靶材行业产业格局与市场规模分析

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图 12：FPD 技术路线
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图 13：全球 FPD 市场结构
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图 14：国内 FPD 市场结构
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图 15：全球 FPD 需求规模（单位：百万㎡）
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图 16：FPD 用靶材国内市场规模
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图 17：光伏电池分类
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图 18：光伏电池用靶材形成背电极
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图 19：HIT 电池成本结构
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图 20：HIT 工艺链条
②靶材制造
③溅射镀膜
④终端应用
半导体芯片 平板显示器 太阳能电池
信息存储
光学应用
数 据 来 源 ：江丰电子，财通证券研究所
半导体领域对靶材要求最高。WSTS（全球半导体贸易统计组织）数据显示，溅射 靶材主要应用在平板显示、记录媒体、光伏电池、半导体等领域。其中，在溅射 靶材应用领域中，半导体芯片对溅射靶材的金属材料纯度、内部微观结构等方面 都设定了极其苛刻的标准，需要掌握生产过程中的关键技术并经过长期实践才能 制成符合工艺要求的产品。因此，半导体芯片对溅射靶材的要求是最高的，价格 也最为昂贵。
2. 市场空间：LCD 和 OLED 双轮驱动
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4、 光伏电池用靶材
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5、 行业投资逻辑
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1. 大基金二期加持，加速产业发展
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2. 免税政策取消，支撑国产靶材快速成长
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3. 国产替代，大势所趋
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6、 主要上市公司
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1. 有研新材
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2. 江丰电子
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3. 隆华科技
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4. 阿石创
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图表目录
数 据 来 源 ：《溅射靶材发展概述》，财通证券研究所
溅射靶材主要由靶坯、背板等部分构成，其中，靶坯是高速离子束流轰击的目标 材料，属于溅射靶材的核心部分。在溅射镀膜过程中，靶坯被离子撞击后，其表 面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成电子薄膜；由于高纯度金属强度较低， 而溅射靶材需要安装在专用的机台内完成溅射过程，机台内部为高电压、高真空 环境，因此，超高纯金属的溅射靶坯需要与背板通过不同的焊接工艺（行业俗称 绑定技术）进行接合，背板起到主要起到固定溅射靶材的作用，且需要具备良好 的导电、导热性能。 溅射镀膜是制备薄膜的主要技术之一，综合优势显著。PVD 镀膜目前主要有三种 形式，分别是溅射镀膜、蒸发镀膜以及离子镀膜。综合而言，蒸镀薄膜的密度最 差，只能达到理论密度的 95%，镀膜的附着力也最差，但是蒸镀的镀膜速率最快。 离子镀不但密度最高、晶粒最小，而且镀膜与基板的附着力也是三种镀膜中最大 的，只是离子镀膜最大的缺点是基板必需是导电材料，并且镀膜时基板的温度会 升高到摄氏几百度，上述的缺点使离子镀的应用受到很大的限制。目前，溅射是 制备薄膜材料的主要技术之一，用溅射靶材沉积的薄膜致密度高，与基材之间的
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图 21：HIT 电池结构
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图 22：光伏电池用靶材市场规模预测
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图 23：大基金一期投资领域
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图 24：大基金二期股东结构
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图 25：靶材进口相关税率
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图 26：中国进口货物金额排名
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图 27：有研亿金历年净利润（单位：万元）
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图 28：江丰电子业绩概况
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图 29：四丰电子历年业绩（单位：万元）
内容目录
1、 靶材概况
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1. 产业链条
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2. 制造工艺
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3. 产业格局
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4. 产业政策
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2、 半导体用溅射靶材
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1. 更小制程，利好铜钽靶材
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2. 供应格局：国产靶材定点突破
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3. 供应商认证：周期漫长，标准苛刻
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4. 市场规模
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3、 平板显示用靶材
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1. 竞争格局：定点突破重点品种
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3
附着性好，所以从理论而言，溅射镀膜的性质，牢固度都比热蒸发和电子束蒸发 薄膜好。
表 1：三种真空镀膜方式对比
方式 粒子能量 eV
蒸发镀膜 通过在真空中加热蒸发某种 物质使其产生金属蒸气沉积 （凝聚）在固体表面成为薄 膜 0.1-1
镀膜理论密度
95%
晶粒大小
大
膜附着力
小
镀膜速率 nm/min
0.1-75
数 据 来 源 ：《溅射靶材种类、应用与发展趋势》，财通证券研究所
1.1 产业链条
靶材产业链：溅射靶材产业链基本呈金字塔型分布。产业链主要包括金属提纯、 靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环节。其中，靶材制造和溅射镀膜环节是整个 溅射靶材产业链中的关键环节。
图 2：高纯靶材产业链
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①金属提纯
高纯溅射靶材产业链
图 1：溅射示意图
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图 2：高纯靶材产业链
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图 3：溅射靶材应用结构
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图 4：靶材生产工艺流程
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图 5：靶材市场主要企业份额
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图 6：国内靶材企业
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图 7：半导体靶材溅射原理图
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图 8：半导体用金属靶材
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图 9：半导体制造材料成本结构
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图 10：半导体用靶材市场规模预测（单位：亿元）
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图 11：铜靶、8.5 代线的铝条靶、钼条靶和 5.5 代线用宽幅钼靶
数 据 来 源 ：《真空镀膜概述》，财通证券研究所
溅射镀膜 用高能粒子轰击固体 表 面时能使固体表面 的粒 子获得能量并 逸面，出沉表积在基片上
1-10
离子镀膜
蒸发物质的分子被电 子碰撞电离后以离子 沉积在固体表面
＞10
98%
98%
小
非常小、非晶质
中
大
0.01-0.5
0.1-50
表 2：靶材分类
序号
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表 9：平板显示用靶材的国内外供应商
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表 10：国内靶材企业下游面板客户
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表 11：国内面板厂商产能规划情况
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wenku.baidu.com
表 12：全球 OLED 产线产能
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表 13：靶材行业主要公司概况
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2
1、 靶材概况
靶材：溅射薄膜制备的源头材料，又称溅射靶材，特别是高纯度溅射靶材应用于 电子元器件制造的物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）工艺，是 制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。真空状态下，用加速 的离子轰击固体表面，离子和固体表面原子交换动量，使固体表面的原子离开固 体并沉积在基底表面形成所需要的薄膜，这一过程称为溅射。被轰击的固体是用 溅射法沉积薄膜的源材料，通常称为靶材。 图 1：溅射示意图
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图 30：晶联光电生产的 ITO 靶材
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图 31：阿石创业绩概况
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表 1：三种真空镀膜方式对比
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表 2：靶材分类
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表 3：靶材应用细分情况
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表 4：靶材生产工艺对比
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表 5：历年来靶材相关行业政策
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表 6：半导体用靶材简介
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表 7：国内外半导体用靶材供应商简介
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表 8：不同材质靶材在平板显示的应用
分类标准 产品类别
1
按形状分类 长靶、方靶、圆靶
按化学成份分 金属靶材（纯金属铝、钛、铜、钽等）、合金靶材（镍铬合金、镍钴合金等）、
2
类
陶瓷化合物靶材（氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等）
按应用领域分 半导体芯片靶材、平面显示器靶材、太阳能电池靶材、信息存储靶材、工具
3
类
改性靶材、电子器件靶材、其他靶材