氟化锂晶体的研究进展_范志达

　第29卷第4期 硅　酸　盐　通　报

V o l .29　N o .4　2010年8月 B U L L E T I N O F T H E C H I N E S E C E R A M I C S O C I E T Y A u g u s t ,2010　氟化锂晶体的研究进展

范志达1,王强涛1,2,尹利君1,陈　刚1,刘景和2,李　春2,何庭秋1

(1.烁光特晶科技有限公司,北京100018;2.长春理工大学材料科学与工程学院,长春　130022)

摘要:随着真空紫外光学技术的发展,在深紫外波段透过率最高、截止波段最短的氟化锂晶体重新引起人们的关

注。本文结合L i F 晶体本身的物理化学性质,综述了氟化锂原料制备工艺、晶体生长方法的研究进展及存在的问

题。以提高氟化锂光学元件质量为出发点,总结了原料纯化、晶体生长、加工工艺对光学元件质量的影响和有效的

解决措施。

关键词:氟化锂晶体;光学元件;晶体生长

中图分类号:O 78 文献标识码:A 文章编号:1001-1625(2010)04-0893-05

R e s e a r c hP r o g r e s s o f L i FC r y s t a l

F A NZ h i -d a 1,W A N GQ i a n g -t a o 1,2,Y I NL i -j u n 1

,

C H E NG a n g 1,L I UJ i n g -h e 2,L I C h u n 2,H ET i n g -q i u

1(1.B r i g h t C r y s t a l s C o .,L t d .,B e i j i n g 100018,C h i n a ;2.S c h o o l o f M a t e r i a l s S c i e n c ea n dE n g i n e e r i n g ,

C h a n g c h u n U n i v e r s i t y o f S c i e n c e a n dT e c h n o l o g y ,C h a n g c h u n 130022,C h i n a )

作者简介:范志达(1971-),高工.主要从事人工晶体的研究.E -m a i l :f a n z h i d a @s i n a .c o m

A b s t r a c t :W i t h t h e d e v e l o p m e n t o f v a c u u mu l t r a v i o l e t o p t i c a l t e c h n o l o g y ,L i t h i u mf l u o r i d e (L i F )c r y s t a l w i t h t h e h i g h e s t t r a n s m i t t a n c e a n d s h o r t e s t c u t -o f f b a n da t D U Vw a v e l e n g t h s c a t c h e dp e o p l e 's a t t e n t i o n a g a i n .C o m b i n e dw i t ht h e p h y s i c a l a n dc h e m i c a l p r o p e r t i e s o f c r y s t a l i t s e l f ,t h e p r o g r e s s a n de x i s t i n g p r o b l e m s o f r a wm a t e r i a l p r e p a r a t i o n ,c r y s t a l g r o w t h t e c h n o l o g y w e r e s u m m a r i z e d .I n o r d e r t o e n h a n c e t h e q u a l i t y o f L i Fo p t i c a l e l e m e n t s ,w e d i s c u s s e d t h e i n f l u e n c e o f f e e d s t o c k s p u r i f i c a t i o n ,c r y s t a l g r o w t h a n d p r o c e s s t e c h n i c s ,a n d p o i n t e d o u t s o m e e f f e c t i v e w a y s t o i m p r o v e i t .

K e y w o r d s :l i t h i u m f l u o r i d e c r y s t a l ;o p t i c a l e l e m e n t ;c r y s t a l g r o w t h

1　引　言

L i F 晶体是一种优良的光学晶体材料,具有较宽的透射波段(110～6,600n m )和较高的透过率,特别需要指出的是L i F 晶体在真空紫外波段的透过率是已知材料中最高的[1],因而被用作紫外波段的窗口材料。在红外波段L i F 晶体的折射率最小,因而常被用作红外激光、红外夜视仪的窗口材料。通过L i F 晶体着色可获得色心比较稳定、均匀的L i F 色心激光晶体,其具有很好的光谱特性,是最有前途的飞秒脉冲激光器和近红外可调谐激光器[2-4]。L i F 晶体还是电子探针、荧光分析仪和大型光学仪器中不可缺少的分光晶体元件。

真空紫外(V a c u u mU l t r a v i o l e t ,简称V U V )是指电磁波谱区在10～200n m 的紫外波段,源于空气对该波段有强烈的吸收作用而只能在真空条件下使用。在激光和光刻技术中,深紫外(D e e p U l t r a v i o l e t ,简称D U V )指紫外线中低于300n m 的波段[5,6]。

随着人们对真空紫外波段理论和应用研究的日益深入,科学实验和工业发展对深紫外激光器、真空紫外