(偏差修正系统)

基准Pin 基准
Pulse motor感知 感知Sensor 感知
其它主要部件说明： 其它主要部件说明： mask chunk：进行完mask pre后吸住mask。 ： stage base： 承载Mask Chuck上边装配有XY驱动 ： 部,Set mark, Mask AA LED 脉冲电机： 脉冲电机：带动扇形齿轮,驱动Mask Chuck,YL和 YR的驱动电机的驱动方向和驱动量是相同的, 但驱动方向是相反的。使Mask Mark和Set Mark进行 精确对位 bar mirror ：反射激光干涉计发出的激光,从而检测 Mask Stage的位置 mask set mark ： 364mm的左右视场的中心.它 决定了mask原点
Theta Back side Motor Z2 Motor
Z1Moto r
Radial Inside Ring
X Slider
Z3 Motor
Theta Front side Motor
X轴 Y轴 及θ的Bar Mirror : 反射激光干涉 计发出的激光,从而检测CHUCK的位置
Plate Stage Base和Plate Chuck的位置关系： 和 的位置关系： 的位置关系
Plate chuck
2、结构与工作原理
Plate Chuck： ： 用来放玻璃的 地方，上面有 机械初对位 Sensor，用来探 测玻璃的位置， 还有吸真空的 Lift Pin和周边 Pin，用来吸附 Plate，使Plate 和Plate Chuck 一起运动。
Plate Chuck的实物照片 的实物照片
plate stage: 功能: 1在plate装着以后,对玻璃基板进行对位操作, 在完成对位操作以后,搭载plate与mask stage 做同步以及补偿运动,完成曝光 2测量照度的均匀性. 广义的plate stage 实际上包括plate stage base 和Plate stage chuck两个部分.在这里我 将把他们作为一个整体来总结.
补偿范围： 补偿范围：
驱动的冲程 理论位置(mm) 1 .6 m m 1 .4 ±0 .1 m m 1m m 驱动位置 + M ech a Lim it + H ard Lim it + S o ft Lim it t侧 Fro n t侧 0 原点 0V t侧 Fro n t侧 -1 m m -1 .4 ±0 .1 m m -1 .6 m m -S o ft Lim it -H ard Lim it -M ech a Lim it -3 .2 V r的功率 sen so r的功率 3 .2 V 产生的效果
Mask Stage
1、概述： 概述：
Mask stage 就是装着mask的 地方,它的功能是在mask装着 以后,对mask进行对位,并且在 曝光的时候与plate stage 同步 移动,为了保证mask的精确对 位,上边设有Mask set mark.为 了保证Y方向的对位精确,在其 下方设有Y MASK BLADING.
线圈移动 移动磁铁 无上下波动 较轻便
缺点
较为笨重 会产生上下波动
线性马达及气垫和磁铁的构成后实物图： 线性马达及气垫和磁铁的构成后实物图：
曝光过程中常见图像错误
Panel 旋转
Panel 倾斜
Panel 旋转
动画演示 动画演示
Panel 旋转
动画演示 动画演示
Panel 倾斜
动画演示 动画演示
Set Mark位置图 位置图
Mask Stage的气垫分布图 的气垫分布图 其作用与 Plate Stage上 的气垫一样
Yawing Pad
YL Pad
YR Pad
Masking Blade
1、概述： 概述：
X,Y masking blade的作用及原理基本上是一样的，这里就以Y masking blade为例进行说明。 Y masking blade的主要作用是在曝光的过程中，在mask的下方遮光， 以防止边缘出现曝光不良。它主要是由两个挡板构成，在曝光的时候这 两个挡板会移动到事先设定的区域。它的初始位置由DEVICE DATA中的 MB waiting进行设定，可以选择空闲时候停留在HOME POSITION或者 是exposure的准备位置5mm以前。
Panel X尺寸放大 尺寸放大
Panel X尺寸缩小 尺寸缩小
曝光过程中常见图像错误的修正方法
Panel X尺寸 尺寸 放大
动画演示 动画演示
Plate Stage
1、概述： 概述：
Plate Stage就是装着plate 进行曝光的地方,Plate放 在Plate Stage上以后，首 先对玻璃基板进行对位操 作,在完成对位操作以后, 搭载plate与mask stage做 同步扫描运动完成曝光。 在它的上面是Plate Chuck， 用来放玻璃基板，下面有 3个Z轴驱动，用来调整 Plate Chuck的平坦度，后 面和右面是Bar Mirror， 用来监测Plate Chuck的位 置
Plate Stage的驱动部分构成图 的驱动部分构成图
包括减小 阻力及使 运动更加 平滑的气 垫和磁铁， 提供动力 的线性马 达
气垫和磁铁： 气垫和磁铁： 气垫是起到支撑Plate Stage的作用，磁铁的作用是使Stage和导轨吸附 在一起，用他们的合力来保证Plate运动时距导轨的位置不变，即运动 的非常平滑
主要部件说明: 1 mask 基准Pin:在装入mask时,当mask 受到mask推动气缸的推动的时候,限制 Mask的移动,使得mask进入mask pre的 检测范围内. 2 mask chunk:进行mask pre并且吸住mask移动 3 XY轴气缸:推动mask进行mask 机械对位 4 stage base: mask chunk左右的连接板 上边装配有XY驱动部,Set mark, Mask AA LED 5 脉冲电机带动扇形齿轮,驱动Mask Chuck,YL和 YR的驱动电机的驱动方向和驱动量是相同的, That的驱动方向是相反的. 6 bar mirror : 干涉计使用的条状反射镜 7 mask set mark : 364mm的左右视场的中心.它 决定了mask原点
动画演示 动画演示
3、结构： 结构：
主要是一个金属弧形挡板以及上面的一 块补偿玻璃和下面的一块非线性玻璃构 成，旁边有驱动马达
驱动构成 （1）步进马达驱动 （2）球轴承将马达的转动改变为 垂直方向运动，从而带动补偿玻 璃使玻璃发生弯曲。 （3）光开关限制轴承移动的位置 补偿玻璃参数 厚度：2mm； 尺寸：502×280mm； 结像力保证区：432mm×135.4mm；
2、结构： 结构：
脉冲电机
光敏探测器
blade
线性导轨
Y mask blading 截面图
脉冲电机 blade
光线被blade限制后会在 限制后会在blade的边缘形成一定范围的模糊区如下图所 光线被 限制后会在 的边缘形成一定范围的模糊区如下图所 示：
ARC/X MAG
1、概述： 概述：
本单元是通过马达驱动，使玻璃产生弯曲，实现对通过UM后而发生偏差的 光线进行X、Y方向的补正，以得到更为精确的图像。
工作过程演示
动画演示 动画演示
Lift Pin： ： Lift pin的功能是当plate从CDS搬送过来时，lift pin升到plate chuck上 面接住plate，然后落下，将plate放到chuck上。曝光结束后，再将 plate抬起，送给CDate Stage Base Z1 Z2 Z3 Motor:主要有两个作用: 1在对焦的时候在z方向上移动plate Chuck,使其达到最佳的聚焦距离 2 在FOCUS CHECK时候,通过3个motor 上升不同的距离而使整个CHUCK倾斜. Theta Motor :通过它可以转动整个 CHUCK
2、结构与工作原理
Mask Stage通过多孔质气垫和磁体浮在导轨上，Y方向上的扫描运动采用 线性马达进行驱动。功能包括： （1）Mask Stage 的set mark与mask上的mark进行对位； （2）Mask loader把Mask放在Mask Stage上后用X、Y Pin进行预对位； （3）可与长、标准、短三种Mask进行匹配； （4）可与安装在下面的Y-blade一起对曝光范围进行限制； （5）通过激光干涉仪测试X、Y方向上的bar mirror，从而实现与Plate的同 步运动； 下面将通过介绍其结构来说明上面的功能是怎么实现的
押付Pin和基准 ： 押付 和基准Pin： 和基准 押付Pin 押付 押付Pin：主要作用是在Mask放在 Chunk上边以后推动Mask到达基准 Pin上，对Mask进行初对位,精度可 以控制在25微米以内. Mask 基准Pin:在装入mask时,当 mask受到mask推动气缸的推动的 时候,限制Mask的移动,使得mask进 入mask pre的检测范围内.
PAD
Magnet
GUIDE
Y方向 方向Yow Out气垫实物图： 气垫实物图： 方向 气垫实物图
Y方向上部及内侧 方向上部及内侧 （Yow In）气垫和 ） 磁铁实物图： 磁铁实物图：
线性马达： 线性马达： Plate stage： X Stage：移动磁铁 Y Stage：移动线圈 比较：
优点
2、补偿原理： 补偿原理：
通过薄型玻璃的形变，利用光的在不同的介质中有不同的折射率的 性质，改变通过它的光线的光路，调整光线的偏移量，和图像的尺 寸。
补偿方式：通过 薄型玻璃的形变， 利用光的在不同 的介质中有不同 的折射率的性质， 改变通过它的光 线的光路，调整 光线的偏移量， 和图像的尺寸。
(1) Mechanical pre 功能与及结构： 功能：感知玻璃基板在plate stage上 的位置，通过换算得到玻璃基板 的位置。 结构：如右图所示，主要由推动汽缸和 塑料触片构成。推动，接触，感 知，测算。分布如图，x y tht
Mechanical pre
Mechanical pre 分布