专利申请实务专题培训(详尽实用版).

替换方式
说明本发明中基于同一发明构思的替换方案； 哪些部件可省略后仍可以达到本发明目的； 本发明中哪些部件可替换成其他部件，并提供替换后的图
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有益效果
与最接近的现有技术相比，本发明有何优点。
预保护点 附图
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申请专利的策略
申请与不申请
专利保护是以充分公开为代价，申请人需要根据自己的发明目的，确定不同的申请 策略： 以自用为目的
以转让技术为目的 以申请公开为目的 凑数
充当资本
以削弱竞争对手优势为目的 以干扰竞争对手视线为目的
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纲要
中国专利的种类
授予专利权的条件
专利申请流程 申请专利的策略 如何准备技术交底书 国际专利申请的途径 专利申请布局的策划
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授予专利权的条件
授予专利权的发明和实用新型应当具备新颖性、创造性和实用性。 新颖性，是指该发明或者实用新型不属于现有技术；也没有任何单位或 者个人就同样的发明或者实用新型在申请日以前向国务院专利行政部门 提出过申请，并记载在申请日以后公布的专利申请文件或者公告的专利 文件中。 创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的 进步，该实用新型具有实质性特点和进步。 发明有突出的实质性特点，是指对所属技术领域的技术人员来说，发明 相对于现有技术是非显而易见的。 发明有显著的进步，是指发明与现有技术相比能够产生有益的技术效果。 例如，发明克服了现有技术中存在的缺点和不足，或者为解决某一技术 问题提供了一种不同构思的技术方案，或者代表某种新的技术发展趋势。
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纲要
中国专利的种类 授予专利权的条件
专利申请流程
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专利申请流程
专利申请流程.doc
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纲要
中国专利的种类 授权条件 专利申请流程
申请专利的策略
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申请专利的策略
申请的时机
过早与过晚 完整性
如何申请 确定发明点 确定保护策略
最大保护策略 最小保护策略
准备分案申请 关于发明目的与独立权利要求的关系
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申请专利的策略
确定专利申请类型需要考虑的因素 装置还是方法 保护特征的考虑：结构特征、方法特征 维权的考虑
装置专利：保护范围明确，侵权取证容易 方法专利：保护范围较宽，侵权取证难
发明专利还是实用新型专利 审查程序长短和专利权的稳定性的考虑 发明高度的考虑 保护期限的考虑 诉讼中法律待遇 申请费用和政府的扶持政策 同时申请发明和实用新型
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纲要
中国专利的种类 授予专利权的条件 专利申请流程 申请专利的策略
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纲要

中国专利的种类
授予专利权的条件 专利申请流程 申请专利的策略 如何准备技术交底书 国际专利申请的途径 专利申请布局的策划
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中国专利的类型
发明：对产品、方法及其改进所提出的新的技术方案。 技术方案是申请人对其要解决的技术问题所采取的利用了自然规律的技术特征的 集合。 分产品发明和方法发明，产品发明可以是产品形状、产品结构、产品组份、产品 材料等；方法发明可以是制造方法、生产工艺流程、控制方法、检测方法等。 实质审查制，保护期限20年 实用新型：产品的形状、构造及其结合所提出的新的、适于实用的新的技术方案。 产品的形状是指产品所具有的、可以从外部观察到的确定的空间形状。 产品的构造是指产品的各个组成部分的安排、组织和相互关系。 形式审查制，保护期限10年。 外观设计：对产品的形状、图案、或者其结合以及色彩与形状、图案的结合所作 出富有美感并适于工业上应用的新设计。 形式审查制，保护期限10年。
发明构思和本发明能够解决的技术问题
对发明的核心内容或原理进行阐述 对比现有技术中的缺陷对本发明能够解决的技术问题客观列举
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发明内容详述
对于机械产品的发明创造应详细说明每一个结构零部件的形状、构造、部件 之间的连接关系、空间位置关系、工作原理等； 对于电器产品应描述电路功能模块的组成、电器元件的连接关系及工作机理、 原理分析； 对于无固定形状和结构的产品，如粉状或流体产品，化学品、药品，应描述 配方、制造工艺条件和工艺流程等； 对于方法发明，应描述操作步骤、工艺参数等。 注意：说明中尽量使用技术术语，并解释不常见的技术术语。出现缩写时解 释其中文含义和英文含义。同一部件用同一名称来描述。
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授予专利权的条件
实用性，是指该发明或者实用新型能够制造或者使用，并且能够产生积 极效果。 本法所称现有技术，是指申请日以前在国内外为公众所知的技术。 授予专利权的外观设计，应当不属于现有设计；也没有任何单位或者个 人就同样的外观设计在申请日以前向国务院专利行政部门提出过申请， 并记载在申请日以后公告的专利文件中。 授予专利权的外观设计与现有设计或者现有设计特征的组合相比，应当 具有明显区别。 授予专利权的外观设计不得与他人在申请日以前已经取得的合法权利相 冲突。 本法所称现有设计，是指申请日以前在国内外为公众所知的设计。
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国际专利申请的途径 专利申请布局的策划
Байду номын сангаас
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发明名称：清楚简要，少于25个字，无非技术词语和含糊词 语 技术领域：所属或直接应用的领域 背景技术描述及其缺陷：
详细介绍本发明的背景，背景可以包括本发明的应用场合、技术发展 过程，并描述已有的与本发明最相近似的实现方案。 已有技术或现有技术如果有出处，请写明出处，例如技术书籍、专利 文献。 已有技术或现有技术中的缺陷，该缺陷正是本发明可以克服的。