Si基稀磁半导体薄膜的磁性研究的开题报告

Mn掺杂Ge/Si基稀磁半导体薄膜的磁性研究的开题
报告
题目：Mn掺杂Ge/Si基稀磁半导体薄膜的磁性研究
摘要：
本课题主要研究Mn掺杂Ge/Si基稀磁半导体薄膜的磁性质。

在过去的几十年中，硅基电子学一直是研究的热点，而稀磁半导体材料由于其
优异的磁性质受到了越来越多的关注。

本研究旨在通过Mn掺杂Ge/Si基稀磁半导体薄膜的制备和磁学性质表征，探究其在磁存储、磁随机存取
存储器、磁场传感器等领域的潜在应用。

本研究将首先采用射频磁控溅射技术制备Mn掺杂Ge/Si基稀磁半导体薄膜，并利用X射线衍射仪（XRD）和透射电子显微镜（TEM）对其结构进行表征。

接着，利用超导量子干涉仪（SQUID）测试样品的磁学性质，包括饱和磁矩、磁滞回线等，探究样品的自旋结构和磁学耦合机制。

最后，通过进一步的实验和分析，确定最优掺杂量和结构参数，以实现
稀磁半导体材料的优化磁学性能。

通过这些工作的开展，本研究将为稀磁半导体材料在磁存储、磁随
机存取存储器及磁场传感器等方面的应用提供重要的科学基础和实验支持。

关键词：Mn掺杂，稀磁半导体，磁学性质，射频磁控溅射，自旋结构。