(完整版)透射电镜TEM分析
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50nm) • 1939年,德国西门子公司生产出第一批商用透射电镜
(点分辨率10nm) • 1950年 ,开始生产高压电镜(点分辨率优于0.3nm,
晶格条纹分辨率由于0.14nm) • 1956年 ,门特(Menter)发明了多束电子成像方法,开
创了高分辨电子显微术, 获得原子象。
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表面与材料实验室
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5
与光学显微镜的比较
• 光学显微镜的分辨率不可能高于200nm,限制因素是光波 的波长。
• 加速电压为100 KV的电子束的波长是0.0037nm。最小分 辨率可达0.002nm左右,因此,电子波的波长不是分辨率 的限制因素。球差和色差是分辨率的主要限制因素。
• 透射电镜可以获得很高的放大倍数150万倍。可以获得原 子象。
• 对于透射电镜常用的加速电压100KV,如果样品是金 属其平均原子序数在Cr的原子附近,因此适宜的样品 厚度约200纳米。
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13
样品制备
• 对于块体样品表面复型技术和样品减薄技术是制 备的主要方法。
• 对于粉体样品,可以采用超声波分散的方法制备 样品。
• 对于液体样品或分散样品可以直接滴加在Cu网 上;
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10
成像部分
• 样品室位于照明部分和物镜之间,一般还可以配置加 热,冷却和形变装置。
• 物镜是最关键部分,透射电镜分辩本领的好坏在很大 程度上取决于物镜的优劣。物镜的最短焦距可达 1mm , 放 大 倍 率 ~ 300 倍 , 最 佳 理 论 分 辨 率 可 达 0.1nm,实际分辨率可达0.2nm。
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11
真空部分
• 为了保证电子运动,减少与空气分子的碰撞,因此所有 装置必须在真空系统中,一般真空度为10-2~10-4Pa。
• 利用场发射电子枪时,其真空度应在10-6-10-8Pa左右。 • 可采用机械泵,油扩散泵,分子泵等来实现。 • 目的:延长电子枪的寿命,增加电子的自由程,减少电
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14
表面复型技术
• 所谓复型技术就是把金相样品表面经浸蚀后产生的显微组 织浮雕复制到一种很薄的膜上,然后把复制膜(叫做“复 型”)放到透射电镜中去观察分析,这样才使透射电镜应 用于显示金属材料的显微组织有了实际的可能。
• 常见的复型: 塑料一级复型,碳一级复型,塑料碳二级 复型,萃取复型。
• 加在物镜前的光阑称为物镜光阑,主要是为了缩小物 镜孔径角的作用。
• 加在物镜后的光阑称为衬度光阑,可以提高振幅衬度 作用。此外在物镜极X附近还装备有消象散器和防污染 装置。
• 中间镜和投影镜和物镜相似,但焦距较长。主要是将 来自物镜的电子象继续放大。
• 目前可以采用CCD成像,不再需要照相系统了
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8
透射电镜的结构
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9
TEM的结构
• 主要由照明系统,样品室,成像系统,图像观察 和记录系统组成。
• 其中照明系统主要由电子枪和聚光镜组成。 • 成像部分主要由样品室,物镜,中间镜和投影镜
等装置组成。 • 图像观察和记录系统:主要由荧光屏,照相机,
数据显示等部件组成。
裂或畸变; • 必须具有良好的导电性,耐电子束轰击;
• 最好是分子尺寸较小的物质---分辨率较高。
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16
塑料-碳二级复型技术
子与残余气体分子碰撞所引起的散射以及减少样品污染。 • 新型电镜均采用机械泵,分子泵系统
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12
样品制备
• 透射电子显微镜利用穿透样品的电子束成像,这就要 求被观察的样品对入射电子束是“透明”的。
• 电子束穿透固体样品的能力主要取决于加速电压和样 品的物质原子序数。
• 一般来说,加速电压越高,样品原子序数越低,电子 束可以穿透样品的厚度就越大。
• 随着纳米材料的研究,TEM研究重点转向粉体材料;
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制备复型的材料特点
• 本身必须是“无结构”的(或“非晶体”的),也就是 说,为了不干扰对复制表面形貌的观察,要求复型 材料即使在高倍(如十万倍)成像时,也不显示其 本身的任何结构细节。
• 必须对电子束足够透明(物质原子序数低); • 必须具有足够的强度和刚度,在复制过程中不致破
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6
放大原理பைடு நூலகம்
• 透射电子显微镜中,物镜、中间镜,透镜是以 积木方式成像,即上一透镜的像就是下一透镜 成像时的物,也就是说,上一透镜的像平面就 是下一透镜的物平面,这样才能保证经过连续 放大的最终像是一个清晰的像。
• 在这种成像方式中,如果电子显微镜是三级成 像,那么总的放大倍数就是各个透镜倍率的乘 积。
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7
透射电镜的放大倍数
• 总放大倍数M总=M物×M中×M投 • 物镜成像是分辨率的决定因素 • 物镜放大倍率,在50-100范围; • 中间镜放大倍率,数值在0-20范
围; • 投影镜放大倍率,数值在100-
150范围 • 总放大倍率在1000-200,000倍内
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3
透射电镜的基本原理
• 阿贝光学显微镜衍射成像原理同样适合于透射电子显微镜。不 仅可以在物镜的像平面获得放大的电子像,还可以在物镜的后 焦面处获得晶体的电子衍射谱,其成像原理图见图
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4
阿贝光栅成像原理
• 成像系统光路图如图所示。 • 当来自照明系统的平行电子束投射
到晶体样品上后,除产生透射束外 还会产生各级衍射束,经物镜聚焦 后在物镜背焦面上产生各级衍射振 幅的极大值。 • 每一振幅极大值都可看作是次级相 干波源,由它们发出的波在像平面 上相干成像,这就是阿贝光栅成像 原理。
透射电镜分析
透射电子显微镜在形貌分析上的应用
• 基本知识 • 透射电镜原理 • 透射电镜的结构 • 电子衍射原理 • 高分辨透射电镜 • 样品制备 • 材料应用
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2
基础知识
• 1924年,de Broglie提出波粒二象性 假说 • 1926年,Busch发现了不均匀的磁场可以聚焦电子束 • 1933年,柏林大学研制出第一台电镜(点分辨率达到
(点分辨率10nm) • 1950年 ,开始生产高压电镜(点分辨率优于0.3nm,
晶格条纹分辨率由于0.14nm) • 1956年 ,门特(Menter)发明了多束电子成像方法,开
创了高分辨电子显微术, 获得原子象。
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5
与光学显微镜的比较
• 光学显微镜的分辨率不可能高于200nm,限制因素是光波 的波长。
• 加速电压为100 KV的电子束的波长是0.0037nm。最小分 辨率可达0.002nm左右,因此,电子波的波长不是分辨率 的限制因素。球差和色差是分辨率的主要限制因素。
• 透射电镜可以获得很高的放大倍数150万倍。可以获得原 子象。
• 对于透射电镜常用的加速电压100KV,如果样品是金 属其平均原子序数在Cr的原子附近,因此适宜的样品 厚度约200纳米。
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样品制备
• 对于块体样品表面复型技术和样品减薄技术是制 备的主要方法。
• 对于粉体样品,可以采用超声波分散的方法制备 样品。
• 对于液体样品或分散样品可以直接滴加在Cu网 上;
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10
成像部分
• 样品室位于照明部分和物镜之间,一般还可以配置加 热,冷却和形变装置。
• 物镜是最关键部分,透射电镜分辩本领的好坏在很大 程度上取决于物镜的优劣。物镜的最短焦距可达 1mm , 放 大 倍 率 ~ 300 倍 , 最 佳 理 论 分 辨 率 可 达 0.1nm,实际分辨率可达0.2nm。
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11
真空部分
• 为了保证电子运动,减少与空气分子的碰撞,因此所有 装置必须在真空系统中,一般真空度为10-2~10-4Pa。
• 利用场发射电子枪时,其真空度应在10-6-10-8Pa左右。 • 可采用机械泵,油扩散泵,分子泵等来实现。 • 目的:延长电子枪的寿命,增加电子的自由程,减少电
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14
表面复型技术
• 所谓复型技术就是把金相样品表面经浸蚀后产生的显微组 织浮雕复制到一种很薄的膜上,然后把复制膜(叫做“复 型”)放到透射电镜中去观察分析,这样才使透射电镜应 用于显示金属材料的显微组织有了实际的可能。
• 常见的复型: 塑料一级复型,碳一级复型,塑料碳二级 复型,萃取复型。
• 加在物镜前的光阑称为物镜光阑,主要是为了缩小物 镜孔径角的作用。
• 加在物镜后的光阑称为衬度光阑,可以提高振幅衬度 作用。此外在物镜极X附近还装备有消象散器和防污染 装置。
• 中间镜和投影镜和物镜相似,但焦距较长。主要是将 来自物镜的电子象继续放大。
• 目前可以采用CCD成像,不再需要照相系统了
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8
透射电镜的结构
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9
TEM的结构
• 主要由照明系统,样品室,成像系统,图像观察 和记录系统组成。
• 其中照明系统主要由电子枪和聚光镜组成。 • 成像部分主要由样品室,物镜,中间镜和投影镜
等装置组成。 • 图像观察和记录系统:主要由荧光屏,照相机,
数据显示等部件组成。
裂或畸变; • 必须具有良好的导电性,耐电子束轰击;
• 最好是分子尺寸较小的物质---分辨率较高。
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塑料-碳二级复型技术
子与残余气体分子碰撞所引起的散射以及减少样品污染。 • 新型电镜均采用机械泵,分子泵系统
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12
样品制备
• 透射电子显微镜利用穿透样品的电子束成像,这就要 求被观察的样品对入射电子束是“透明”的。
• 电子束穿透固体样品的能力主要取决于加速电压和样 品的物质原子序数。
• 一般来说,加速电压越高,样品原子序数越低,电子 束可以穿透样品的厚度就越大。
• 随着纳米材料的研究,TEM研究重点转向粉体材料;
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制备复型的材料特点
• 本身必须是“无结构”的(或“非晶体”的),也就是 说,为了不干扰对复制表面形貌的观察,要求复型 材料即使在高倍(如十万倍)成像时,也不显示其 本身的任何结构细节。
• 必须对电子束足够透明(物质原子序数低); • 必须具有足够的强度和刚度,在复制过程中不致破
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6
放大原理பைடு நூலகம்
• 透射电子显微镜中,物镜、中间镜,透镜是以 积木方式成像,即上一透镜的像就是下一透镜 成像时的物,也就是说,上一透镜的像平面就 是下一透镜的物平面,这样才能保证经过连续 放大的最终像是一个清晰的像。
• 在这种成像方式中,如果电子显微镜是三级成 像,那么总的放大倍数就是各个透镜倍率的乘 积。
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透射电镜的放大倍数
• 总放大倍数M总=M物×M中×M投 • 物镜成像是分辨率的决定因素 • 物镜放大倍率,在50-100范围; • 中间镜放大倍率,数值在0-20范
围; • 投影镜放大倍率,数值在100-
150范围 • 总放大倍率在1000-200,000倍内
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透射电镜的基本原理
• 阿贝光学显微镜衍射成像原理同样适合于透射电子显微镜。不 仅可以在物镜的像平面获得放大的电子像,还可以在物镜的后 焦面处获得晶体的电子衍射谱,其成像原理图见图
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阿贝光栅成像原理
• 成像系统光路图如图所示。 • 当来自照明系统的平行电子束投射
到晶体样品上后,除产生透射束外 还会产生各级衍射束,经物镜聚焦 后在物镜背焦面上产生各级衍射振 幅的极大值。 • 每一振幅极大值都可看作是次级相 干波源,由它们发出的波在像平面 上相干成像,这就是阿贝光栅成像 原理。
透射电镜分析
透射电子显微镜在形貌分析上的应用
• 基本知识 • 透射电镜原理 • 透射电镜的结构 • 电子衍射原理 • 高分辨透射电镜 • 样品制备 • 材料应用
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基础知识
• 1924年,de Broglie提出波粒二象性 假说 • 1926年,Busch发现了不均匀的磁场可以聚焦电子束 • 1933年,柏林大学研制出第一台电镜(点分辨率达到