晶体材料基础---第九讲 晶体生长方法

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过程。
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1897年Ostwald首先引入“不稳过饱和”和“亚稳过饱和” 的概念。
他把在无晶核存在下能自发析出固相的过饱和溶液称为 “不稳过饱和”溶液;
而把不能自发析出固相的过饱和溶液称为“亚稳过饱和” 溶液。
随后,Miers 对自发结晶和过饱和度之间的关系进行了广 泛的研究。发现:在溶解度曲线上方还有一条溶液开始自 发结晶的界限,称为过饱和曲线。
亚稳区的大小既与结晶物质的本性有关,也容易受外界条 件的影响,如搅拌、振动、温度、杂质等。
不同物质溶液的亚稳区差别相当大。 过饱和度的表示方式:
浓度驱动力: c = c-c* ——结晶过程的驱动力
过饱和比: s = c/c*
过饱和度 或相对过饱和度
= c /c* = s -1
过饱和度也可用温度来表示, t = t*- t (过冷度)
✓ 过饱和,晶体呈生长现象。晶体附近的溶液由于溶质在 晶体上析出,浓度变小,形成向上运动的液流,生长涡 流。
• 距饱和温度越远,涡流越明显; • 在饱和温度下,涡流完全消失。 ➢ 精确度 0.1-0.5oC
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一、溶液和溶解度 1、溶液和溶液浓度 溶液: 由两种或两种以上物质所组成的均匀混合体系称为溶液。 ➢ 由溶质和溶剂组成。 ➢ 通常将溶液中含量较多的组分称为溶剂,较少的为溶质。 溶液浓度:
一定量的溶液中含有溶质的量称为溶液的浓度。
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❖溶液浓度的表示方法:
(1)体积摩尔浓度(M):M = 溶质(mol数) / 1L溶液。 (2)重量摩尔浓度(m):m = 溶质(mol数) / 1000g 溶剂。
第八讲 晶体生长技术(1)
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晶体生长方法:
(1) 溶液生长 (2) 熔体生长 (3) 气相生长 (4) 固相生长
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溶液法:方法简单,生长 速度慢,晶体应 力小,均匀性好
降温法 恒温蒸发法 循环流动法 温差水热法 助熔剂法
气相法:生长速度慢,晶 体纯度高、完整性好,宜 于薄膜生长
升华法 反应法 热解法
在一定的温度和压力下,饱和溶液的浓度为该物质的溶
解度。
饱和溶液:与溶质固相处于平衡的溶液称为该平衡状态下该 物质的饱和溶液。
L S (给定温度,压力)
➢ 溶解度是考察溶液中生长晶体的最基本的参数。 同一物质在不同的溶剂中有不同的溶解度,选择合适的
溶剂是晶体生长的重要任务之一。 在我们所讨论的体系中,压力对溶解度的影响是很小的,
要获得光学质量好、尺寸大的单晶,就必须严格控制晶体的生长速度, 使构成晶体的离子严格按照其点阵结构各就各位地进行排列,形成结 构完整的晶体,
就必须掌握溶质在水中的溶解度及溶解度随温度的变化,并在溶液中 放上一个或几个籽晶,使溶质在籽晶上析出,慢慢地沿着一定的结构 方向生长。
使用这种方法,生长温度很低,生长设备简单,而且容易长成大块的、 均匀性良好又有完整外形的晶体,但是生长速度很慢,生长周期长。
但温度的影响却十分显著。物质在不同的温度下,其溶 解度是有明显差别的。
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(2) 溶解度曲线 把不同温度下的溶解度用一条平滑的曲线连接起来(特殊情
况下有拐点)所得到的曲线称为溶解度曲线(标记为) 。
浓 度
选择从溶液中生长晶体的方 法和温度区间的重要依据。
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3、饱和与过饱和溶液
饱和溶液:与溶质固相处于平衡状态的溶
液称为该物质的饱和溶液。
▪ 溶解度曲线实际上是给出不同温度下的饱和溶液的浓度, 所以溶解度溶解度曲线也称为饱和曲线。
过饱和溶液:某温度时,溶液浓度大于平衡浓度。 不饱和溶液:某温度时,溶液浓度小于平衡浓度。 ▪ 过饱和状态是从溶液中生长晶体的前提条件。 ▪ 所有的晶体生长过程都是在过饱和溶液中进行的,非平衡
(3)摩尔分数(x):x = 溶质(mol数) / 溶液总mol数。
(4)重量百分数( c):c = 溶质克数 / 100g(or 1000g)溶液。
(5)重量比:溶质克数 / 100g(or 1000g)溶剂。
不同的浓度表示方式适用于不同的场合,在溶解度数据中 经常使用(3)和(5)。
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2、溶解度和溶解度曲线 ( 1)溶解度
熔体法:生长速度快,晶体的 纯度及完整性高
凝固析晶法 坩埚下降法 提拉法 泡生法 浮区法 焰熔法 导模法
固相法:主要靠固体材料中的 扩散使非晶或多晶转变为单晶, 由于扩散速度小,不宜于生长 大块晶体
高压法、再结晶法
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(一)溶液法晶体生长
基本原理是将晶体原料(溶质)溶解在溶剂中,采取适当的
措施使溶液达到过饱和状态,使晶体在其中生长。 水溶液生长
度下不断搅拌,直到溶液中剩余少量固体不再溶为止。
此时溶液的温度即可看成是溶液的饱和温度。
➢ 此方法较简单,但达到平衡所需时间较长,且精确度低,0.5-1oC
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(2) 浓度涡流法 用尼龙绳将一小块晶体悬挂在其接近饱和温度的溶液中, 仔细观察晶体及其附近的液流情况。
✓ 如果溶液不饱和,晶体溶解;靠近晶体表面的溶液,其 浓度大于周围溶液浓度,因而变得较重而向下运动,形 成一股向下的液流,溶解涡流。

水热法

高温溶液法 (助熔剂法、熔盐法)
生长条件
压力
温度
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溶剂
水溶液生长 水热法
高温溶液法
常压
低温( <100oC)
高压(200-10000atm) 高温(200-1100oC)
常压
高温(1000oC)
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水(+无机盐) 水+矿化剂
低熔点 助溶剂
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A、水溶液生长
从海水中提取食盐就是水溶液生长晶体最简单的例子。 ——用日晒蒸发让NaCl从海水中自发形成晶核,随意生长。
过饱和曲线将过饱和溶液分为亚稳区和不稳区。
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溶液状态图
t t*
不饱和溶液区 过饱和溶液区
稳定区 亚稳区 不稳区
不可能发生结晶现象
不会发生自发结晶,如将籽晶放入 溶液中,晶体就会在籽晶上生长 自发地发生结晶现象
从溶液中生长晶体都是在亚稳区进行的。
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亚稳区大小可用过饱和度(或过冷度)来估计。
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4、溶液的饱和温度、溶解度和过饱和度的测量方法: 溶液达到饱和状态时的温度,称为溶液的饱和温度。 准确地测量溶液的饱和温度是下籽晶(种子)操作的前
提,也是测定溶解度和过饱和度的基础。
常用的测定饱和温度的方法有: 平衡法
浓度涡流法
和光学效应法。
(1)平衡法
在接近饱和的溶液中,放入一些固体溶质,在一定的温
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