水稻白背飞虱虫害的单叶高光谱特征分析

水稻白背飞虱虫害的单叶高光谱特征分析
吴昊;邱白晶;陈国平;刘继承
【期刊名称】《农机化研究》
【年(卷),期】2009(31)4
【摘要】通过测试水稻白背飞虱主害代期间叶片的高光谱数据,采用多元统计分析方法,对叶片反射光谱与白背飞虱百株虫量进行相关分析,确定了514～
602nm,697～1339nm,1501～1749nm及2 101-2 299nm为白背飞虱虫害的4个敏感波段,并基于这些敏感波段,采用逐步回归法建立了反演白背飞虱虫量的模型.【总页数】3页(P117-119)
【作者】吴昊;邱白晶;陈国平;刘继承
【作者单位】江苏大学,江苏省现代农业装备与技术重点实验室,江苏,镇江212013;江苏大学,江苏省现代农业装备与技术重点实验室,江苏,镇江212013;江苏大学,江苏省现代农业装备与技术重点实验室,江苏,镇江212013;江苏大学,江苏省现代农业装备与技术重点实验室,江苏,镇江212013
【正文语种】中文
【中图分类】S433.3;S123
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