假设a 和h 为已知常数,其中i 两种特殊情况: 1)当在13个电极上同时加电压V 时,求解上述泊松方程的第一边值问题可以得到[5]: w a (x ,y )= V ah 2(R 23- 2),(3) 其中 2=x 2+y 2。 2)在第一个电极上加电压V ,而其它电极电压均为0时,作二级近似,解上述方程得到: w b (x ,y )=V ah 2[(R 21- 2)+2R 21ln R 3R 1 ], (0≤ ≤R 1)-2VR 21ah 2ln R 3, (R 1< ≤R 3)(4)当对电极2~13逐个施加电压时,很难给出上述泊松方程的解析解,但可以用高斯迭代法求解[5]。图3所示为运用该算法得到的13幅当电压分别作用于图2所示的各电极时变形镜的变形图。 考虑到用泽尼克多项式表示和分析光学零件面形误差或光学系统波像差的方法已被广泛应用,因此以图3所示的用高斯迭代法求得的各电极在单位电压作用下所引起的镜面变形函数或响应函数f 1(r , ),f 2(r , ),…,f 13(r , )为基底,在 ≤R 2(变形镜的有效工作口径) 1164光 学 学 报 19卷 Fig .3T he deformation profiles responded for each electrode actuation of bim orph m irror calculated by Gauss ian iteration algorith m 范围内,对泽尼克多项式前8项(或更多项)基元波面(倾斜-X 、Y ;离焦;像散-X 、Y ;纯彗差-X 、Y ;球差)逐项进行最小二乘拟合,便可得出欲使变形镜分别产生泽尼克基元波面形式的变形时应施加的控制电压系数矩阵,以便作为控制变形镜工作的一组基本数据备用。为此,首先可写出: V i ,1f 1(r , )+V i ,2f 2(r , )+…V i ,13f 13(r , )=z i (r , ) (5)这里取i =1…8,V i ,1…V i ,13为拟合第i 项泽尼克基元波面时各电极应施加的电压系数。显然 (5)式为一超定方程组。记拟合第i 项泽尼克基元波面时的波前残差的方差为:!(i )= m k =1 m i =1{z i (r k , l )- 13j =1V i ,j f j (r k , l )}2(6) 式中m ×m 为响应函数f j 的采样点数。以V i ,j 作自变量,当满足最小二乘拟合条件时,应有: ∀!(i ) V i ,t = m k =1 m l =12[ 13j =1V i ,j f i (r k , l )-z i (r k , l )]f t (r k , l )=0(7) 当t 取尽1~13里所有自然数时,即可得到用以产生各泽尼克基元波面的控制电压矩阵表达式: V =[F ]-113×13[Z ′i ,1Z ′i ,2…Z ′i ,13]T (8) 其中[F ]-113×13和Z ′ i ,t 的求法可参考文献[5]。3 控制电极的优化 控制电极划分的形式不同可得到不同的响应函数组{f 1,f 2,f 3,…,f 13},以此为基底分别最小二乘拟合泽尼克多项式的前n 项时将得到不同的拟合残差的方差值。同时,考虑到大气湍流造成的波前畸变中各项基元波面所占的比重是不同的。Noll 根据大气湍流的柯尔莫哥洛夫(Ko lmog orov )模型,建立了用泽尼克多项式表示的大气湍流造成的波前相位畸变的数学模型并给出当前n 项像差已得到校正后,残余波前相位畸变的方差为[6]:#2∃=〈∃2〉- n i =1〈 a i 2〉(9) 1165 9期杨 强等: 双压电变形反射镜的优化设计