功能材料及其应用复习资料
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绪论
功能材料的定义:具有优良的电学、磁学、光学、热学、声学、力学、化学和生物学功能及其相互转化的功能,被用于非结构目的的高技术材料
结合键:原子(离子或分子)间的作用力。
结合键分类:
化学键:离子键、共价键、金属键物理键:分子键、氢键。
晶胞的定义:在空间点阵中,能代表空间点阵结构特点的小平行六面体,反映晶格特
征的最小几何单元。
整个空间点阵可由晶胞作三维的重复堆砌而构成。
晶胞三条棱边的边长a、b、c及晶轴之间的夹角a、B、丫称为晶胞参数
晶系:根据晶胞的外形,即棱边长度之间的关系和晶轴夹角的情况,将晶体分为七大晶系。
1848年,法国晶体学家布拉菲(A. Bravais )用数学方法证明只能有14种空间点阵。a.简单晶胞:7个只有在每个角上含有阵点
b.复合晶胞:7个除了每个角外,晶胞内部或面上还含有阵点
第一章导电材料复习
导电材料按导电机理可分为电子导电材料和离子导电材料两大
类。
电子导电材料的导电起源于电子的运动。电子导电材料包括导_
体、超导体和半导体。导体的电导率》105 S/m,超导体的电导率为无限大(在温度小于临界温度时),半导体的电导率为10 -7-
104S/m 。当材料的电导率 <10 -7S/m 时,就认为该材料基本上不能导电,而称为绝缘体。
离子导电材料的导电机理则主要是起源于离子的运动,由于离
子的运动速度远小于电子的运动速度,因此其电导率也远小于电子导电材料的电导率,目前最高不超过102S/m,大多都在100S/m 以下。
导体的能带结构所示有三种结构:(a)类有未充满的能带,能
带间相互重叠,无禁带;(b)类价电子充满下面的能带,上面紧接着另一个空能带,无禁带;(c)类有未充满的能带,该能带与上面的空带间有禁带。但是不论何种结构,导体中均存在电子运动的通
道即导带。(a)类的导带由未满带、重带和空带构成,(b)类的导
带由空带构成,(c)类的导带由未满带构成。电子进入导带运动均不需能带间跃迁。
导体中的散射中心有两类:一类是晶格原子的热振动,与温度
T有关;另一类是晶格缺陷,无相变时,一般与温度无关。不论何
种温度,电阻率P均随温度升高而升高。相反,电导率。随温度升高而降低,这也是导体的一个特征。
1911年Onnes HK在研究极低温度下金属导电性时发现,当温度降到4.20 K 时,汞的电阻率突然降到接近于零。这种现象称为汞的超导现象。某些金属,金属化合物及合金,当温度低到一定程度时,电阻突然消失,把这种处于零电阻的状态叫做超导态,
有超导态存在的导体叫做超导体。超导体从正常态(电阻态)过渡到超导态(零电阻态)的转变叫做正常-超导转变,转变时的温度Tc称为这种超导体的临界温度。
揭示出超导电性的微观本质的理论是由巴丁、库柏和施里弗三
人建立的BCS理论(Bardeen、Cooper 和Schrieffer)。BCS 理论认为,在绝对零度下,对于超导态、低能量的电子(在费米球内部深处的电子)仍与在正常态中的一样。但在费米面附近的电子,
则在吸引力的作用下,按相反的动量和自旋全部两两结合成库柏
对、这些库柏对可以理解为凝聚的超导电子。从动量角度看,在超
导基态中,各库柏对单个电子的动量可以不同,但每个库柏对总是
涉及各个总动量为零的对态,因此,所有库柏对都凝聚在零动量上。
当正常的金属载流时,将会出现电阻,因为电子会受到散射而改变动量,使载流子沿电场方向的自由加速受到阻碍。而在超导体情况下,组成库柏对的电子虽然会受到不断地散射,但是,由于
在散射过程中,库柏对的总动量维持不变,所以电流没有变化,
呈无阻状态
本征半导体能带结构:下面是价带,由于纯半导体的原子在绝
,其价带是充满电子的,因此是一个满价带。上面是导带,
对零度时
运动而传导正电荷。因此,半导体的导电来源于电子和空穴的运动,电子和空穴都是半导体中导电的载流子。激发既可以是热激发,也可以是非热激发,通过激发,半导体中产生载流子,从而导电。
可分为元素半导体和化合物半导体。元素半导体又可分为本征半导体和杂质半导体。化合物半导体又可分为合金、化合物、陶瓷和有机高分子四种半导体。
按掺杂原子的价电子数分可分为施主型(又叫电子型或n型)和受主型(又叫空穴型或p型)。前者掺杂原子的价电子多于纯元素的价电子,后者正好相反。
按晶态分可分为结晶、微晶和非晶半导体。
半导体中价带上的电子借助于热、电、磁等方式激发到导带叫本_
征激发。满足本征激发的半导体叫本征半导体。本征半导体是高纯度无缺陷的元素半导体,其杂质小于十亿分之一个。
利用将杂质元素掺入纯元素中,把电子从杂质能级(带)激发到导带上或者把电子从价带激发到杂质能级上,从而在价带中产生空穴的激发叫非本征激发或杂质激发。这种半导体叫杂质半导体。
杂质半导体本身也都存在本征激发,因此杂质半导体有杂质激
发,又有本征激发。一般杂质半导体中掺杂杂质的浓度很小,如十
亿分之一即可达到目的
ITI A IVA VA VI A
B C N O
稠磁M曷
2z22p22s22p32s22p4
10.::12.011401te.oo
13 Al Si p S
铝琏锚研
3*03(s3^3s23p?3s23p*
26329.0830 9732.07
■-•iGa32 Ge As Se
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应
W
4s24p2
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S9.7272.6170278.06
49 In 5. Sn51 Sb Te
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5s^5p^占s:5s^6p*
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图1-3杂质半导体的能带结构