扫描电镜图像的分析

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扫描电镜图像分析仪在矿物鉴定中的应用

扫描电镜图像分析仪在矿物鉴定中的应用

扫描电镜图像分析仪在矿物鉴定中的应用郭 嘉(山东省第一地质矿产勘查院,山东 济南 250013)摘 要:在传统的矿物鉴定中,难以立体地描述矿石样本中的矿物类型及所在区域,因此将扫描电镜图像分析仪应用于矿物鉴定中。

论述扫描电镜图像分析技术原理,归纳总结电子束击打在矿石样本表面后形成的分散电子类型,并分别描述其性质,分析该技术的优势,包括分辨率高、具备三维立体结构等。

论述扫描电镜图像分析仪在矿物鉴定中的应用方法,通过矿石自身的导电性能,区分所需扫描电镜种类及参数,分析不同矿石中的元素组成含量,推断矿石具体成分,寻找页岩结构中的微小孔隙。

关键词:扫描电镜图像分析仪;矿物鉴定;岩石矿物鉴定;扫描电镜;电镜图像分析中图分类号:P575.4 文献标识码:A 文章编号:1002-5065(2021)17-0209-2Application of Scanning Electron Microscope Image Analyzer in Mineral IdentificationGUO Jia(Shandong First Geological and Mineral Exploration Institute, Ji’nan 250013,China)Abstract: In traditional mineral identification, it is difficult to three-dimensionally describe the types and areas of minerals in ore samples. Therefore, scanning electron microscope image analyzers are used in mineral identification. Discuss the principle of scanning electron microscope image analysis technology, summarize and summarize the types of scattered electrons formed after the electron beam hits the surface of the ore sample, and describe their properties respectively, and analyze the advantages of this technology, including high resolution and three-dimensional structure. Discuss the application method of scanning electron microscope image analyzer in mineral identification. Through the conductivity of the ore itself, distinguish the required scanning electron microscope types and parameters, analyze the element composition content of different ore, infer the specific composition of the ore, and look for the shale structure. Tiny pores.Keywords: scanning electron microscope image analyzer; mineral identification; rock mineral identification; scanning electron microscope; electron microscope image analysis我国的工业发展对矿石有极大的需求,因此合理并及时地大范围开采矿物资源是满足人们生产和生活的前提。

扫描电镜分析简介ppt

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• 扫描电镜的景深为比一般光学显微镜景深大100-500倍,比 透射电镜的景深大10 倍。
• 景深取决于分辨本领和电子束入射半角ac。由右下图可知, 扫描电镜的景深F为:
d0临界分辨本领, ac电子束的入射半角
扫描电镜应用实例
断口形貌分析 纳米材料形貌分析 在微电子工业方面的应用
断口形貌分析
扫描电镜显微分析简介
扫描电子显微镜
扫描电子显微镜
扫描电镜显微分析简介
概况 扫描电镜的优点 扫描电镜成像的物理信号 扫描电镜的工作原理 扫描电镜的构造 扫描电镜的主要性能 应用举例
概况
扫描电子显微镜简称扫描电镜,英 文缩写:SEM。为适应不同要求,在扫描电 镜上安装上多种专用附件,实现一机多用, 使扫描电镜成为同时具有透射电子显微镜 (TEM)、电子探针X射线显微分析仪 (EPMA)、电子衍射仪(ED)等多种功能 的一种直观、快速、综合的表面分析仪器。
电源系统由稳压,稳流及相应的安全保护电路 所组成,其作用是提供扫描电镜各部分所需的电 源。
扫描电镜的主要性能
放大倍数 分辨率 景深
扫描电镜的主要性能
放大倍数
M=AC/AS 式中AC是荧光屏上图像的边长, AS是电子束在样品上
的扫描振幅。 目前大多数商品扫描电镜放大倍数为20-20000倍,介
背散射电子:入射电子在样品中经散射后再从上表 面射出来的电子。反映样品表面不同取向、不同平 均原子量的区域差别。
二次电子:由样品中原子外壳层释放出来,在扫描 电子显微术中反映样品上表面的形貌特征。
X射线:入射电子在样品原子激发内层电子后外层电 子跃迁至内层时发出的光子。
其他信号
俄歇电子:入射电子在样品原子激发内层电 子后外层电子跃迁至内层时,多余能量转移 给外层电子,使外层电子挣脱原子核的束缚, 成为俄歇电子。

扫描电镜图像的分析

扫描电镜图像的分析

100 150 200 250 300 350 400 颗粒个数N

数 均 D n 5.57 5.30 5.40 5.57 5.50 5.57 5.64
μ
m
体 均 D v 8.33 8.20 8.06 8.16 8.08 8.09 8.14
μ
m
D50 μm 8 . 11 8 . 1 0 7 . 8 0 7 . 9 2 7 . 9 1 7 . 9 2 7 . 9 5
图4.12 500X 解理和沿晶断裂
图4.13 钢管旳断口 500X
图4.14 钢材腐蚀表面 1000X
图4.15 750X 沿晶断裂
图4.16 550X 解理断裂
图4.17 1000X 解理+准解理
图4.18 500X 解理+沿晶断口(拉长韧窝)
图4.19 高岭土 3000X
图4.20 高岭土5000X
图4.22 Mg-Zn-Y合金二次电子照片
图4.23 合金旳背散射电子照片 500X
图4.24 Mg-Zn-Y合金旳背散射电子照片 图4.25 Mg-Zn-Y合金旳背散射和二次电子照片
图4.26 铝钴镍合金二次电子照片
图4.27 铝钴镍合金背散射电子照片
4 粒度分布测量
大规模集成电路板上旳沟槽深、线宽、圆直径、正方形、长方形边长等旳测量;粉体(尤其是纳米)颗粒 粒度测量、原则粒子微球旳粒度定值;复合材料(如固体推动剂)中某种颗粒组份粒度分布测量、样品表 面孔隙率测定等…,都能够使用图像处理、分析功能,有自动和手动。目前旳EDS中都有该软件包供选择, 用SEM测量测定粉体颗粒粒度是精确、以便和实用旳。测量旳粒度范围能够从几十纳米到几种毫米,是 任何专用粒度仪所无法胜任旳。尤其当分析样品旳粒度不大于3um(例如:超细银粉、碳粉、钴蓝、 Fe2O3、SiO2等)时,超细颗粒极易汇集、团聚(如下图)、在水中尤其难于分散旳特征,老式旳湿法 粒度分析(例如:Coulter计数法、激光散射法、动态光子有关法)就无法得到真实旳粒度成果。而扫描 电镜粒度分析法(简称SEM法)却不受这些限制,比较灵活,完全能适应这些特殊样品旳粒度分析,同 步它属于绝对粒度测量法。为克服SEM粒度分析法所存在旳测定样品量太少、成果缺乏代表性旳缺陷, 在实际操作时,要多制备些观察试样,多采集些照片,多测量些颗粒(300个以上)。超细粉体样品一般 制备在铜柱表面上,希望颗粒单层均匀分散、彼此不粘连。这么,在不同倍数下得到照片,便于图象处理 和分析功能自动完毕;不然,就要手工测量每个颗粒旳粒度,然后进行统计处理。

扫描电镜显微分析

扫描电镜显微分析

扫描电镜显微分析扫描电镜显微分析实验报告一、实验目的1、了解扫描电镜的基本结构和原理。

2、掌握扫描电镜试样的制备方法。

3、了解扫描电镜的基本操作。

4、了解二次电子像、背散射电子像和吸收电子像,观察记录操作的全过程及其在组织形貌观察中的应用。

二、实验内容1、根据扫描电镜的基本原理,对照仪器设备,了解各部分的功能用途。

2、根据操作步骤,对照设备仪器,了解每步操作的目的和控制的部位。

3、在老师的指导下进行电镜的基本操作。

4、对电镜照片进行基本分析。

三、实验设备仪器与材料Quanta 250 FEG 扫描电子显微镜四、实验原理(一)、扫描电子显微镜的基本结构和成像原理扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope,简称SEM)是继透射电镜之后发展起来的一种电子显微镜简称扫描电镜。

它是将电子束聚焦后以扫描的方式作用样品,产生一系列物理信息,收集其中的二次电子、背散射电子等信息,经处理后获得样品表面形貌的放大图像。

扫描电镜主要由电子光学系统;信号检测处理、图像显示和记录系统及真空系统三大系统组成。

其中电子光学系统是扫描电镜的主要组成部分,主要组成:电子枪、电磁透镜、光栏、扫描线圈、样品室等,其外形和结构原理如图1所示。

由电子枪发射出的电子经过聚光镜系统和末级透镜的会聚作用形成一直径很小的电子束,投射到试样的表面,同时,镜筒内的偏置线圈使这束电子在试样表面作光栅式扫描。

在扫描过程中,入射电子依次在试样的每个作用点激发出各种信息,如二次电子、背散射电子、特征X射线等。

安装在试样附近的探测器分别检测相关反应表面形貌特征的形貌信息,如二次电子、背散射电子等,经过处理后送到阴极射线管(简称CRT)的栅极调制其量度,从而在与入射电子束作同步扫描的CRT上显示出试样表面的形貌图像。

根据成像信号的不同,可以在SEM的CRT上分别产生二次电子像、背散射电子像、吸收电子像、X射线元素分布图等。

本实验主要介绍的二次电子像和背散射电子像。

一种基于人工智能的扫描电镜图像分析方法[发明专利]

一种基于人工智能的扫描电镜图像分析方法[发明专利]

专利名称:一种基于人工智能的扫描电镜图像分析方法专利类型:发明专利
发明人:汪洋
申请号:CN202110533586.8
申请日:20210516
公开号:CN114359898A
公开日:
20220415
专利内容由知识产权出版社提供
摘要:本发明针对传统人工方法对扫描电镜图像的分析依赖经验,并且难以获得有效的数据,难以进行量化分析的问题,提出一种基于人工智能的扫描电镜图像的分析装置,用于解决这一问题。

该装置对电镜图像使用人工智能技术获得扫描电镜图像中的对象单元的相关图形学数据,获得对象单元的微观理化特性的统计学的分析结果。

并通过训练人工智能分类器,用于判定不同电镜照片中是否含有相似物质,并将分析结果进行实时显示。

申请人:汪洋
地址:210028 江苏省南京市十字街2号2-101
国籍:CN
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扫描电镜实验报告图像分析怎么写

扫描电镜实验报告图像分析怎么写

扫描电镜实验报告图像分析怎么写一、引言扫描电镜(Scanning Electron Microscope, SEM)是一种常用的高分辨率表面形貌分析仪器,广泛应用于材料科学、生物学、纳米科技等领域。

本实验旨在利用扫描电镜对样品进行观察和分析,掌握图像分析技巧,并结合实际图像进行详细分析,从而深入了解样品的表面形貌和微观结构。

二、实验方法1. 样品制备:选择需要观察的样品,根据不同的要求进行制备,如金属材料可以进行抛光、腐蚀处理,生物样品可以进行固定和超薄切片等。

2. 仪器操作:将制备好的样品放入扫描电镜的样品台上,调节加速电压和放大倍数等参数,开始观察和拍摄图像。

3. 图像获取:通过扫描电镜获取样品的图像,并保存在电脑上,以备后续的图像分析工作。

三、图像分析1. 图像质量评估:首先对所获得的图像进行质量评估。

评估图像的对比度、噪声、清晰度等指标,确保图像的质量符合要求。

可以通过测量像素密度、区域灰度分布等方法进行评估。

2. 图像预处理:针对图像中存在的噪声、伪影等问题,可以对图像进行预处理。

例如,可以利用图像处理软件进行滤波、增强对比度等操作,以提高图像清晰度和可视化效果。

3. 形貌分析:通过对图像进行形貌分析,可以获得样品的表面形貌特征。

可以使用图像处理软件中的测量工具来计算样品的颗粒大小、距离、角度等参数。

同时,可以根据图像中的拓扑结构特征,推测样品的形成过程和相互关系。

4. 结构分析:通过图像分析,可以对样品的微观结构进行分析。

可以从图像中观察并描述样品的晶体结构、纤维形态等。

同时,可以对样品中存在的裂纹、孔洞等缺陷进行分析,评估样品的完整性和质量。

5. 成分分析:在图像分析的基础上,可以借助图谱分析和能谱分析等技术手段,对样品的成分进行分析。

通过识别元素的峰位和峰强,可以得到样品的成分组成,进一步了解样品的化学特性。

四、实验结果与讨论本次扫描电镜实验中,我们选择了一块金属样品,并进行了抛光和腐蚀处理。

扫描电镜分析

扫描电镜分析

1.1扫描电子显微镜电子光学原理1.1.1瑞利公式利用光学显微系统将细节放大,满足人眼分辨率可以接受的程度,最大分辨率可达到200nm(放大倍数1000倍)。

根据瑞利公式:Δr0=0.61λ/(Nsinα)其中:Δr0为辨率;λ为光源的波长;N为介质的折射率;α为孔径半角,即透镜对物点的张角的一半;N sinα称为数值孔径,常用N.A表示。

根据瑞利公式,提高分辩率的途径有:(1)增大数值孔径(N sinα),即增大介质折射率N和数值孔径α;(2)减小照明光源波长λ。

在以空气为介质的情况下,光学透镜系统的N.A<1,采用油侵透镜,N.A max=1.35。

因此得:Δrmin=λ/2。

所以提高显微镜分辨率的根本途径是寻求一种波长更短的光源[2]!既然是光源限制了显微镜的放大倍数和分辨率的发展,人们自然会想到:要想提高显微镜的放大倍数和分辨率,就应该更换波长更短的光源。

随着人们对电磁波的认识,人们了解到:在一定的电压下电子束的波长可以达到零点几个纳米,使用电子束做为光源,显微镜的分辨率就可能提高几个数量级。

1.1.2扫描电镜成像图为扫描电镜原理示意图,由电子枪发射的电子束,经会聚镜、物镜缩小、聚焦,在样品表面形成一定能量和斑点直径的电子束。

在扫描线圈磁场作用下,作用在样品表面上的电子束将按一定时间、空间顺序作光栅或扫描。

电子束从样品中激发的二次电子,由二次电子收集器收集、由加速极加速至闪烁体转变成光信号,此信号经光导管到达光电倍增管再转变成电信号。

该电信号由视频放大器放大,输送到显像管栅极,调制显像管亮度,使之在屏幕上呈现亮暗程度不同的反映表面起伏(形貌)的二次电子像。

由于电子束在样品表面上扫描和显像管中电子束在荧光屏上扫描由同一扫描电路控制,保证了它们之间完全同步,即保证了“物点”和“像点”在时间和空间上的一一对应。

一般称一个像点为一个“图像单元”、一幅扫描图像近100万个图像单元。

正因为如此,才使得SEM不仅显示一般形貌,而且还能将样品局部化学元素、光、电和磁等性质差异以二维图像形式显示出来。

扫描电镜分析简介

扫描电镜分析简介

扫描电镜分析简介
扫描电镜(Scanning Electron Microscope,简称SEM)是一种高分辨力电子显微镜技术,它是研究尺度上非常小的目标物质的分子结构的工具。

它的发展是电镜发展的新一步,因为它不仅可以观察物体的表面和形状,而且能够潜入表面深处,甚至可以分析其化学成分。

SEM技术的原理主要是使用激光束来照射样品表面,激光束穿过空气层在样品表面受到反弹,经过反弹的激光首先进入到放大镜系统,再经过扫描器激光射频控制,发射到样品表面,进而可以获得样品表面的高分辨率图像。

扫描电子显微镜是由支持用空气压进行绝缘的真空容器、电子源、偏振器、扫描仪和控制系统组成的一个设备。

它的真空容器由一个金属模型和一个电子枪组成,具有十几个测量系统,而电子源能够将千万伏特的电源供给给电子枪,使其产生电子束,该电子束射向样品,使样品表面放射出可以记录观测的电子信号。

扫描电镜的图像分析 PPT

扫描电镜的图像分析 PPT

图4.12 500X 解理和沿晶断裂
图4.13 钢管的断口 500X
图4.14 钢材腐蚀表面 1000X
图4.15 750X 沿晶断裂
图4.16 550X 解理断裂
图4.17 1000X 解理+准解理
图4.18 500X 解理+沿晶断口(拉长韧窝)
图4.19 高岭土 3000X
图4.20 高岭土5000X
数和试样的表面特征进行选择,根据这个计算公式,可以先
估算观察某一分辨率所需要的M有效。例如,要看60nm细节, 则有M有效=0.3*106nm/60nm=5000倍,即欲观察试样表面 60nm的细节,理论上SEM放大倍数只要达到5千倍就够了, 然而实际上要选择比此值大的倍数,例如2万倍。
很多厂家标称的SEM放大倍数为30~50万倍,验收分 辨率时只用10万倍。最高放大倍率只是仪器的一种放大能 力,不是验收指标,不可能用最高放大倍率拍摄分辨率照 片。当研究某个样品,确定它的形貌特征时,要根据工作 要求、它的表面特征和实际的预观察结果,选择适宜的放 大倍数照相,不是放大倍数越大越好。在几万倍放大倍数 下,很多样品表面缺乏细微形貌,难以得到清晰照片。高 放大倍数时,取样面积很小,仅为试样表面的很小一部分, 缺乏代表性。
(1)2000X

(2) 2000X
(3)2000X
(4) 2000X
图4.21 钛酸锶陶瓷组织结构
(3) 2000X
黑色为铁素体;白色为珠光体 图4.22 油管(钢材)2006-516金相组织
(1) 500X
(2) 1000X
SEM所得金相组织照片与光学显微镜的金相组织照片相反,如下图4.23 所示。
钨灯丝SEM在日常工作条件下,用普通试样照相, 能作到6nm分辨率就相当不易了。在此分辨率下,可以 在5万倍以上拍出清晰照片。通常情况下,用3万倍对普 通样品照相(如陶瓷、矿物),能给出清晰二次电子照 片,就属高水平。

影响扫描电镜图像质量因素分析

影响扫描电镜图像质量因素分析

影响扫描电镜图像质量的因素分析摘要:本文介绍影响的因素及其对图像质量的影响,别离从加速电压、扫描速度和信噪比、、、和等分析图像质量的转变原因,提出提高图像质量的方式。

关键词: 扫描电子显微镜 SEM 图像质量是(Scanning Electron Microscope,SEM)是起来的一种多功能的电子显微分析仪器。

SEM 以其简单、图像视野大、景深长、图像立体感强,且能接收和分析后产生的大部份信息,因此在科研和工业等各个领域取得普遍应用。

但是扫描电镜是非常精密的仪器,结构复杂,要想得到能充分反映物质形貌、层次清晰、立体感强和分辨率高的高质量图像仍然是一件非常艰难的事情,本文针对工作中出现的问题,分析影响图像质量的因素,讨论如何根据样品选择最佳观察条件。

1 加速电压扫描电镜的电子束是由灯丝通电发烧温度升高,当钨丝达到白热化,电子的动能增加到大于阳离子对它的吸引力( 逸出功) 时,电子就逃逸出去。

在紧靠灯丝处装上有孔的栅极( 也叫韦氏盖),灯丝尖处于栅孔中心。

栅极上100~1000V 的负电场,使灯丝的电子发射达到必然程度时,再也不能继续随温度增加而增加,即达到(这种提法是错误的)。

离开栅极必然距离有一个中心有孔的阳极,在阳极和阴极间加有一个很高的正电压称为[1],它使电子束加速而取得能量。

加速电压的范围在1~30kV,其值越大电子束能量越大,反之亦然。

加速电压的选用视样品的性质( 含导电性) 和倍率等来选定。

当样品导电性好且不易受电子束损伤时可选用高加速电压,这时(尤其是低原子序数的材料)使材料衬度减小图像分辨率高。

但加速电压过高会产生不利因素,电子束对样品的穿透能力增大,在样品中的扩散区也加大,会发射甚至二次电子也被散射,过多的散射电子存在信号里会出现叠加的虚影从而降低分辨率,目前我所用的扫描电子显微镜(TESCAN TS 5136MM) 的加速电压可在1~30kV 内任意调节,采用加速电压1~30 kV(见图1)。

扫描电镜分析简介

扫描电镜分析简介

扫描电镜分析简介扫描电镜(Scanning Electron Microscopy,SEM)是一种常用的材料分析技术,通过表面扫描电子束所产生的电子与样品表面相互作用,测量和分析电子束与样品之间的相互作用现象,得到图像和各种表征参数,从而实现对样品微观结构的观察和分析。

SEM的工作原理是将样品置于真空条件下,利用电子枪产生高能电子束,以扇形或螺旋形的方式扫描在样品表面,当电子束与样品相互作用时,部分电子进入样品表面产生的电子云,将原本在电子束路径上不可见的电子转化为可见的信号。

这种信号包括二次电子(Secondary Electrons, SE)和反射电子(Backscattered Electrons, BSE)两种,二次电子主要来自于样品表面物质的元素分布和拓扑结构,反射电子则主要来自于电子束与原子核的碰撞反射。

通过收集、放大和检测这些反射电子,就可以获取样品的电子图像。

SEM与传统的光学显微技术相比,具有以下优点:1.高分辨率:SEM的分辨率可达到亚纳米级别,能够观察到更小的细节和粒子。

2.能够观察非导电材料:相对于传统的透射电镜,SEM可以直接观察非导电材料,不需要特殊的样品制备。

3.大深度焦距:SEM具有较大的深度焦距,可以获得更清晰的三维像。

4.显示能力强:SEM可以生成高对比度的图像,并且具有较强的深度感。

5.多功能性:SEM除了观察样品表面形貌外,还可以进行成分分析、晶体结构分析、导电性测量等多种功能。

SEM主要应用于材料研究、生物医学、纳米科学等领域。

在材料研究中,SEM常用于观察材料的晶体形貌、断口形貌、金属表面的腐蚀和磨损等。

在纳米科学领域,SEM可以用于观察纳米材料的形貌和尺寸分布,同时还可以通过能谱分析技术,得到不同区域的元素组成。

在生物医学中,SEM可以观察细胞结构、病毒和细菌等微生物形态特征,对研究细胞生物学、病理学等具有重要意义。

为了更好地进行SEM分析,需要注意以下几个方面的问题:1.样品制备:样品要求具有一定的导电性,通常需要进行金属镀膜或者冷冻干燥等处理才能满足要求。

扫描电镜

扫描电镜

二、电子束与固体样品作用产生 的信号
1、二次电子 在入射电子束作用下被轰击出来并离开样 品表面的核外电子叫做二次电子。这是一种真 空中的自由电子。二次电子一般都是在表层 5~10 nm 深度范围内发射出来的,它对样品 的表面形貌十分敏感,因此,能非常有效地显 示样品的表面形貌。二次电子的产额和原子序 数之间没有明显的依赖关系,所以不能用它来 进行成分分析。
扫描电镜
郭萍
一、扫描电镜原理
扫描电镜的工作原理是用一束极细的电子束扫描
样品,在样品表面激发出二次电子等次级电子,次级
电子的多少与电子束入射角有关,也就是说与样品的 表面结构有关,次级电子由探测体收集,并在那里被 闪烁器转变为光信号,再经光电倍增管和放大器转变 为电信号来控制荧光屏上电子束的强度,显示出与电 子束同步的扫描图像。图像为立体形象,反映了标本 的表面结构。
应的元素。
三、电镜分析
上面电镜照片是由亮(白) 、暗( 灰) 、黑几
种不同色素集合而成,对于正常的图象来说:
(1)亮是代表样品高凸部位、面向检侧器的部位、
具有高原子序数元素的部位,导电性能好的部位。
(2)暗则反之。
(3)不同程度的亮暗,即为不同的差异,那些孔
洞、缝隙、底下部位呈现黑色。
2、背射电子 背散射电子是被固体样品中的原子核反弹 回来的一部分入射电子,背散射电了来自样品表 层几百纳米的深度范围。由于它的产额能随样 品原子序数增大而增多,所以不仅能用作形貌 分析,而且征X射线
我们用x射线探测器测到样品微区中存在某
一种特征波长,就可以判定这个微区中存在着相

扫描电镜分析

扫描电镜分析

(c)×5000
(d)×5000
烧结温度为850℃,四种调湿材料的电镜图:(a) 样品1(b)样品2 (c)样品3(d)样品4
在850℃的温度下,硅藻土 中的硅藻壳的微孔结构让然保 持完好,并没有在此温度下遭 到破坏,四种调湿材料的整体 结构都比较疏松,表面都有丰 富的孔洞。 从图(d)可以看出,样品4 具有其它三种调湿材料没有的 独特的表面形貌,其表面具有 很多球型的凹坑,并且每个凹 坑又具有无数的硅藻壳碎片的 圆柱形的通孔,所以在进行调 湿性能实验时,其具有比其他 三种调湿材料更好的调湿性能。
硅藻土原料与纯化硅藻土的表面形貌分析
图(a)为硅藻原土的SEM 图,从图中我们可以清晰的看 到原土硅藻壳体表面所覆盖的 大量的碎屑、炭质、粘土矿物 等杂质,壳体几乎被杂质所覆 盖和填充,还出现了孔洞塌陷 等现象,可以说几乎看不到清 晰的硅藻壳面的多孔结构。
(a)硅藻原土SEM图
对比图(a),图1(b)用60%硫 酸酸浸提纯的硅藻土很大程度地清 理了硅藻面孔道,使硅藻壳体大部 分的孔结构显露出来,并且非常完 整地保护了硅藻壳体,硅藻土的比 表面积和孔体积增大较大。而硅藻 土的调湿性能正是由其独特的孔隙 结构所赋予的,所பைடு நூலகம்酸浸提纯这一 操作很是关键。
陶瓷膜由过渡层、致密层和疏松层组成。过渡层为 膜层与基体的交界面 ,膜层与基体犬牙交错 ,形成微区冶 金结合; 中间为无气孔和其它缺陷的致密层 ;致密层外侧 是疏松层,层中存在许多孔洞及其它缺陷。
图5a.膨胀石墨外观的SEM图
图5b.膨胀石墨表面孔隙结构SEM图
膨胀石墨的外观如蠕虫状 ,由许多粘连、叠合的石墨鳞 片构成 , 片间有许多蜂窝状的微细孔隙 . 其微片厚度大致在 100~300 nm之间,孔隙的尺寸在10-3~10 nm之间。

扫描电镜检测报告

扫描电镜检测报告

扫描电镜检测报告1. 引言扫描电镜(Scanning Electron Microscope,SEM)是一种常用的高分辨率显微镜,可用于观察样品表面的微观结构。

扫描电镜检测报告记录了对样品进行扫描电镜观察的结果和分析。

2. 检测目的本次检测的目的是对样品进行表面形貌分析,以了解其微观结构和特征。

3. 检测方法使用型号为XXXX的扫描电镜对样品进行观察。

检测过程中,首先将样品固定在扫描电镜的样品台上,然后通过电子束扫描样品表面,并获得高分辨率的图像。

4. 检测结果通过扫描电镜观察,我们获得了样品的高清图像,可以清晰地看到其表面的微观结构。

以下是我们观察到的几个重要特征:4.1 粗糙度样品表面呈现出一定的粗糙度,可以观察到微小的凹凸结构。

这些凹凸结构可能是由于加工过程中的磨削或其他物理力作用导致的。

4.2 颗粒分布在样品表面,我们还观察到均匀分布的微小颗粒。

通过进一步分析,我们发现这些颗粒的尺寸大致在1-10微米之间,形状多样,可能是杂质或其他微粒的沉积。

4.3 裂纹和缺陷在观察过程中,我们还发现样品表面存在一些细微的裂纹和缺陷。

这些缺陷可能是由于材料的应力集中、热膨胀等因素引起的,需要进一步的分析来确定其具体原因。

5. 结论通过扫描电镜的观察和分析,我们对样品的表面形貌有了更深入的了解。

样品表面呈现出一定的粗糙度,存在颗粒分布和细微的裂纹和缺陷。

这些观察结果对于进一步分析样品的性能和品质具有重要意义。

6. 建议基于本次检测结果,我们建议进一步研究以下几个方面:•对样品表面的粗糙度进行进一步的测量和分析,以确定其对材料性能的影响程度。

•对颗粒分布进行成分分析,以确定其来源和对样品性能的潜在影响。

•对细微裂纹和缺陷进行更详细的调查,以确定其成因并采取相应的措施进行修复。

7. 参考文献[1] Smith, J. K. Scanning electron microscopy. Materials Characterization Techniques, 2017.[2] Chen, L., & Wang, Q. Applications of scanning electron microscopy in material science. Journal of Materials Science & Technology, 2019.8. 致谢感谢本次检测中参与实验和数据分析的所有人员的辛勤工作和贡献。

扫描电镜分析原理

扫描电镜分析原理

扫描电镜分析原理扫描电镜(Scanning Electron Microscope,SEM)是一种通过扫描样品表面并检测由样品放射出的电子来获得样品表面形貌和成分的仪器。

SEM利用高能电子束与样品相互作用,通过分析电子束与样品之间的相互作用来获得样品的各种信息。

其工作原理如下:1.电子源:SEM中使用的电子源通常为热阴极发射电子源,通过升高阳极电压,使电子从热阴极发射出来。

发射的电子束通过一系列电子透镜系统聚焦并加速到一定的能量。

2.样品制备:在进行SEM观察前,需要对样品进行制备处理。

常见的样品制备方法包括金属喷镀、碳喷镀、冷冻切片、离子切割等。

制备后的样品需要放置在真空环境下进行观察。

3.电子束与样品的相互作用:电子束在与样品相互作用时,会发生多种相互作用,包括散射、透射、吸收等。

这些相互作用会导致电子束的改变,从而提供了关于样品形貌和成分的信息。

4.信号检测:SEM通过检测从样品表面散射出的电子来获取图像。

这些散射出的电子经过各种探测器的接收和放大后,转化为电子图像。

常见的探测器包括二次电子探测器和反向散射电子探测器。

- 二次电子探测器(Secondary Electron Detector,SED): SED可以检测到样品表面发射出的二次电子。

二次电子的发射数量与样品表面的形貌相关,可以获得样品表面形貌的信息。

- 反向散射电子探测器(Backscattered Electron Detector,BED): BED可以检测到电子束与样品中原子核的相互作用产生的反向散射电子。

反向散射电子的能量与样品中元素的原子序数相关,可以用以获得样品的成分信息。

5.图像形成:通过对来自探测器的信号进行处理和放大,得到由电子束在样品上扫描过程中记录下来的图像。

这些图像可以以灰度图的形式来展示样品表面的形貌和成分信息。

总结起来,SEM利用高能电子束与样品相互作用,通过探测从样品表面散射出的电子来获取样品表面形貌和成分的信息。

扫描电镜的使用演示 (2)

扫描电镜的使用演示 (2)

扫描电镜的使用演示一、实验目的1)了解扫描电镜基本结构和工作原理。

2)通过对表面形貌衬度和原子序数衬度的观察,了解扫描电镜图像衬底原理及其应用。

二、扫描电镜的基本结构和工作原理扫描电子显微镜利用细聚焦电子束在样品表面逐点扫描,与样品相互作用产行各种物理信号,这些信号经检测器接收、放大并转换成调制信号,最后在荧光屏上显示反映样品表面各种特征的图像。

扫描电镜具有景深大、图像立体感强、放大倍数范围大、连续可调、分辨率高、样品室空间大且样品制备简单等特点,是进行样品表面研究的有效分析工具。

扫描电镜所需的加速电压一般在1〜30kV,常用的加速电压〜20kV左右。

图像放大倍数在一定范围内(几十倍到几十万倍)可以实现连续调整,放大倍数等于荧光屏上显示的图像横向长度与电子束在样品上横向扫描的实际长度之比。

扫描电镜最常使用的是二次电子信号和背散射电子信号,前者用于显示表面形貌衬度,后者用于显示原子序数衬度。

扫描电镜的基本结构可分为电子光学系统、扫描系统、信号检测放大系统、图像显示和记录系统、真空系统和电源及控制系统六大部分。

三、扫描电镜图像衬度观察1.样品制备扫描电镜的优点之一是样品制备简单,对于新鲜的金属断口样品不需要做任何处理,可以直接进行观察。

但在有些情况下需对样品进行必要的处理。

1)样品表面附着有灰尘和油污,可用有机溶剂(乙醇或丙酮)在超声波清洗器中清洗。

2)样品表面锈蚀或严重氧化,采用化学清洗或电解的方法处理。

清洗时可能会失去一些表面形貌特征的细节,操作过程中应该注意。

3)对于不导电的样品,观察前需在表面喷镀一层导电金属或碳,镀膜厚度控制在5-10nm为宜。

2.表面形貌衬度观察二次电子信号来自于样品表面层5〜10nm,信号的强度对样品微区表面相对于入射束的取向非常敏感,随着样品表面相对于入射束的倾角增大,二次电子的产额增多。

因此,二次电子像适合于显示表面形貌衬度。

二次电子像的分辨率较高,一般约在3〜6nm。

扫描电镜原理-SEM剖析精品PPT课件

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能清晰成像。

二次电子的强度主要与样品表面形
貌有关。二次电子和背散射电子共同用于扫描
电镜(SEM)的成像。
特征X射 线
如果入射电子把样品表面原子的内层电子撞 出,被激发的空穴由高能级电子填充时,能 量以电磁辐射的形式放出,就产生特征X射线 ,可用于元素分析。
如果入射电子把外层电子打进内层,原
俄歇 子被激发了.为释放能量而电离出次外层电
d 2a
△F——焦深; d ——电子束直径; 2a——物镜的孔径角
衬度
表面形貌衬度
原子序数衬度
衬度
表面形貌衬度
表面形貌衬度主要是样品表面的凹凸(称为表面地 理)决定的。一般情况下,入射电子能从试详表面 下约5nm厚的薄层激发出二次电子。
原子序数衬度
原子序数衬度指扫描电子束入射试祥时产生的背散 射电子、吸收电子、X射线,对微区内原子序数的 差异相当敏感,而二次电子不敏感。
低原子序 Z
高原子序 Z
高加速电压 kV
低加速电压 kV
1. 电子束斑大小基本不能影响分辨率 2. 而加速电压 kV 和平均原子序 Z 则起决定作用。
信号的方向性
SE 信号 – 非直线传播 通过探头前加有正电压的金属网来吸引
BSE 信号 – 直线发散传播 探头需覆盖面积大
X-射线信号 –直线发散传播
样品腔
SEM控制台
样品腔 样品台
OM & SEM
Comparison
显微镜类 型 OM
SEM
照明源 可见光 电子束
照射方式
成像信息
光束在试样上 以静止方式投

反射光/投射 光
电子束在试样 上作光栅状扫
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图4.22 Mg-Zn-Y合金二次电子照片
图4.23 合金的背散射电子照片 500X
图4.24 Mg-Zn-Y合金的背散射电子照片
图4.25 Mg-Zn-Y合金的背散射和二次电子照片
图4.26 铝钴镍合金二次电子照片
图4.27 铝钴镍合金背散射电子照片
4 粒度分布测量
大规模集成电路板上的沟槽深、线宽、圆直径、正方形、长方形边长等的测量;粉体(尤其是纳米)颗粒 粒度测量、标准粒子微球的粒度定值;复合材料(如固体推进剂)中某种颗粒组份粒度分布测量、样品表 面孔隙率测定等…,都可以使用图像处理、分析功能,有自动和手动。现在的EDS中都有该软件包供选择, 用SEM测量测定粉体颗粒粒度是准确、方便和实用的。测量的粒度范围可以从几十纳米到几个毫米,是任 何专用粒度仪所无法胜任的。尤其当分析样品的粒度小于3um(例如:超细银粉、碳粉、钴蓝、Fe2O3、 SiO2等)时,超细颗粒极易聚集、团聚(如下图)、在水中特别难于分散的特性,传统的湿法粒度分析 (例如:Coulter计数法、激光散射法、动态光子相关法)就无法得到真实的粒度结果。而扫描电镜粒度 分析法(简称SEM法)却不受这些限制,比较灵活,完全能适应这些特殊样品的粒度分析,同时它属于绝 对粒度测量法。为克服SEM粒度分析法所存在的测定样品量太少、结果缺乏代表性的缺点,在实际操作时, 要多制备些观察试样,多采集些照片,多测量些颗粒(300个以上)。超细粉体样品一般制备在铜柱表面 上,希望颗粒单层均匀分散、彼此不粘连。这样,在不同倍数下得到照片,便于图象处理和分析功能自动 完成;否则,就要手工测量每个颗粒的粒度,然后进行统计处理。
检测仪器:MEF4M金相显微镜及图像分析系统(德国LEICA) 检测日期 2006.4.7 试样名称:油管(钢材)2006-516
3 背散射电子像(BEI)观察
背散射电子含有试样平均元素组成、表面几何形貌信息。使用半导体检测 器可以观察样品表面的成分像,以及成分与形貌的混合象。背射电子象缺乏细 节, 远不如二次电子象清晰,但是能从背射电子象的衬度迅速得出一些元素的 定性分布概念,对于进一步制定用特征x射线进行定量分析的方案是很有好处 的。很多金相抛光试样,未腐蚀的光滑表面,看不到什么形貌信息,必须借助 背散射电子像才能观察抛光面的元素及相分布,确定成分分析点,研究材料的内 部组织和夹杂。导电性差的试样,形貌观察时,BEI优于SEI。背散射电子像观 察对于合金研究、失效分析、材料中杂质检测非常有用。下图是Al-Co-Ni, MgZn-Y合金的二次电子和背散射电子照片。
4.4.2 能谱仪的分辨率
能谱仪的分辨率有能量分辨率和空间分辨率之分。能量分辨率是能谱仪最重 要的性能指标,以全峰半高宽(FWHM)计量。一般在探头装入电镜样品室之 前,生产厂家采用3000cps计数率,选用适宜值的放大器时间常数,用Fe55放射 源测定分辨率。实际上,新的能谱仪安装验收时,一般使用Mn标样直接测量 MnKa线的谱峰半高宽,作为验收分辨率指标。这是鉴定能量分辨率最简单的 方法,误差较大。能谱仪的能量分辨率主要取决于检测器及放大器的质量;另 外,实际使用中还与计数率、时间常数和环境温度有关。目前,商品能谱仪分 辨率一般优于130ev。 空间分辨率指入射电子束与试样相互作用体积的大小,近似等于相互作用体 积的最大直径,它取决于试样的原子序数、电子束的能量(即加速电压、束斑 电流)。空间分辨率的值(即相互作用体积的直径)愈大,空间分辨率越差。做 细颗粒或薄膜样品的成分分析时,要特别注意选择合适的测定条件,以保证最 佳的空间分辨率。
(3) 测量结果误差:从SEM的放大倍数误差鉴定知,不同倍数下的长度测量
误差是不同的。当把数均粒度转化为体均粒度时,长度测量误差就会引入到测 量结果中。因体均粒度为数均粒度的立方函数,则带入体均粒度的误差就为长 度测量误差值的立方。
5 样品成分的定性、定量分析
4.4.1 试样要求 EDS能够分析有机物(如高分子聚合物、生物细胞、植物)、无机物(如金属、 氧化物、矿物盐类)、复合材料(有机物和无机物的复合,如推进剂、计算机外 壳),样品状态可为块状、粉末或水/油悬浮液中的颗粒物(当然要进行分离、干 燥),能定性给出这些样品的元素组成。过去,做EDS分析要求样品表面光滑, 现在没有这种要求,不过,分析粗糙试样,仍局限于定性或半定量分析。为了得 到准确的定量结果,还是使样品表面尽量平滑。另外,对样品的要求还有:(1) 有良好导电性好,导电性不好或不导电的样品,特别是含超轻元素(如C、N、O、 F)的样品,最好先在样品表面上喷涂碳膜;(2)试样尺寸:越小越好,特别是分 析不导电的样品时,小试样可以改善导电性差的影响;大试样,会放出较多气体, 影响真空和带来污染;(3)均质、有代表性、无磁性、无污染。(4)粉体样品:细 颗粒可依靠自身的表面吸附力,用无水乙醇使其粘附在铜或铝台表面上,要有适 当堆积厚度,尽量不使电子束激发样品台的成分。必要时可事先检测一下粉体样 的成分,若有铜或铝,就相应地使用铝或铜台。粗颗粒要粘在导电胶带上,做 EDS时尽量选择较大的颗粒分析。但是,不论细或粗颗粒,做EDS时最好用压片 机制成快状。
MS激光 Coulter SEM粒度测量法 粒度仪 粒度仪 (美国) 1千倍, 2千倍 (英国 824个 205个 Malvern)
体均粒度 Dv
数均粒度 Dn
7.90
5.57
7.91
5.61
7.85
5.43
7.60
7.74
中位粒度 D50
7.65
7.69
7.76
7.37
7.31
使用SEM法时应该注意: (1)SEM粒度测量法得到的体积平均粒度Dv,不是直接测得的,而是通 过数学上的转换得到的。从球体体积计算公式可知,用SEM检测时, 忽略、漏检1个10μm的颗粒相当于忽略、漏检1000个1μm颗粒的影响。 所以,大颗粒对Dv的影响是很大的,可用表4.2的数据说明。
由表4.3看出,随着测量颗粒数的增加,数均粒度Dn的变化并不明显, 而体均粒度 Dv的变化就稍大。当测量的颗粒数大于200时,Dv变化趋向平稳。可以认定,200颗 粒就是合适的测量个数。对于形状不规则、粒度分布宽的样品言,测量颗粒数对粒 度结果Dv的影响就很明显,一般选择测量颗粒数目为300个以上。
2 典型的形貌像(二次电子像SEI)
图4.2 喷金碳颗粒5万倍SEM照片
图4.3 喷金碳颗粒20万倍SEM照片
图4.6 高分子微球5万倍照片
图4.4 高分子微球4万倍照片
图4.5 彩色荧光屏涂层1万倍照片
图4.7 x
图4.9 滤纸照片 1000x
图4.28堆积荧光蓝粉颗粒的粒度测量 2000X
图4.29
聚集的超细银粉
表4.1是荧光蓝粉(形状近似球体)的SEM粒度测量结果与激光衍射法、电导法测 量结果的比较。从表4.1可以看出,它们的测量结果比较一致,证明SEM法的粒度 测量结果是可靠的。
表4.1 不同粒度测量方法所得结果比较 (µm)
1千倍,2 千倍, 1074个颗 粒
图4.13 钢管的断口 500X
图4.14 钢材腐蚀表面 1000X
图4.15 750X 沿晶断裂
图4.16 550X 解理断裂
图4.17 1000X 解理+准解理
图4.18 500X 解理+沿晶断口(拉长韧窝)
图4.19 高岭土 3000X
图4.20
高岭土5000X
(1)2000X
(2) 2000X
(3)2000X
(4)
2000X
图4.21 钛酸锶陶瓷组织结构
黑色为铁素体;白色为珠光体
图4.22 油管(钢材)2006-516金相组织 (3) 2000X
(1) 500X
(2) 1000X
SEM所得金相组织照片与光学显微镜的金相组织照片相反,如下图4.23 所示。
图4.23 金相组织光镜照片
500×
另外,还有一种称作“有效放大倍数M有效”的概念,它 是将试样表面形貌细节放大到人眼刚能分辨时的放大倍数: M有效=人眼分辨率/SEM分辨率。例如,SEM分辨率为3nm, 人眼睛的分辨率约为0.2~0.3mm, 通常取0.3mm,则M有效 =0.3*106nm/3nm=100000倍,显然欲观察试样表面3nm的细节, SEM放大倍数只要达到10万倍就够用了。 现在,SEM安装验收时,一般都选100000倍下做分辨率 鉴定,估计就是这个原因。图象放大倍数要根据有效放大倍 数和试样的表面特征进行选择,根据这个计算公式,可以先 估算观察某一分辨率所需要的M有效。例如,要看60nm细节, 则有M有效=0.3*106nm/60nm=5000倍,即欲观察试样表面 60nm的细节,理论上SEM放大倍数只要达到5千倍就够了, 然而实际上要选择比此值大的倍数,例如2万倍。
表4.2 大颗粒对粒度结果的影响 检测颗 粒数 97 100 大颗粒数(1013μm) 无 3 (μm) 数均 Dn 5.22 5.41 体均 Dv 7.20 8.16 D50
粒度范 围 1.30-10 1.30-13
7.13 7.75
相对误差 %
3.5
12
8
从表4.2看出,把100个检测颗粒中的3个大颗粒忽略后,算得的数均粒度Dn变化 不大,而体均粒度Dv的变化却比较大。所以,在使用SEM法时,为保证测量结 果的准确性和代表性,要选择适宜的放大倍数,注意不要漏检大颗粒。小放大倍 数用于测量大颗粒,高放大倍数用于测量小颗粒。
图4.10 RDX 5000X
图4.11 高分子微球1万倍照片
图4.12~图4.18是35CrMnMo钢管壁断口照片,这反映了它的脆性。机 械零件断裂失效分析中,断裂主要由材料缺陷引起:例如金属和非金属 夹杂物、结晶偏析、气孔等。这借助于SEM和EDS很容易观察和分析。
图4.12 500X 解理和沿晶断裂
很多厂家标称的SEM放大倍数为30~50万倍,验收分 辨率时只用10万倍。最高放大倍率只是仪器的一种放大能 力,不是验收指标,不可能用最高放大倍率拍摄分辨率照 片。当研究某个样品,确定它的形貌特征时,要根据工作 要求、它的表面特征和实际的预观察结果,选择适宜的放 大倍数照相,不是放大倍数越大越好。在几万倍放大倍数 下,很多样品表面缺乏细微形貌,难以得到清晰照片。高 放大倍数时,取样面积很小,仅为试样表面的很小一部分, 缺乏代表性。 SEM放大倍数误差的鉴定, 一般用铜制栅网、标准尺 和各种粒度的聚苯乙烯微球标准,前者用于低倍,后者用 于高倍检查,允许误差为士5%。
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