等离子体所等利用功能化石墨烯材料去除持久性有机污染物

等离子体所等利用功能化石墨烯材料去除

持久性有机污染物

但在国家政策和萤石资源的预期下,萤石价格逐步攀

升,开始引发诸多上市公司对萤石矿的疯狂争夺.

9月15日,永太科技(002326)发布公告:公司以自

有资金9800万元收购海南鑫辉矿业有限公司(下称鑫辉矿

业)70%的股权.自今年下半年以来,这已是第三家上市公

司收购萤石矿,但其间价格泡沫也油然而生.

为何一夕之间会有如此多的上市公司高价收购萤石

矿?

永太科技证券办一位人士告诉记者,收购目的主要是

通过对上游萤石矿的整合来保证公司原材料的稳定供应.

"公司属于氟精细化工行业,萤石是氟化工主要原料,现在

萤石价格上涨厉害,早点收购上游矿产对企业来说不是坏

事."

由于萤石储采比下降,欧美等主要萤石消费国家和地

区萤石资源枯竭,萤石价格自去年初开始一路攀升.记者从

中国萤石专业委员会获得的数据显示,2009年10月,萤石

粉块矿出厂价为每吨1000元左右,截至今年8月底,该出

厂价已攀升到2900元至3000元之间,近两年涨幅几乎达到

2倍."正是基于这个原因,下游的氟化工企业都开始向上

游收购矿产."银河证券研究员胡昂告诉记者.

等离子体所等利用功能化石墨烯材料去

除持久性有机污染物

日前,中科院合肥物质科学研究院等离子体所低温等

离子体应用研究室王祥科研究员和中科院化学研究所胡文

平研究员合作,成功制备出分散性均匀的功能化石墨烯材

料并对该材料进行磺酸化处理,实现了对持久性有机污染

物的有效去除.

石墨烯材料具有独特的物理化学性质,石墨烯与有机

污染物之间可以形成非常强的络合能力,因而可以吸附有

机污染物.但是由于石墨烯在溶液中易团聚,其吸附能力遭

到降低.经过大量实验研究,王祥科,胡文平研究员发现,

在石墨烯表面进行磺酸基功能化处理,可以提高石墨烯的

分散性,进而提高石墨烯的吸附能力.这种功能化石墨烯对

萘和萘酚的吸附能力达到了2.4毫摩尔/克,是目前所有材

料中吸附能力最高的材料.此外,王祥科研究员还介绍说,

对石墨烯进行氧化处理,在其表面修饰含氧功能基团后,即

可以很好的吸附金属离子.

值得一提的是,课题组在制备石墨烯纳米材料研究中,

利用等离子体技术可以直接在石墨表面剥离制备石墨烯,

不需要化学试剂,可简化制备过程,且该过程是环境友好

的.目前,该种材料的制备成本较高,但随着技术的发展,

将有望实现低成本,规模化制备,因此在未来的环境污染治

理中有非常重要的应用前景.

相关研究工作论文发表在材料领域期刊先进材料(AdvancedMaterials)上.此项研究得到国家自然科学

基金,科技部973课题和中国科学院的资助.

CIGC:石墨烯将在2024年取代CMOS

半导体技术

CMOS半导体技术将在2024年7nm制程时代面临窘

境,而石墨烯可望脱颖而出,成为用来取代这项技术的最佳

选择一一这是根据近日于美国加州举行的IEEE定制积体电路大会(CICC)一场专题演讲上所发表的看法.

"石墨烯已经展现出最终将取代矽晶微型晶片的多种可

能了,但我个人认为最早还要再过十年,直到矽晶材料达到极限以后,我们才会看到石墨烯应用出现."美国乔治亚理工学院(GeorgiaInstituteofTechnology)电子与电脑工

程学教授JamesD.Meindl表示.他同时也是该校纳米

技术研究中心的创始总监,该研究中心致力于石墨烯的研究已有五年之久了.

在2024年时,矽晶MOSFET在可制造的通道长度

以及可支援的绝缘闸厚薄方面将会达到瓶颈,Meindl援引国际半导体技术蓝图(ITRS)的预测表示.

在成为取代CMOS的替代材料之前,石墨烯也面临着

许多挑战."我们必须在石墨烯薄片上制造出数十亿个电晶体,但我们目前所能制造的电晶体数量极少,"Meindl说.

英国曼彻斯特大学(UniversityofManchester)的研

究人员们在2004年的一项研究中发现了这种新材料.这项获得诺贝尔奖(NobelPrize)的研究贡献在于找到了一种可制造单层碳原子的新方法.

Meindl回想,"当时没有人认为可以做到这一点,但

对于让单层碳原子以六角形蜂巢晶格完美排列后所能实现的应用来说,那其实只是一个起点."

截至目前为止,研究人员们已经发现了至少两种可用

于制造石墨烯的技术了.他们还在这种材料中制造出一些"相当粗糙"的有效电晶体.

l中国粉体工业2011No.5