NH3低温选择性催化还原NO的研究
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关 键 词 :V O5 3 i 2 化 剂 ;选 择性 催 化 还 原 ;低 温 2 一 / O催 WO T 中 图 分 类 号 :T 4 1 K 2. 5 文 献 标 志 码 :A 文章编号 :
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世界 各 国 已采 用多 种技 术 限制 N 排 放 , 2 自 0 世纪 8 0年 代 以来 , 种 催 化还 原 技术 备 受青 睐 .目 各 前 工业 中广 泛应 用 的选 择性 催化 还 原 (e c v aa sl t e ct ei — lt e u t n S R 技术 , 以有 效 地 降 低 N 排 yi rd ci , C ) c o 可 放 . 以 NH 或尿素 为还 原剂 , 主要 反应 为 它 其
第 1 7卷
第 2期
燃Байду номын сангаас
烧
科
学
与
技
术
、o11 NO. , .7 2
2 1 年 4月 01
J ur a fCo b sin S in ea dTe h oo y o n l m u to ce c n c n lg o
A p . 011 r2
NH3 温 选 择 性 催化 还 原 NO 的研 究 低
吕 林 ,沈 颖 倩
( 武汉 理工 大学 能 源 与动 力 工 程 学 院 ,武 汉 4 0 6 ) 3 0 3
摘
要 :在 固定床反应器 中,利用 瞬态 响应技术 和程 序升温技术研究 了低温时 N H 选择性催化还原 (C ) O 的瞬 S RN
态 动 力 学 及 V O一 J i 化 剂 活性 的影 响 因素 ,试 验 结 果 表 明 :0 的体 积分 数增 大 ,N 转 化 率 增 大 ;H0 的存 WO TO 催 O
在抑制 了 N O的转化率 ;S O 的存在提高了 N O的转化 率.低温 时,S R反应遵循 Ee— iel C l Rd a 机理 ,其反应速率依赖 y 于催化剂表面的 N 盖度 ,但 当 N 盖度 大于 N “ H覆 H覆 H 临界 ”覆盖度时 ,则与 N H 覆盖度无关 .
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h n e t h r s n e o O2 Atl w e e a u e, S a c d wi t ep e e c fS . h o t mp r t r CR e c i n i i n t e E e — d a a h y, a d t e r a to n l e wi t l y Ri e l t wa s i h h p n h
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第 1 7卷
第 2期
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NH3 温 选 择 性 催化 还 原 NO 的研 究 低
吕 林 ,沈 颖 倩
( 武汉 理工 大学 能 源 与动 力 工 程 学 院 ,武 汉 4 0 6 ) 3 0 3
摘
要 :在 固定床反应器 中,利用 瞬态 响应技术 和程 序升温技术研究 了低温时 N H 选择性催化还原 (C ) O 的瞬 S RN
态 动 力 学 及 V O一 J i 化 剂 活性 的影 响 因素 ,试 验 结 果 表 明 :0 的体 积分 数增 大 ,N 转 化 率 增 大 ;H0 的存 WO TO 催 O
在抑制 了 N O的转化率 ;S O 的存在提高了 N O的转化 率.低温 时,S R反应遵循 Ee— iel C l Rd a 机理 ,其反应速率依赖 y 于催化剂表面的 N 盖度 ,但 当 N 盖度 大于 N “ H覆 H覆 H 临界 ”覆盖度时 ,则与 N H 覆盖度无关 .
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