第四章异质结双极型晶体管.
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化合物半导体器件
4.2 HBT的增益
4.2.1 理想HBT的增益
共射极:
1
1 1 DEWB pE 0 DEWB N B 1 1 1 J nE D W N D W n B E E B E B0 EgE EgB N E Eg NE exp exp NB k0T N B k0T
化合物半导体器件
Compound Semiconductor Devices
微电子学院
戴显英
2013.9
化合物半导体器件
第四章
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异质结双极型晶体管
HBT的基本结构 HBT的增益 HBT的频率特性 先进的HBT
化合物半导体器件
4.1 HBT的基本结构
4.1.1 HBT的基本结构与特点 ①HBT:Heterojunctiong Bipolar Transistor,
化合物半导体器件
4.3 HBT的频率特性
4.3.2 开关时间τb
WB2 b 2Dn
例如,AlGaAs/GaAs开关晶体 管的τb : ①比合金扩散结晶体管快5倍 ②比Si BJT快8倍。
缓变基区HBT能带
减小τb的方法:组分渐变的基区(ν=μE )
化合物半导体器件
4.3 HBT的频率特性
4.3.3 宽带隙集电区
图4.2 (b) 渐变发射结HBT的能带图
化合物半导体器件
4.1 HBT的基本结构
4.1.3 缓变(渐变)发射结HBT
⑤频率特性:
fT 1 2 ( E B C d )
f max
1 1 fT f C 2 2
• τE为发射结电容充放电时间; • τB为渡越基区的时间; • τC为集电结电容的充放电时间; • τd为集电结耗尽层渡越时间(信号延迟时间)。 小信号下影响fT的主要因素:
图4.5 npn HBT中的载流子输运示意图
化合物半导体器件
4.2 HBT的增益
4.Biblioteka Baidu.3 HBT增益与温度的关系
图4.7 不同温度下SiGe HBT电流增益(β= IC/ IB ) 与集电极电流的关系
化合物半导体器件
第四章
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异质结双极型晶体管
HBT的基本结构 HBT的增益 HBT的频率特性 先进的HBT
a.突变发射结; b.缓变发射结; c.缓变发射结,缓变基区; d.突变发射结,缓变基区。
⑤HBT的特性:(与BJT 相比)
a.高注入比; b.高发射效率; c.高电流增益; d.高频、高速度。
HBT的典型结构图
化合物半导体器件
4.1 HBT的基本结构
4.1.2 突变发射结HBT ①器件特点:
基区渡越初始速度高
化合物半导体器件
4.3 HBT的频率特性
4.3.1 最大振荡频率fmax
f max
1 fT 1 2 fT f C 2 8 RbCc 1 2
fT
1 2 ( E B C d )
1 fC 2 RbCe
截止频率(特征频率)fT:共发射极电流增益为1(0dB)时 的频率 最大振荡频率fman:晶体管具有功率放大作用的极限频率, 即晶体管功率增益下降为1(输出功率=输出功率)时的频率。
异质结双极晶体管
②HBT的能带结构特点:
a.宽禁带的e区: 利于提高γ; b.窄禁带的b区: Eg小于b、c区; c.pn结: 异质的eb结; 同质或异质的cb结。
③HBT的基本结构
图4.1 npn HBT结构的截面图
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4.1 HBT的基本结构
4.1.1 HBT的基本结构与特点 ④HBT的典型异质结构:
好处: ①可阻止空穴从基区向集电区注入; ②增大了击穿电压; ③减小了漏电流。
图4.9 双异质结的能带(发射区和 集电区都采用宽带隙半导体)
化合物半导体器件
第四章
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异质结双极型晶体管
HBT的基本结构 HBT的增益 HBT的频率特性 先进的HBT
化合物半导体器件
4.4 先进的HBT
4.4.1 硅基HBT-SiGe HBT 1、SiGe HBT的优点 2、SiGe HBT的结构特点
SiGe HBT的缓变发射结 和缓变基区能带图
n-p-n Si/SiGe/Si HBT的器件结构
化合物半导体器件
4.4 先进的HBT
4.4.1 硅基HBT-SiGe HBT 3、应变Si1-xGex 材料的特性
若Δ Eg=0.2eV,与相同掺杂(NE/NB相同)的BJT相比,则 HBT的β 提高了2191倍
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1 J pE
4.2 HBT的增益
4.2.2 考虑界面复合后HBT的增益
1)发射结界面态的影响:引起复合电流Ir(在基区)
2)发射极电流Ie:Ie=In+Id+Ip 3)基极电流Ib:Ib=Ip+Id+Ir 4)收集极电流Ic:Ic=In-Ir 5)共射极增益:β =γ /1-γ ≈In/Id 6)复合电流的影响:
化合物半导体器件
4.1 HBT的基本结构
4.1.4 缓变发射结、缓变基区HBT
①缓变发射结: ②缓变基区: ③自建电场:
化合物半导体器件
4.1 HBT的基本结构
4.1.3 缓变发射结、缓变基区 4.1.4 缓变(渐变)HBT HBT
④速度过冲;⑤基区渡越时间;⑥电流增益; ⑦缓变基区的作用;⑧缓变基区的形成
②基区输运模型:
弹道式渡越
③晶格散射的影响: ④电流增益β:
高的β
⑤ΔEc:
应小于基区导带的 能谷差EL-EΓ
图4.2 (a) 突变发射结HBT的能带图图
化合物半导体器件
4.1 HBT的基本结构
4.1.3 缓变(渐变)发射结HBT
①电流输运:扩散模型 ②发射极电流: ③发射效率: ④电流增益:
EgE EgB N E Eg NE exp exp NB k T N k T 0 B 0
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4.1 HBT的基本结构
4.1.5 突变发射结、缓变基区HBT
①两个重要的影响因素: ②总的τB: ③ΔEC和ΔEgB要适中: ④νd与ΔEC和ΔEgB的关系 : ⑤电流增益:
化合物半导体器件
第四章
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异质结双极型晶体管
HBT的基本结构 HBT的增益 HBT的频率特性 先进的HBT