植物内生菌分离处理方法
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d植物内生菌分离处理方法
文献材料前处理第一次消毒第二次消毒(含三
消)
处理对照培养基
刘明志,2011 南方红豆杉
的老树皮、幼
茎、叶
截成2~3 cm长的
小段,去除树皮层
75%酒精中浸泡30
s
0.1%升汞溶液浸泡
8 min,无菌水冲洗
3~5次
研磨成匀浆液,倾
倒于PDA上
切成0.5 cm左右的
块,接种于有100 mg L
-1青霉素和链霉素的
PDA固体培养基表
面。每皿10块
刘金花2011 黄花蒿的根,
茎,叶
叶切成1cm2,茎和
叶切成1cm左右小
段(两端皆有切口)
将根,茎,叶一次
用75%酒精浸
1min
1%的次氯酸钙溶液
浸泡1min,用无菌水
冲洗5次
置于含双抗的V A
培养基平板培养
待切口处长出菌落后
转至PDA培养基进行
内生真菌的分离
宋培勇2011 珙桐茎、叶和
叶柄
将采集的新鲜珙桐
的茎、叶和叶柄分
别用流水冲洗, 风
干表面水分, 剪成
小块或小段,
无菌水漂洗2 次
75%酒精浸泡 1
min
再用2%
NaClO 溶液中浸泡
3 min, 转入75%酒
精中浸泡30 s,
接着用无菌水漂洗
3 次,
取最后一次漂洗液涂布
NA 平板作为对照
平放于NA 平板上,
28 °C培养2−3 d
孙传伯2011 台湾7303毛
豆全株
采回的样本用自来
水洗净, 并用无菌
纸吸干水分, 并用
无菌纸吸干水分,切
取支根110 cm长的
小段, 须根切成
115 cm的小块
用75% 酒精浸泡
5m in、7m in、10m
in
分别用0.1% 升汞
溶液处理4 m in、6
m in、8 m in进行表
面灭菌,此试验分别
重复3次。最后用
无菌水冲洗4次,。
最后用无菌水冲洗
4次
将组织块在研钵
中充分研磨成匀
浆
最后一次冲洗液涂3种
不同培养基平板, 26~ 28e
下培养2~ 3d, 筛选出最
佳消毒时间和培养基, 将
表面消毒彻底棉花根部
切块放入灭菌研钵中用
无菌水冲洗4次,取上清
液涂抹于培养基上。以无
菌水冲洗为对照试验。
取上清匀浆涂抹于3
种不同培养基上, 取
匀浆涂布于不同培养
基平板, 每浓度重复
3次, 然后将培养皿置
于26~ 28e 恒温箱中
培养2~ 3d, 观察培养
出的菌落形态
张鑫2011 植物圣罗勒
的健康
叶子
将叶子用流水冲洗
10 min
1% 的次氯酸
钠中浸泡10
min
0.02 mol / L、pH
7.0 的无菌磷酸
钾缓冲液( PB) 漂
洗
4 次
加无菌水将材料
研磨
涂布培养
李铭, 2011 石耳目地衣为了诱导产孢,黑化菌
株在光照/黑暗( 12 h∶
12h) 条件下,于2%的
PDA
培养基上,18℃下培
养 3 个月
刘杰凤2011 健康的小白
菜,染病的小
白菜根,茎,
叶
流水冲洗干净,剪
成小段
75%酒精中浸泡3
min
10%次氯酸钠浸泡
茎为8 min,根和叶
由于气孔较茎大,
浸泡5 min即可,然
后用无菌水浸泡多
次,每次3 min
无菌条件下用适
量的
PBS
缓冲液捣碎
以最后一次的漂洗液作
对照
,30 ℃
下培养
一个星期
搅拌后静置3 min,取
上清液0.5 mL分别
涂布于分离培养基平
板上,每种材料做3
次平行
朱士茂2011 新采集的银
杏枝条,叶子
和根
在自来水中冲洗干
净,然后将枝条和
根截成 3 -4cm
长,将叶子和叶柄
分开,分别将根,
枝,叶放在不同的
灭菌后的广口瓶中
(一),根的表面
灭菌: 0. 1%的土温
20 消毒1min,无
菌蒸馏水冲洗 2
次。
(二)枝,叶和叶
柄:75% 的乙醇
消毒30s,无菌蒸
馏冲洗3 次
(一),根:75%的乙
醇消毒30s,无菌蒸
馏水冲洗 2 次,0.
1% 升汞消毒
5min,无菌蒸馏水
冲洗 5 次。
(二)枝,叶和叶柄:
0. 1% 升汞消毒
7min,无菌蒸馏水
冲洗 5 次
茎,将其表皮剥
离,用无菌小刀纵
切表皮取其中间
的部分,然后将其
切成0. 5cm ×0.
5cm 大小
叶和叶柄,用研钵
将叶磨碎( 内放
石英砂和生理盐
水) 然后用无菌
移液管吸取0.
2ml 放入培养皿
中
①将以上接入的每种平
皿按相同的方法接入
5min 后用无菌镊子取
出;②用无菌蒸馏水冲洗
已表面灭菌后的材料,然
后将此液体移入培养基
中,培养观察。
KB 培养基:
PL 培养基:
PDA 培养基:
肖淑贤2011. 长势好、无病
害的植株
在自来水中冲洗干
净
采用升汞、乙醇、
H2O2、次氯酸钠等
表面消毒剂进行消
毒,无菌水冲洗
直接切取植物组
织或榨取植物组
织汁液稀释
王剑峰2011 取生长15
天马铃薯
无表面灭菌方法马铃薯内生菌单菌落
的分离取生长15 天
马铃薯LK99 组培苗,
剪成长度约 1.0 cm
的带腋芽茎段接种于
PSA 培养基上,分别于
光下(28℃、2200Lx、
16hr 光/8hr 黑暗)或
28℃暗培养,3 天后光