金属靶材生产制造项目可行性研究报告

金属靶材生产制造项目可行性研究报告规划设计/投资分析/产业运营报告摘要说明溅射是制备薄膜材朴的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材籵，称为溅射靶材。

溅射工艺属于物理气相沉积（PVD）技术的一种，是制备电子薄膜材料的主要技术之一。

在电子信息产业的发展过程中，金属薄膜的制备十分重要。

溅射工艺利用离子源产生的离子，在真空中加速聚集成高速离子流，轰击固体表面，离子和固体表面的原子发生动能交换，使固体表面的原子离开靶材并沉积在基材表面，从而形成纳米（或微米）薄膜。

被轰击的固体是溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。

靶材质量的好坏对薄膜的性能起着至关重要的决定作用，因此，靶材是溅射过程的关键材料。

该金属靶材项目计划总投资3997.64万元，其中：固定资产投资2719.49万元，占项目总投资的68.03%；流动资金1278.15万元，占项目总投资的31.97%。

本期项目达产年营业收入8754.00万元，总成本费用6664.95万元，税金及附加76.14万元，利润总额2089.05万元，利税总额2453.33万元，税后净利润1566.79万元，达产年纳税总额886.54万元；达产年投资利润率52.26%，投资利税率61.37%，投资回报率39.19%，全部投资回收期4.05年，提供就业职位141个。

高纯溅射靶材行业是典型的技术密集型行业，要求业内厂商具有较强的技术研发实力和先进的生产工艺，具有完善的品质控制能力。

其主要技术门槛表现在以下几个方面。

纯度和杂质含量控制是靶材质量最重要的指标。

靶材的纯度对溅射薄膜的性能有很大影响。

若靶材中夹杂物的数量过高，在溅射过程中，易在晶圆上形成微粒，导致互连线短路或断路。

靶材的成分与结构均匀性也是考察靶材质量的关键。

对于复相结构的合金靶材和复合靶材，不仅要求成分的均匀性，还要求组织结构的均匀性。

晶粒晶向控制是产品研发主要攻克的方向。

溅射镀膜的过程中，致密度较小的溅射靶材受轰击时，由于靶材内部孔隙内存在的气体突然释放，造成大尺行业深度研究寸的靶材颗粒或微粒飞溅，或成膜之后膜材受二次电子轰击造成微粒飞溅，这些微粒的出现会降低薄膜品质。

例如在极大规模集成电路制作工艺过程中，每150mm直径硅片所能允许的微粒数必须小于30个。

怎样控制溅射靶材的晶粒，并提高其致密度以解决溅射过程中的微粒飞溅问题是溅射靶材的研发的关键。

靶材溅射时，靶材中的原子最容易沿着密排面方向优先溅射出来，材料的结晶方向对溅射速率和溅射膜层的厚度均匀性影响较大，最终影响下游产品的品质和性能。

需根据靶材的组织结构特点，采用不同的成型方法，进行反复的塑性变形、热处理工艺加以控制。

靶材是溅射薄膜制备的源头材料，又称溅射靶材。

是制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。

金属靶材生产制造项目可行性研究报告目录第一章项目总论第二章市场研究第三章主要建设内容与建设方案第五章土建工程第六章公用工程第七章原辅材料供应第八章工艺技术方案第九章项目平面布置第十章环境保护第十一章项目生产安全第十二章项目风险概况第十三章节能概况第十四章实施安排方案第十五章项目投资估算第十六章盈利能力分析第十八章总结说明附表1：主要经济指标一览表附表2：土建工程投资一览表附表3：节能分析一览表附表4：项目建设进度一览表附表5：人力资源配置一览表附表6：固定资产投资估算表附表7：流动资金投资估算表附表8：总投资构成估算表附表9：营业收入税金及附加和增值税估算表附表10：折旧及摊销一览表附表11：总成本费用估算一览表附表12：利润及利润分配表附表13：盈利能力分析一览表第一章项目总论一、项目建设背景高纯溅射靶材行业是典型的技术密集型行业，要求业内厂商具有较强的技术研发实力和先进的生产工艺，具有完善的品质控制能力。

其主要技术门槛表现在以下几个方面。

纯度和杂质含量控制是靶材质量最重要的指标。

靶材的纯度对溅射薄膜的性能有很大影响。

若靶材中夹杂物的数量过高，在溅射过程中，易在晶圆上形成微粒，导致互连线短路或断路。

靶材的成分与结构均匀性也是考察靶材质量的关键。

对于复相结构的合金靶材和复合靶材，不仅要求成分的均匀性，还要求组织结构的均匀性。

晶粒晶向控制是产品研发主要攻克的方向。

溅射镀膜的过程中，致密度较小的溅射靶材受轰击时，由于靶材内部孔隙内存在的气体突然释放，造成大尺行业深度研究寸的靶材颗粒或微粒飞溅，或成膜之后膜材受二次电子轰击造成微粒飞溅，这些微粒的出现会降低薄膜品质。

例如在极大规模集成电路制作工艺过程中，每150mm直径硅片所能允许的微粒数必须小于30个。

怎样控制溅射靶材的晶粒，并提高其致密度以解决溅射过程中的微粒飞溅问题是溅射靶材的研发的关键。

靶材溅射时，靶材中的原子最容易沿着密排面方向优先溅射出来，材料的结晶方向对溅射速率和溅射膜层的厚度均匀性影响较大，最终影响下游产品的品质和性能。

需根据靶材的组织结构特点，采用不同的成型方法，进行反复的塑性变形、热处理工艺加以控制。

金属精密加工和外形控制直接影响下游客户的使用效果。

用于靶材溅射的机台十分精密，对溅射靶材的尺寸要求很高，这对靶材厂商的金属加工精度和加工质量提出了很高的要求，如表面平整度等。

例如，靶材粗糙化处理可使靶材表面布满丰富的凸起尖端，这些凸起尖端的电势将大大提高，从而击穿介质放电，但过大的凸起对于溅射的质量和稳定性是不利的。

随着薄膜技术的发展、芯片性能的提升，对配套溅射靶材在纯度、微观结构、可靠性等方面提出了越来越高的要求。

集成电路产业60年代起源于美国，80年代行业重心转向日本，90年代又转向韩国、台湾。

因而在靶材生产方面，日、美靶材企业得以与Intel、IBM等微电子巨头一起调试工艺，推进薄膜制备技术发展，具有很大的技术和品牌优势。

与之相比，虽然近年来半导体产业加速向我国转移，国内半导体产业正在迎来黄金期，但总体而言我国半导体行业尤其是中上游的电子化学品、化学材料产业仍处于起步阶段。

而我国一些靶材生产商是冶金材料企业，对半导体企业等使用方的实际需求很难做到“量体裁衣”。

这也要求国内靶材厂商对客户实际需要进行深刻、透彻的研究，与使用方一起完善工艺。

随着国内下游半导体、平面显示产业的发展，电子化学品需求量巨大，进口替代空间广阔，国内靶材企业有很大的发展空间。

溅射靶材产业链主要包括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环节，其中，靶材制造和溅射镀膜环节是整个溅射靶材产业链中的关键环节。

化学纯度是影响薄膜材料性能的关键因素，高纯金属原材料是靶材生产制造的基础。

高纯金属提纯分为化学提纯和物理提纯，在实际应用中，通常使用多种物理、化学手段联合提纯实现高纯材料的制备。

我国虽然拥有丰富的有色金属矿产资源，但我国高纯金属制备技术与国外相比仍存在一定差距，高纯金属有较大比重需从国外进口。

全球范围内，高纯金属产业集中度较高，美、日等国家的高纯金属生产商依托先进的提纯技术在整个产业链中居于十分有利的地位，具有较强的议价能力。

高纯溅射靶材是伴随着半导体工业的发展而兴起的，集成电路产业是目前高纯溅射靶材的主要应用领域之一。

受困于2008年爆发的金融危机，全球半导体市场2009年陷入全面衰退。

此后，全球半导体市场迅速反弹。

自2011年起，全球半导体市场进入平稳增长期。

半导体材料的市场规模也随着整个半导体行业市场规模的增长而增长。

国内高纯金属产业在靶材上游率先取得突破。

2004年以前，我国99%以上的高纯铝只能从美国和日本进口。

近年来随着技术的发展，我国也出现了一些高纯铝生产企业，有新疆众和、包头铝业、霍煤鸿骏、山西关铝、宜都东阳光铝、中铝贵州、神火铝业等，与美、日企业的差距正在缩小。

2016年我国国内高纯铝产量达11.8万吨，生产的高纯铝甚至部分返销国外。

在市场需求和政策鼓励下，国内半导体市场保持着平稳较快发展，国内半导体材料产业、靶材产业规模也日益扩大，其增速高于全球增速，在全球市场中所占份额逐渐提升。

得益于中国大陆晶圆厂建设的迅猛势头，中国已经成为全球最具潜力的半导体材料新兴市场。

2016年国内半导体用溅射靶材市场规模突破14亿元，全球半导体用溅射行业深度研究靶材市场规模突破12亿美元。

我们预测，未来5年，国内高纯溅射靶材市场规模年复合增长率可达到13%，总规模超过25亿元。

国内靶材市场将在2020年翻倍。

在全球处于规划或建设阶段、预计于2017年～2020年间投产的62座半导体晶圆厂中，有26座设于中国，占全球总数的42%，仅2018年，中国大陆就会有13座晶圆厂建成投产。

目前国内已量产的12寸晶圆厂共有10家，总产能56.9万片每月；而目前建设中的12寸晶圆厂共有9家，总产能54万片/月。

若上述在建产能投产，相当于国内晶圆产能增加95%，靶材市场需求也会相应大幅增加。

国产半导体靶材的市场占比将会显著提升。

随着国产溅射靶材的技术成熟，尤其是国产溅射靶材具备较高的性价比优势，并且符合溅射靶材国产化的政策导向，我国溅射靶材的市场规模将进一步扩大，在全球市场中有望获得更多客户的认可，市场份额进一步提高。

平板显示产业也是高纯溅射靶材的主要应用领域之一。

平板显示器主要包括液晶显示器（LCD）、等离子显示器（PDP）、有机发光二极管显示器（OLED）等，以及在LCD基础上发展起来的触控（TP）显示产品。

镀膜是现代平板显示产业的基础环节，几乎所有类型的平板显示器件都会使用大量的镀膜材料来形成各类功能薄膜，其所使用的PVD镀膜材料主要为溅射靶材。

柔性显示材料进一步扩大靶材的需求空间。

膜材料是实现柔性的关键，而靶材是电子薄膜材料主要原材料。

未来柔性OLED对薄膜的使用量会大幅增加，相应的靶材需求量就会大幅增加。

2016年全球平面显示溅射靶材市场达到38亿美元，国内市场超过80亿元。

2011年以来，随着国内外平板显示厂商纷纷在中国大陆建立生产基地以及政府政策导向和产业扶植下，我国平板显示产业迅速发展，全球平板显示产业重心逐渐向中国大陆转移，我国成为全球主要LCD面板生产大国，并相继形成了以京东方、华星光电、深天马等为代表的市场影响力较大的LCD面板本土品牌。

IHSMARKIT公司预计，到2018年中国将成为全球最大的平板显示器件供应国，全球市场占有率将达到35%。

太阳能电池主要包括晶体硅太阳能电池和薄膜太阳能电池，PVD工艺主要应用于薄膜太阳能电池中。

晶体硅太阳能电池转化效率较高、性能稳定，且各个产业环节比较成熟，占据了太阳能电池市场的主导地位。

与晶体硅太阳能电池相比，薄膜太阳能电池材料用量大大减少，从而大幅降低了制造成本和产品价格，同时，薄膜太阳能电池还具有制造温度低、应用范围大等特点。