不同电镀参数组合对电镀填孔效果影响研究
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摘 要
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电镀填孔存在填孔爆发期 ,即在填孔爆发期 内盲孔底 部和面铜 的电沉积速率之 比逐渐
达到最 大值 ,其 中电流密度对填孔爆发 期以及爆发前后 盲孔 内外铜层 的电沉积速率 变
化有较 大影响 ,若能 了解其规律可帮助优化 电镀 参数 ,以期望缩短 电镀填孔 时间,获 得较好填孔效果。在不同电流密度及盲孔孔径下,电镀填孔不同时期 ( 初始期、爆发期、
L l 电镀 Pai 化 lt g n
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不 同电镀参数组合对 电镀填孑 效果影 响研 究 L
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( 州兴 森快捷 电路 科技 有 限公 司 ,广 东 深 圳 5 8 5 广 1 0 4)
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研 究 的热 门话 题ll。 1] _ 2
众 所 周 知 ,实 现 电镀 填 充 盲 孔 有 赖 于超 等角 电
沉 积 模 式 的 存 在 , 它 是实 现 成 功 有 效 封 孔 行 为 的前 提 ,业界 称为 S p rFln 或Botm—pFln ,其 本 u e i ig l t u iig o l 质 是 铜 在 微 盲 孔 底 部 的 电沉 积 速 率 大 于 微 孔 表 面 的 沉 积 速 率 ( 意 图见 图 1 。超等 角沉 积 过 程 中添 加 示 ) 密 度 互 联 , 采用 将 盲 孔 用 电镀 铜 填 平 的 方法 进行 层
o ir - i n u f c e c dt em a i u tt ec re t e i v mp ra t fe t n t eee tia f c o v aa d t s ra er a he xm m i i,h u r n nst ha eai o tn m he h n d y e c h lcrc l o d p st n rt ft e b to n h u f c . fwe k o t e ee tia e o i o ae i h x l so tp .we e o ii ae o ot m a d t e s ra e I n w h l crc ld p st n r t n t e e p o i n se s o h i c n u e i o o t ie t e p ai g pa a ee ,s o t n t a i g tm efn l a te ir v a fli g a s tt p i z h ltn r m tr h re hepltn i , a l h ve abetrm c o i ln .Th m i y i e d ai n o if rn ro n va fl n r c s n h lcrc ld p ii n r t ft ebot m nd t u fc urto fd fe e tpe idsi i l g p o e sa d t e ee tia e osto ae o h to a he s ra e i i
末期 ) 持续 时间以及填孔过程中盲孔底部 、面铜 电沉积速率的变化规律 ,并在 不同填孔
时间段 内使 用不同电镀参数进行 电镀填孔。研 究表明:在 电镀填孔 不同时期采用 不同电 镀参数组合 ,能缩短电镀填孔时间,获得较好盲孔填平效果 。
关键词 电镀填孑 ;盲孔 ;电流密度 ;爆发期 L
CUIZh n da XI T a h a LIZh — 规 e g- n E i n— u ido g
A bs r ct ta M ir v afl n x s x l so tp , h o o to ft eee tia e o iin r t ft eb t m c o i l ge ite p o in se s t epr p ri no l crc l p st aeo o t i i h d o h o