GaAs InGaAs异质结构纳米线定向生长的研究进展

Optoelectronics 光电子, 2020, 10(1), 8-17

Published Online March 2020 in Hans. /journal/oe

https:///10.12677/oe.2020.101002

Research Progress on GaAs/InGaAs

Heterostructure Nanowires

Directional Epitaxy Growth

Lina Zeng, Lin Li*, Zaijin Li, Zhongliang Qiao, Yi Qu, Hongyan Peng

College of Physics and Electronics Engineering, Hainan Normal University, Haikou Hainan

Received: Feb. 12th, 2020; accepted: Feb. 26th, 2020; published: Mar. 4th, 2020

Abstract

Semiconductor nanowires (NWs) have potential applications in optoelectronic devices such as semiconductor lasers, nanowire-field effect transistors, solar cells and infrared photodetectors, and have consequently become a topic of intense research due to the direct bandgap and high car-rier mobility of these materials. Most of the research institutions in the world study the direction-al growth of nanowires based on nano-patterned substrate. However, it is difficult to obtain high-quality GaAs/InGaAs heterostructure nanowires due to the nanosize patterned effects. We introduce the performance advantages and development status of the GaAs/InGaAs heterostruc-ture nanowires. The research progress of directional epitaxy growth and luminescent properties of GaAs/InGaAs heterogeneous nanowires is reviewed, and its technical difficulties and develop-ment prospects are discussed.

Keywords

Semiconductor, Nanowires, Epitaxial Growth

GaAs/InGaAs异质结构纳米线定向生长的

研究进展

曾丽娜，李林*，李再金，乔忠良，曲轶，彭鸿雁

海南师范大学，物理与电子工程学院，海南海口

收稿日期：2020年2月12日；录用日期：2020年2月26日；发布日期：2020年3月4日

*通讯作者。

曾丽娜 等

摘

要

GaAs/InGaAs 异质结构纳米线具有直接带隙、载流子迁移率高等优点，在半导体激光器、场效应晶体管、太阳能电池及红外光探测器等光电子器件领域具有广阔的应用前景，受到国内外广泛关注。目前，研究机构大多数基于纳米图形的纳米线定向生长研究，但由于图形的纳米尺寸效应，导致GaAs/InGaAs 柱状纳米线生长质量变差。本文介绍了GaAs/InGaAs 异质结构纳米线的性能优势和发展现状，综述了GaAs/InGaAs 异质结构纳米线定向外延生长及其发光特性的研究进展，讨论了其技术难题及发展前景。

关键词

半导体，纳米线，外延生长

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1. 引言

由于半导体纳米线具有高表面–体积比特性，适合于制备光电集成器件，在新一代光电子材料与器件领域具有广阔的应用前景，成为国内外研究的热点之一，受到了研究机构密切关注和研究[1]-[13]。其中III~V 族GaAs/InGaAs 纳米线因其具有窄带宽、复合中心少、载流子迁移率高、量子效率高、漏电流小和抗辐射等优点，在半导体激光器[1] [2] [3] [4] [5]、场效应晶体管[6] [7] [8] [9]、太阳能电池[10] [11] [12]及红外光探测器[13]等光电子器件领域更具有实际应用价值。然而，纳米线在外延生长过程中，由于In 原子不稳定且迁移长度大于Ga 原子，In 原子向邻近的纳米线迁移扩散，以及GaAs/InGaAs 异质结构柱状纳米线晶格失配引起的应变和位错等原因，导致纳米线生长质量变差，表面显微形貌难以得到有效控制，常出现“锥形”、“扭折”、“细丝状”等现象[14]-[19] [23]-[28]。这些成为纳米图形GaAs/InGaAs 异质结构纳米线定向生长的主要因素。近几年研发纳米图形的GaAs/InGaAs 异质结构柱状纳米线定向生长已经成为国内外光电子领域研究的前沿和热点，研发机构大多数都基于纳米图形的GaAs/InGaAs 异质结构柱状纳米线定向生长研究，但由于图形的纳米尺寸效应，外延生长机理复杂的原因，导致GaAs/InGaAs 异质结构纳米线生长质量变差，难以获得高质量GaAs/InGaAs 异质结构柱状纳米线。

2. GaAs/InGaAs 纳米线国内外研究现状

由于半导体纳米线在新一代光电子材料与器件领域具有广阔的应用前景，成为国内外研究的热点之一，受到了研究机构密切关注和深入的研究。澳大利亚国立大学的Yong Kim 等人[17]研究了利用金属有机化学气相沉积设备(MOCVD)在GaAs(111)B 衬底上外延生长Au 催化GaAs/InGaAs 纳米线的生长质量和显微形貌特性。图1(a)为样品的扫描电子显微镜(SEM)图，实验结果表明纳米线的密度和尺寸会影响纳米线的锥形程度和表面显微形貌；图1(b)表明了不同区域GaAs/InGaAs 纳米线的发光特性具有明显差异。出现这种现象的主要原因是：由于In 、Ga 原子在GaAs(111)B 衬底上的迁移长度不同，In 原子的迁移长度大于Ga 原子，因此控制GaAs/InGaAs 纳米线的In 组分和均匀性非常困难，In 组分越高难度就越大。还由于参与反应的邻近纳米线原子间的迁移和吸附等原因，造成了相邻纳米线之间的In 组分不同，低密度的纳米线中In 的组分很高。因而在GaAs/InGaAs 纳米线的外延生长过程中，如何限制In 原子在邻近