真空镀膜过程中常见问题分析

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浅谈真空镀膜生产中常见问题及解决方法

浅谈真空镀膜生产中常见问题及解决方法作者：陈龙来源：《科学与财富》2019年第19期摘要：从上个世纪三十年代，真空镀膜技术产生，该项技术由于优势极高，性能良好，因此受到了各个领域的广泛应用。

当前，可以从使用功能方面对其进行划分，分为功能性镀膜和装饰性镀膜两个方面，其中，装饰性镀膜主要是采取塑料制品，真空蒸发镀膜则是应用各种泵体对镀膜真空室进行抽取，转换成高真空状态，镀膜材料从以往的固态转变为离子状态，离子状态的膜材和塑料基材结合形成膜层。

而为了避免金属膜层出现严重的腐蚀现象，对于相关膜层来讲，必须做好保护膜的处理工作。

在当前阶段中，我国的灯具塑料零部件表面镀膜通常是使用真空蒸发镀膜的方式，不过，需要明确注意，控制好设备的使用状态，因为一不小心的话，就会使得膜层表面受损，发生质量问题。

基于此，本文主要以真空镀膜生产期间存在的问题为主，提出了一系列的解决对策。

关键词：真空镀膜；生产环节；存在的问题；解决方式在现有的汽车和灯具领域内，塑料基材表面一般是应用镀膜工艺，从实际情况来看，该项工艺有着极高的作用，既可以增强材料的使用性能，与此同时，还可以确保产品外表的美观性。

其中，经常使用的处理工艺包含了多个方面，分别是真空离子镀镀膜工艺、电镀工艺以及真空热蒸发等。

本文从真空蒸发镀膜工艺入手，有效探究了真空镀膜日常生产期间的不足之处，根据实际情况制定了有关的解决方式。

1、镀膜存在着发黄现象1.1存在的问题在镀膜时发生发黄现象之后，大体上表现为两点，分别是产品表面受热程度比较高，真空室内真空度比较低。

通过探究得出，产生这一现象的实质性原因表现在以下几个方面：①产品接受热量比较高，表面呈现出了发黄现象；引发这一情况的原因是因为镀膜蒸发时电流升高，使得热量下降比较明显。

设置出来的镀保护膜功率比较大，热量上涨较快，而且过程时间设定值比较长，热量随之增加。

②镀膜机真空室真空度比较低，产品表面逐渐发黄；其一，镀膜开始真空度参数值不高。

真空镀膜膜层脱落原因

真空镀膜膜层脱落原因真空镀膜技术是一种常用的表面处理技术，它可以将金属、陶瓷、玻璃等材料在真空条件下镀上一层薄膜，从而改变其表面性质、增强其耐腐蚀性和耐磨性等。

然而，在使用过程中，有时会发现膜层出现脱落现象，这不仅会降低膜层的使用寿命，还会影响产品的质量和性能。

本文将探讨真空镀膜膜层脱落的原因。

一、基材表面处理不当在真空镀膜过程中，基材表面的处理对膜层的附着力至关重要。

如果基材表面存在油污、灰尘、氧化皮等污染物，将会影响膜层的附着力，导致脱落。

因此，在进行真空镀膜前，必须对基材表面进行彻底的清洗和处理，确保表面干净、平整、无污染。

二、真空度不足真空度是影响真空镀膜质量的重要因素之一。

在真空镀膜过程中，如果真空度不足，将会导致膜层中含有气体和水分，从而影响膜层的附着力和质量。

此外，真空度不足还会导致膜层中产生气泡和裂纹，加速膜层的脱落。

因此，在进行真空镀膜前，必须保证真空度达到一定的要求，以确保膜层的附着力和质量。

三、材料选择不当真空镀膜的材料种类繁多，不同的材料具有不同的物理和化学性质，对应的膜层也会有所差异。

如果选择不当的材料进行镀膜，将会导致膜层与基材之间的结合力不足，从而容易脱落。

因此，在进行真空镀膜前，必须根据产品的需求和使用环境选择合适的材料进行镀膜，以确保膜层的附着力和质量。

四、工艺参数不当真空镀膜是一项复杂的工艺，其中涉及到多个工艺参数，如沉积速率、沉积温度、离子束能量等。

如果这些参数设置不当，将会影响膜层的附着力和质量，甚至导致膜层脱落。

因此，在进行真空镀膜前，必须根据产品的需求和材料的特性，合理设置工艺参数，以确保膜层的附着力和质量。

五、外力作用在使用过程中，膜层可能会受到外力的作用，如撞击、摩擦、拉伸等。

如果外力作用过大，将会导致膜层的破坏和脱落。

因此，在使用过程中，必须注意保护膜层，避免外力的作用。

综上所述，真空镀膜膜层脱落的原因是多方面的，需要从基材表面处理、真空度、材料选择、工艺参数和外力作用等方面加以注意和控制。

真空镀膜生产中常见问题及解决方法

（ＣｏｍｐａｃｔＭｅｔ），设备使用过程中稍有不慎膜层表面
会出现各种缺陷。本文对常见膜层表面缺陷的解决思路进行探讨，以达到抛砖引玉的效果。
空蒸散镀膜是使用各种泵体（如机械泵、罗茨泵、油扩散泵及维持泵）将镀膜室抽成相对的高真空状态，然后给加热电极通电，加热电极将电能转化为热能，熔化放在其表面的膜材，使膜材由固态升华为气态的离子状态，最终离子状态的膜材落在塑料基材表面形成光亮金属质感的膜层，为了防止金属膜层被腐蚀，所有的膜层都要增加保护膜的处理。
ＰｌａｔｉｎｇａｎｄＦｉｎｉｓｈｉｎｇ
ｄｏｉ：１０．３９６９／ｊ．ｉｓｓｎ．１００１ — ３８４９．２０１５．１０．００８
真空镀膜生产中常见问题及解决方法
ｐｒｏｃｅｓｓａｎｄｓｐｕｔｔｅｉｎｒｇｐｒｏｃｅｓｓ．Ｉｎｔｈｉｓｐａｐｅｒ，ｔｈｅｃｏｍｍｏｎｆａｉｌｕｒｅｓａｎｄｔｒｏｕｂｌｅｓｈｏｏｔｉｎｇｉｎｖａｃｕｕｍｅｖａｐｏ — ｔｒａｎｓｐｉｒａｔｉｏｎｄａｉｌｙｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎｕｓｉｎｇＬＥＹＢＯＬＤｃｏａｔｉｎｇｍａｃｈｉｎｅｗｅｒｅｂｒｉｅｌｆｙｄｅｓｃｉｂｒｅｄ．Ｋｅｙｗｏｒｄ：ｅｖａｐｏｔｒａｎｓｐｉｒａｔｉｏｎｃｏａｔｉｎｇ；ＬＥＹＢＯＬＤｃｏａｔｉｎｇｍａｃｈｉｎｅ；ｆａｉｌｕｒｅ；ｔｒｏｕｂｌｅｓｈｏｏｔｉｎｇ

真空热蒸发镀膜的故障原因和处理方法

真空热蒸发镀膜的故障原因和处理方法关键词：真空,故障,处理1．镀铝层阳极氧化故障的排除氧化层表面有点状痕迹(1)预熔时电流过高或未加挡板。

应适当降低预熔电流及加设挡板。

(2)蒸发电流过高。

应适当降低氧化层表面有流痕印迹(1)镀件表面清洁不良。

应加强清洁处理。

(2)擦拭镀件时蘸用乙醇过多。

应减少乙醇的蘸用量。

(3)手指接触镀件表面后留下指印。

应禁止手指接触镀件表面。

(4)唾液喷溅到镀件表面，使镀层表面产生圈状印迹。

操作者应带上口罩氧化层表面有灰点(1)真空室底盘或室壁太脏。

应使用乙醇擦拭干净。

(2)夹具太脏。

应按工艺规程定期清洗夹具氧化层表面发红(1)阳极氧化电压偏低，氧化层厚度不够。

应将电压提高到120V左右。

(2)氧化时间太短，导致阳极氧化后表面发红。

应适当延长氧化时间氧化层表面发花(1)氧化电压太高，氧化层部分发蓝。

应适当降低电压。

(2)各氧化点的电压或氧化时间不相同。

应使各氧化点的电压和氧化时间保持一致。

(3)电解液温度太高。

应适当降低氧化层表面发黄(1)氧化电压太高，氧化层太厚。

应适当降低电压。

(2)氧化时间太长。

应适当缩短。

(3)氧化点太多。

应适当减少氧化层表面有灰白细点(1)溶液中铝含量增加。

应更换部分溶液。

(2)电解液温度太高。

应适当降低。

(3)镀件水洗不足，表面残留电解液，在水分或潮湿气体作用下形成灰白色的氢氧化铝细点。

应将氧化后的镀件表面用蒸馏水洗净电解液，然后擦干，最好是将氧化后的镀件擦干后放人无水乙醇中浸1-2h，然后加温到12．0~C保温数小时氧化后镀层起泡脱落(1)镀件表面油a8未除净。

应加强脱脂处理。

(2>真空度太低。

应适当提高蒸发时的真空度。

由于铝是易氧化的金属，又容易吸收氧，在低真空度下蒸发，会因吸收剩余气体而形成茶褐色的氧化膜，导致反射率降低，镀层易起泡脱落。

通常预熔的真空度为0．067Pa；蒸镀装饰性的铝膜，蒸发时的真空度可适当低一些，一般和预熔的真空度相同；蒸镀质量要求高的铝膜，真空度应当高一些，一般为(4—6．7)x10”h。

镀膜机常见故障及分析解决预防措施2

镀膜机常见故障及分析解决预防措施2镀膜机常见故障及分析解决预防措施一.常见故障,问题及解决方法下表对一些镀膜时常见的故障、真空度问题、及掉膜和膜质问题做了一些简单分析,并给2.空气开关跳闸3.调节电流的电位器坏了4.铜电极与真空室底板下的引线接触不良应清洗干净.更换在蒸发舟时应将铜压块取下砂干净再安装蒸发舟2.打开空气开关3.更换电位器4.清洁磨平接触不良的地方并拧紧螺钉1.9.速率不稳定 1.晶片失效2.料面不好3.功率设置不合理4.控制参数PID设置不合理5.灯丝接触不好或老化6.高压打火1.选择好的晶片，1.2枪的速率要匹配2.料要加平整，养成停坩埚的好习惯3.预熔功率及最大功率设置合理(最大功率为略大于蒸发时所需功率）4.设置合理的PID参数5.紧固或更换灯丝6.解决打火现象1.10.高压打火 1.枪体污染，杂物掉入枪体2.各接线处未拧紧3.聚四氟套管太脏4.枪体阳极，栅极变形5.高压电极太脏6.屏蔽不佳或未屏蔽7.光斑位置不合理，扫描状态不好8.2枪高压干扰9.材料污染有杂物10.高压打在10KV11.预熔不够充分12.功率设置不合理1.整理枪体，在吹枪体时应用吸尘器边吸使吹出的杂物吸走不被落在枪体里2.拧紧各连接处，使其接触良好3.清洗或更换套管，应定时清洗4.调整或更换阳极，栅极片5.更换高压电极6.调整屏蔽或加装屏蔽7.调整好光斑，检查扫描8.蒸镀1枪时应关闭2枪高压9.将被污染的材料去除或更换新材料10.将高压调在正确的档位（中档8KV）.在触摸屏上操作时(如4.遥控盒上的连线松脱或电位器坏了3.检查引线及线圈4.接好连线或更换电位器2.2光斑及扫描状态不好1.灯丝变形2.极靴位置不正3.扫描频率不合适4.短路条多或少了,位置不好5.高压档位不对6.扫描连接线有误1.更换灯丝2.调整极靴位置.在拆下清洗时要做好记号避免安装时位置不正3.调整合适频率,频差和密度4.调整短路条的位置及数量5.调整正确的高压档位6.正确连接扫描线,维修时应做好记号坩埚工3.1坩埚转动不灵或不转1.坩埚周边间隙太小2.坩埚间隙有材料(卡料)3.轴承锈死4.减速器出问题5.电机出问题6.防污底板顶到坩埚(2枪)7.连接键脱落1.调整坩埚周边的间隙2.清理间隙中的材料.注意料不要加得太高,预熔时数量不要加得太快,防止材料飞溅掉入间隙里使坩埚卡住或转得不顺畅3.清洗或更换轴承.在打扫真空室及洗机时应将坩埚下面的料渣清除,防止料渣太多影响轴承的性能4.检查减速器5.维修或更换电机6.调整好大门底板的位置(稍高于坩埚),关门时感到异常(如较平时紧)应检查底板及防污板的位置7.重新安装好键3.2工转噪音大,晃动大1.电机轴承坏了2.大轴承干磨性能下降3.电机与减速箱连接1.更换电机轴承2.清洗或更换大轴承3.将电机与减速箱连接好4.更换齿轮5.电压表有问题 5.维修或更换电压表阀门 4.1.阀门打不开 1.气压不够2.控制阀门的气动阀有问题3.阀门间互锁1.调高气压到适当位置2.维修或更换气动阀3.检查与其互锁的阀门.应注意阀门指示灯显示关闭但实际阀门并未关闭的现象4.2.阀门打开后会自动关闭1.气压不够2.气动阀阀芯内的橡皮松脱1.调高气压到合适位置2.更换阀芯或气动阀4.3.放气取膜,放气阀打不开1.高阀没关到位2.放气阀的气动阀有问题1.检查高阀没关到位的原因,不能强行手动关闭2.更换或维修气动阀真空 5.1.在镀膜过程中真空度突然下跌1.高阀,预阀等阀门自动关闭2.扩散泵断相或跳闸3.坩埚卡料强行转动造成漏气1.检查气压是否正常,正常则是相应的阀门问题,一般为气动阀的阀芯松脱2.合上闸刀,断相表现为三相指示灯有一或两个灯不亮,更换电炉盘3.维修坩埚,当卡料时不能强行转坩5.2.低真空突然抽不动1.机械泵掺气阀没关2.真空室门压到东西3.并路阀(旁通阀),截止阀自动关闭4.机械泵出问题5.罗茨泵出问题6.管道漏气7.机械泵上的机放阀漏气8.真空室漏气1.关闭掺气阀2.检查大门密封.关门抽气时应检查大门是否压到东西或密封圈上有杂物3.检查相应的阀门及控制阀门的气动阀和气压4.维修机械泵5.维修罗茨泵6.维修管道7.更换或维修机放阀8.按5.4步骤检漏8.漏气5.4.真空度低 1.真空表测量不准2.真空规管测量口被百叶窗挡住3.真空室大门没关好4.真空泵出问题5.管道漏气6.动密封如坩埚,工转,观察窗,挡板等密封漏气7.洗机或维修时动过的部件或附近有松动8.堵头没装好9.通了水的如坩埚,工转,探头等地方有漏点10.高阀,低阀气缸漏气11.金属焊缝漏1.更换真空表2.关闭高阀,若此时真空室真空度比较稳定,则放气调整百叶窗的位置3.用酒精注射大门密封看真空度变化,如有变化则放气整理真空室门密封4.维修或更换真空泵5.维修管道6.更换或重装动密封快速连续转动看真空度是否有较大的变化,有则是该转动部动密封有问题7.检查动过的部件及附近,确认后紧固8.用酒精注射堵头,若真空度有变化则紧固或重装该堵头9.通过用高压气来冲水管看真空度是否有变化,有则检查水路10.通过开关高阀,低阀或用酒精注射阀门确认后更换阀体或密封圈11.用酒精注射各焊缝来确认是否有漏,有则补焊焊缝掉膜 6.1.掉膜 1.真空室或玻片潮湿（更换防污板后）2.玻片没洗干净3.更换新玻片,玻片上有油污4.真空度低1.烘烤玻片及防污板的时间要适当2.用干净的布清洗好玻片,清洗时应认真仔细3.先用洗洁精清洗干净玻片,再用清水将玻片冲洗干净膜质7.1.膜质发黑不亮泽1.U5材料镀少了(有时有银灰色)2.2枪光斑能量太散(扫描频率有问题)3.U3材料镀多了(膜质稀烂)4.2枪坩埚位置不合适5.U5材料太旧或氧化6.真空度低1.适当增加U5厚度2.调节光斑和扫描频率3.适当减少U3厚度4.将2枪坩埚位置移到适当位置5.更换新料6.检查真空度7.2.膜发银 1.U5材料镀多了2.跳程序或假速率造成U5材料没镀上或镀少3.U3材料蒸发过快造成U5没镀上或镀少1.适当减少U5厚度2.发现时应适当加镀一些U5,在镀 2.6层时应特别注意有无此现象3.镀U3材料时速率不要过高,镀完U3材料时应稍微停顿5秒再镀U57.3.膜质发硬,打卷 1.玻片太脏2.玻片表面光洁度差3.U3材料镀的过少1.仔细清洗玻片,玻片放入真空室经抽气未使用应更换或清洗后才能使用.应打扫完真空室卫生后再装玻片,减少污染2.更换好的玻片3.适当增加U3厚度膜厚制8.1.晶片失效 1.晶片使用寿命已到2.晶片压簧损坏3.连接探头的各接触点接触不良4.探头冷却水过小或水温过高5.探头挡板碰到工1.更换好的晶片.在用超声波清洗晶片时应注意打晶片的时间及方法,延长晶片的使用寿命2.更换晶片压簧.在取压簧时应轻拿轻放3.整理各连接处4.调大探头冷却水流量或开启冷冻机降水温,水温小于28度5.调在探头挡板与工转的距离1. 膜厚控制仪1.1.控制参数Soak power1----预熔功率1 约为蒸发功率的一半Soak power2----预熔功率2 也称预蒸镀功率略小于最大功率Maxpower ----最大功率 Dep Rate ----蒸发速率Final Thk ----膜厚（波长） Soak time----预熔时间Rise time ----功率上升时间 Density ----材料密度1.2.检测膜厚原理通过改变探头上晶片的频率（由于膜的蒸发改变了其重量，所以其震动频率发生变化）来计算膜厚，而探头所处的位置和工具因数的设置都影响到测试精度，探头的位置和测试膜厚的关系如小：(1).探头高了,测试得到的厚度<实际得到的膜厚(玻片上厚度)(2).探头低了,测试得到的厚度>实际得到的膜厚(玻片上厚度)(3).工具因数调高,相当于探头位置降低,所以膜厚要增加2. 膜和材料间的关系2.1.U5吸收杂光,影响膜质和亮度.镀的过多,膜会发银;镀的过少,膜发黑,不亮泽,有银色;没镀上,则为银白2.2.U3脱膜剂,影响膜质.镀的过多,膜质稀烂,易脱落;镀的过少,膜会打卷,发硬2.3.SiO2决定颜色2.4.U6基层,影响膜的鲜艳度和亮度3. 均匀性3.1.径向均匀性:同一玻片上部与下部的不均匀,与光斑的调节、材料的料面、坩埚转速和转向、玻片的曲率有关3.2.重复均匀性:同一锅膜的每一套间的不均匀,与真空度的高低、操作者看颜色有关3.3.整体均匀性:同一套膜四块玻片上的均匀性,与光斑的稳定性、工转的转速和蒸发速率的匹配、真空度的高低、径向均匀性有关4. 灯丝问题4.1.放气时要记住关灯丝电源,以免氧化灯丝4.2.初次使用或更换新灯丝,应进行灯丝预热定型处理,以防灯丝加热过快变形.预热时,高压关闭,直接加热灯丝,缓慢加灯丝电流,由几安培加至15A时,维持3-5分钟4.3.灯丝安装a.灯丝不宜太高或太低:太高会造成光斑不可调,容易打烂栅极和阳极片;太低会造成光斑能量太散,不易蒸发b.栅极片应略低于阳极片c.各个压块、引线的接触面应清洗干净避免造成接触不良d.打紧螺钉时应松紧适当，太松会接触不良，太紧会造成“滑丝”5. 轰击条件：真空度4.0Pa到8.0Pa之间时间:20到30分钟轰击棒应用240#砂纸砂干净再用酒精擦一遍再装入真空室轰击完后关闭轰击开关,取轰击棒时应带手套或用包住轰击棒以免被烫伤6. 换机械泵油将油放干净,把出气口的盖板取下,然后取下挡油板,用布将机械泵油腔内擦干净(特别注意死角地方),擦干净后倒点新油盖住出气口开机械泵运行20秒将油放出,这样反复做两到三次,洗干净后即可加油.加油应加到观察油窗伤两条红线之间(油加少了会造成机械泵的抽气性能下降,油加多了会造成抽气时油喷出来).油加好后将挡油板,盖板依次装好.7. 应急措施7.1.突然停电首先将设备总电源开关关闭(防止突然恢复电力所有用电设备工作造成电流冲击过大),然后将所有开关复位,处在关的状态(开关弹起为关的状态),等待电力恢复如果长时间电力无法恢复应将扩散泵电炉盘取下,用湿布放在扩散泵四周使其冷却.设备循环水关小,防止停电时间过长导致循环水无法循环使水流失7.2.停水首先应关闭扩散泵,将扩散泵电炉盘取下,用湿布放在扩散泵四周使扩散泵冷却关闭各阀门及机械泵,不能让其长时间在无冷却水的状态下工作导致设备损坏7.3.停气气压低于0.43Mpa时阀门会自动关闭,此时应将各阀门开关复位处在关的状态(开关弹起为关).如果长时间无法恢复供气,则将扩散泵,机械泵等运作的设备关闭,关扩散泵15分钟后打开扩散泵快冷冷却扩散泵。

真空镀膜产品常见不良分析及改善对策

真空镀膜常见的不良分析及改善对策一、膜强度膜强度是镜片在镀膜的一项重要指标，也是镀膜工序最常见的不良。

膜强度的不良（膜弱）主要表现为：1)擦拭或用专用的胶带拉撕，产生成片的脱落；2)擦拭或用专用的胶带拉撕，产生点状的脱落；3)水煮15分钟后用专用的胶带拉撕产生点状或片状的脱落；4)用专用橡皮头、1KG力摩擦40次，有道子产生；5)膜层擦拭或未擦拭出现龟裂、网状细道子。

改善思路：基片与膜层的结合是首要考虑的，其次是膜表面硬度光滑度以及膜应力的因素。

膜强度不良的产生原因及对策；1)基片与膜层的结合；一般情况，在减反膜中，这是膜弱的主要原因，由于基片表面在光学领加工及清洗过程中不可避免地会有以下有害杂质附着在表面伤，而基片的表面由于光学冷加工的作用，总有一些破坏层，深入破坏曾的杂质（如水汽、油气、清洗液、擦拭液、抛光粉等，其中水汽为主），很难以用一般的方法去除干净，特别对于亲水性好的材料，吸附力强的基片尤其如此，当膜料分子堆积在这些杂质上面时，就影响了膜层的附着，也就影响了膜强度。

此外，如果基片的亲水性差、吸附力差，对膜层的吸附差，同样会影响膜强度。

硝材化学稳定性差，基片在前加工过程中流转过程中，表面已经受到腐蚀，形成了腐蚀层或水解层（也许是局部的、极薄的）。

膜层镀在腐蚀层或水解层上其吸附就差，膜牢固度会受到影响。

基片表面有脏污、油斑、灰点、口水等，局部膜层附着不良，造成局部膜牢固度不良。

改善对策：a)加强去油去污处理，如果是超声波清洗，应重点考虑去油功能，并保证去油溶液的有效性，如若是手擦，可考虑先用碳酸钙粉擦拭后再清擦；b)加强镀前烘烤，条件许可，基片温度能达到300℃以上最好，恒温20分钟以上，尽可能使基片表面的水汽、油气挥发。

温度过高时基片的附着力变大，同时也容易吸附灰尘，因此需要提高真空室清洁度，真空室基片上的水汽化学解析温度在260℃以上。

不是所有的零件都需要高温烘烤，有的硝材温度高了反而膜强度不高，还会有色斑产生，这与应力及材料热匹配有较大的关系；c)设备机组安装冷凝机（POLYCOLD），可以提高机组抽真空的能力的同时帮助去除水汽、油气；d)设备安装离子源，镀前轰击，清洁基片表面，镀膜过程辅助更有利于提高膜层密度；e)镀膜辅耗去潮湿，膜料可以存放特制的干燥柜或真空干燥柜中；f)保持工作区域环境干燥，清洁环境时不能有太多的水，环境保持恒温恒湿状态；g)薄膜设计是考虑第一层膜与基片的匹配，尽可能的使用与基片吸附力强的膜料，例如：增透膜使用AL2O3、金属膜使用CR或CR合金；h)镀前采取研磨液（抛光液）重复手动擦拭抛光，去除表面的腐蚀层和水解层；i)增透膜可以适当的降低蒸发速率，提高膜层光洁度，金属膜提高速率，或者提高设备的真空度，对于基片到蒸发源大于1米以上的镀膜机，蒸镀开始真空度应高于3*10-3Pa，镀膜机越大，蒸镀开启真空越高越好；2)膜层应力；薄膜的成膜过程，是一个物质形态转变的过程，不可避免的在成膜后的膜层中会有应力的存在，对于多层膜来说有不同的膜料组合，各膜层体现出的应力是有所不同的，有的是张应力，有的是压应力，还有膜层及基片的热应力。

真空镀膜产品常见不良分析改善对策

真空镀膜产品常见不良分析改善对策真空镀膜是一种常用的表面处理技术，用于制备具有特殊功能的薄膜材料。

然而，在生产过程中，可能会出现一些不良现象。

本文将就真空镀膜产品常见的不良分析及改善对策进行详细探讨。

常见的真空镀膜产品不良包括颗粒、结晶、气泡、色差等。

不良颗粒是指在膜层上出现的小颗粒，其主要原因是杂质或金属粉尘污染所致。

结晶是指在薄膜材料中出现的晶体颗粒，可能是由于过高的沉积温度或金属原料纯度不高所导致。

气泡是指在薄膜材料中形成的气体团块，可以是由于杂质带入、沉积过程中的溶解气体发生释放等原因产生的。

色差是指薄膜材料颜色不均匀或与预期颜色不符合。

针对这些不良现象，可以进行以下改善对策。

首先，对于颗粒问题，可以加强对原料的筛选和净化处理，以确保杂质和粉尘的最小化。

其次，在真空镀膜过程中，增加清洗步骤，确保表面洁净无尘。

同时，加强对真空设备的维护和清洁，避免设备本身引入污染物。

另外，对于结晶问题，可以通过调整沉积温度和沉积速率来控制晶体生长，同时提高金属原料的纯度。

对于气泡问题，可以通过增加沉积时间、降低沉积温度、增加补偿气体等方式来减少气泡的生成。

对于色差问题，则需要进行颜料配方的优化和调整，确保膜层的颜色均匀一致。

此外，还可以通过加强人员培训和质量管理，改善操作技术和工艺控制，以减少不良现象的发生。

总结起来，真空镀膜产品常见的不良包括颗粒、结晶、气泡、色差等，其原因涉及原料污染、工艺参数控制不当等。

针对这些不良现象，可以采取一系列的改善对策，如加强原料筛选和净化，增加清洗步骤和设备维护，调整沉积温度和速率，优化配方和加强质量管理等，以提高真空镀膜产品的质量。

真空镀膜的常见问题和解决办法

真空镀膜的常见问题和解决办法第一篇：真空镀膜的常见问题和解决办法真空镀膜机的一些常见问题与解决办法随着镀膜技术的快速增长，各种类型的真空镀膜机也开始逐渐出现。

但是论起薄膜的均匀性，恐怕所有的真空设备镀制的薄膜的均匀性都会受到某种因素影响，现在我们就溅控溅射镀膜机来看看造成不均匀的因素有哪些。

对此，真空镀膜机厂家指出，它的运作原理其实很简单。

就是通过真空状态下正交磁场使电子轰击氩气形成的氩离子再轰击靶材，靶材离子沉积于工件表面成膜。

如此车灯镀膜机厂家就该考虑与膜层厚度的均匀性有关的有真空状态、磁场、氩气这三个方面。

真空状态就需要抽气系统来控制的，每个抽气口都要同时开动并力度一致，这样就可以控制好抽气的均匀性，如果抽气不均匀，在真空室内的压强就不能均匀了，压强对离子的运动是存在一定的影响的。

另外抽气的时间也要控制，太短会造成真空度不够，但太长又浪费资源，不过有真空机的存在，要控制好还是不成问题的（1）真空镀膜对环境的要求。

加工真空镀膜工艺衬底(基片)表面的清洁处理很重要。

基片进入镀膜室前均应进行认真的镀前清洁处理，达到工件去油、去污和脱水的目的。

基片表面污染来自零件在加工、传输、包装过程所粘附的各种粉尘、润滑油、机油、抛光膏、油脂、汗渍等物;零件表面在潮湿空气中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的气体。

真空镀膜厂家这些污物基本上均可采用去油或化学清冼方法将其去掉。

对经过清洗处理的清洁表面，不能在大气环境中存放，要用封闭容器或保洁柜贮存，以减小灰尘的沾污。

用刚氧化的铝容器贮存玻璃衬底，可使碳氢化合物蒸气的吸附减至最小。

因为这些容器优先吸附碳氢化合物。

对于高度不稳定的、对水蒸气敏感的表面，一般应贮存在真空干燥箱中。

清除镀膜室内的灰尘，设置清洁度高的工作间，保持室内高度清洁是镀膜工艺对环境的基本要求。

空气湿度大的地区，除镀前要对基片、真空室内各部件认真清洗外，还要进行烘烤除气。

要防止油带入真空室内，注意油扩散泵返油，对加热功率高的扩散泵必须采取挡油措施。

真空溅镀机真空系统常见故障及排除分析

前级真空度达不到可能原因：
① 同上①与④ ② 前级真空探头有油 ③ 前级真空阀无打开解决办法： ① 同上①与④ ② 清洁之 ③ 检查旁路阀及压缩气体供应最高级真空达不到可能原因： ① 真空仓门密封不良 ② 进气阀打开 ③ 系统内含水 ④ 在托盘转换期间有少许减弱 ⑤ 分子泵不工作 ⑥ 真空泵温度过高 ⑦ 真空探头检测不准确解决办法： ① 关好密封门 ② 检查 24V 电路及阀芯是否漏气，必要时更换气阀 ③ 查泄漏来源更换密封件，如轴封等。 ④ 做一个泄漏测试，必须时更换气弹簧及相关气阀。 ⑤ 检查水流量及电源 ⑥ 检查水冷系统 ⑦ 清洁真空检测探头。四、故障实例的分析与排除 1、现象：在抽真空时总达不到要求的真空度（如应达到 3.0×10-4bar；但检测结果总在 5.0×10-4bar 处停留，检查各级真空泵均无问题，且没有任何泄漏现象，并且通常是系统更换阴级罩后，重启动时发生。 2、分析：真空泵，既无异样，又无泄漏，应检查真空探头，因在生产过程中，铝粉沉积在真空仓内会弄脏真空探头，令其检测结果与实际值有差别。 3、解决办法：令系统在不工作状态，小心拆下真空探头，用专用工具拆下钨丝清洁，重装后 OK
真空溅镀机真空系统常见故障及排除分析
一、真空溅镀机原理真空镀膜是借助高能粒子轰击所产生的动量交换，把镀膜材料的原子从固体（靶）表面撞
出并放射出来。放在靶前面的基材拦截溅射出来的原子流，后者凝聚并形成镀层。轰击粒子一般是重惰性气体离子，最常用的是氩。镀层物质变成蒸气相是通过一原子规模的机械过程（动量交换）需在真空仓内的均匀磁电场内实现，通常采用直流放电，它不是化学过程或热过程，而且装置中的磁性区域可防止等离子体与基材接触，因此对基材几乎没有热形响。适合应用于产生光学反射击镀层，通常溅镀室内真空镀达到 3×10-3~3×10-5 bar 才可使系统正常工作。二、常用光盘反射层溅涂机

真空电镀常见不良现象及原因分析

无 1.将电流调小 .
2.将蒸镀时间调短 . 3.将转盘转速调快 . 4.将被镀物与发射源距离拉远 .
人员涂装手顺不熟练，涂喷枪精度差，出漆量不稳定 . 4 垂流问题点装漆膜过厚 .
油漆粘度太低 .
1.喷枪与被涂物之间距离太近 . 无 2.喷枪运行速度太慢 . 3.喷幅太小且喷量设置太大 .
1.静电除尘时一定要按除尘方法及规定离素材 3-5CM 正反面除尘（先反面后正面）。
尘衣、帽、鞋进入无尘室干燥炉、及烘箱滤网二星期更换内，不许携带有粉尘物品次 . 进入室内（例抹布、纸板 3.依年度设备保养落实
1 2.所用吸涂料的漆管一定要透过内盖挖孔密封且盖紧 .
依设备年度保养对换气滤网及无尘室设备进行 .
N.O 不良项目人员问题点人员身上携带粉尘 .
真空电镀常见不良现象及原因分析
设备
材料
方法
1.喷枪、邦浦长时间未清洗 .
1.产品表面粉尘附着 .
2.烘箱、干燥炉内部有粉尘 . 3.喷房或涂装设备滤网长时间未清洁更换 .
2.涂料长时间开口存放，有粉尘掉静电除尘时未将产品表面粉尘完
落在涂料中 . 全去除
3.涂料长时间存放有杂质未经
4.电镀炉内及电镀治具太脏 .
过滤 .
环境环境中有砂粒 .
1 砂粒对策
按规定人员必须穿带无
1.喷枪、邦浦规定 1 小时或喷完工 1.用台车按放之产品一定要放入
车清洁 1 次，每 2 个月更换 1 次有防尘罩之台车、用六格篮按放
2.规定每车产品烘烤前清洁烘箱、
之产品一定要用塑胶袋密封好 .
3 发黄对策
对员工进行教育训练多加练习 .
1.蒸著机设置条件不稳定 . 2.蒸著机电极短路 .

真空镀膜常见问题

真空镀膜常见问题真空镀膜是一种常见的表面处理技术，广泛应用于各个行业。

它可以提供一种均匀、耐磨、耐腐蚀的保护层，使物体表面具有更好的光学性能、机械性能和化学稳定性。

然而，在进行真空镀膜过程中，也会遇到一些常见问题。

本文将介绍一些常见的真空镀膜问题，并提供相应的解决方法。

1. 沉积速率不稳定：在真空镀膜过程中，沉积速率的稳定性是非常重要的。

如果沉积速率不稳定，可能会导致镀层厚度不均匀，甚至出现漏镀或过镀现象。

解决这个问题的方法是检查真空系统的泵速是否稳定，检查镀膜材料的纯度是否达到要求，以及检查镀膜设备是否存在漏气现象。

2. 镀层附着力不好：镀层附着力不好是真空镀膜过程中常见的问题之一。

这可能是由于基材表面存在污染物或氧化物，也可能是由于镀层材料与基材之间的相互作用不良所致。

解决这个问题的方法是在进行镀膜前对基材进行彻底的清洗和处理，确保基材表面干净无污染物，并选择合适的镀膜材料和工艺参数。

3. 镀层色差：在一些特殊应用中，需要得到均匀且具有一定颜色的镀层。

然而，在真空镀膜过程中，可能会出现镀层色差的问题，即部分区域的镀层颜色与其他区域不一致。

解决这个问题的方法是调整镀膜设备的工艺参数，确保沉积过程中温度、压力和沉积速率的均匀性，并选择合适的镀膜材料和镀膜工艺。

4. 镀层厚度不均匀：在一些应用中，需要得到均匀且具有一定厚度的镀层。

然而，在真空镀膜过程中，可能会出现镀层厚度不均匀的问题，即部分区域的镀层厚度较大或较小。

解决这个问题的方法是调整镀膜设备的工艺参数，确保沉积过程中温度、压力和沉积速率的均匀性，并对基材进行适当的旋转或倾斜，以提高镀层厚度的均匀性。

5. 镀层质量不理想：在真空镀膜过程中，可能会出现镀层质量不理想的问题，即镀层表面存在气孔、裂纹、颗粒等缺陷。

解决这个问题的方法是检查真空系统的泵速是否稳定，检查镀膜材料的纯度是否达到要求，以及检查镀膜设备是否存在漏气现象。

此外，还可以调整镀膜设备的工艺参数，改变沉积速率和温度等条件，以改善镀层质量。

真空镀膜底漆常见问题分析

问题7：缩孔现象，涂膜表面出现火山现象
原因
对应措施
底材污染（水、油、脱模剂）
检查污染源，并清洗干净
涂料污染
检查油水分离器
压缩空气污染
添加适量助剂或更换涂料
喷枪、空气管污染
清洁喷枪、管道
被作业人员污染
异丙醇清洗，并超声波清洁
问题8：颗粒现象，涂膜表面出现突出的颗粒
原因
对应措施
底材不平整
底材处理平整、干净
真空镀膜底漆常见问题分析
问题1：干燥不良：涂料固化不充分出现发白或发彩现象
原因
应对措施
溶剂挥发
不完全
流平温度过低或时间不足
提高温度，降低速度
涂膜过厚
加入适量稀释剂或降低喷漆流量
溶剂挥发速度慢
调整溶剂的挥发速度
固化不完全
传送带速度过快
降低传送带速度
UV灯老化
及时更换UV灯管
工件复杂导致部分UV能量辐射不足
压缩空气和环境中灰尘
检查空气净化系统
涂层太薄
增加涂层厚度
涂料中颗粒
用400目以上滤布过滤涂料
涂料消泡不尽
调整喷漆气压增加涂料的消泡性能
应对措施
底漆干燥不充分
加强底漆的固化
涂层过厚，内部干燥不充分
适当调整底漆的厚度，使底漆固化均匀
溶剂使用不当或者使用过量
调整溶剂的挥发速率
底漆被面漆的溶剂所融化
降低面漆的烘烤温度或调整面漆溶剂的极性
问题5：白雾现象，镀膜层呈牛奶色
原因
应对措施
底漆固化不完全
参考“干燥不良”
现场温度过高
除湿干燥
溶剂挥发过快导致水气凝露
底漆固化不完全
降低传送带速度

镀铝膜常见问题及分析

镀铝膜常见问题及分析真空镀铝是生产转移纸张中一道颇为重要的工序，也属于真空蒸镀的一种。

我们今天在这里讨论一下它的原理以及生产过程中常见问题。

一、真空蒸镀的原理真空蒸发镀膜（简称真空蒸镀）是在真空条件下，加热蒸发物质使之汽化，并沉积在制品表面形成固态薄膜。

真空蒸镀是采用各种形式的热能转换方式，使镀膜材料蒸发或升华，成为具有一定能量的气态粒子，气态粒子通过基本上无碰撞的直线运动方式传输到基体，粒子沉积在基体表面上并凝聚成薄膜，组成薄膜的原子重新排列或化学键组合发生变化。

二、真空镀铝机的主要构成真空镀铝工艺是在10-2-10-3Pa的真空条件下，使铝丝加热到1400摄氏度左右气化后附着在各种基膜上，形成真空镀铝薄膜，铝层厚度一般在35-55纳米。

真空镀铝机由真空抽气系统，蒸发系统，卷绕系统组成。

真空抽气系统由高真空泵，低真空泵，排气管道和阀门组成，此外还附有冷阱（用以防止油蒸汽的返流）和真空测量计等。

蒸发系统安装在蒸发腔内，内有蒸发源。

此外还有测量蒸发室的真空变化和蒸发时剩余气体压强的高真空计。

蒸发源是用来加热蒸发材料（铝）使之气化蒸发的部件。

目前真空蒸发的蒸发源主要有电阻加热，电子束加热，高频感应加热，电弧加热和激光加热等五大类。

三、镀铝膜常见问题及分析（一）擦伤1.涂布层擦伤：在镀铝后表现为表面不平整，有明显或有明显的划痕，用透明胶带或黄胶带拉后，在基膜上消失。

2.镀铝面擦伤：表现为明显划痕，对灯光可见呈向线条状，用透明胶带或黄胶带拉下，在基膜上消失。

容易导致此问题出现的原因：①隔板夹缝有异物；②导辊不干净，③轴承不灵活，④失速。

3.基膜背面擦伤：涂布镀铝工序均可导致此现象发生，表现为长短划痕，或线状或面状，具有规则和不规则性，镀铝工序出现此问题的原因：①水冷棍有异物粘其表面或不平整；②其它原因同上；（二）镀空线：轻微镀空线表现为出现线条状的浅白色线条，或斜向，或纵向，严重的一般表现为两条(多条)白色平行线条或斜向或纵向出现，其实质是基膜在卷绕系统的各部分没有很好的展平，其影响因素有：①膜的材质、变形、回用等因素；②卷绕系统各辊子之间的平行度；③弯辊的角度等各因素；④张力的调整。

真空镀膜机常见的故障和维修办法

真空镀膜机常见的故障和维修办法
当真空镀膜机出现故障后应首先要向使用者了解故障的现象，之后要亲自开机观察故障，这样才能更准确、更快、更合理的排除故障。

当真空镀膜机排除故障应先检测低真空是否正常（机械泵、罗茨泵、管道、下室、蒸发室），低真空正常后再开主泵，主泵正常后检测下室真空中是否正常，下室真空正常再开高阀进行高真空检测检漏，直至达到真空，极限真空、保真空、恢复真空，如极限真空和保真空正常，而恢复真空和真空不正常则可能主泵有问题。

以下列举真空镀膜机常见故障及维修方法：
一、当正在镀膜时真空度突然下降
1、蒸发源水路胶圈损环（更换胶圈）
2、坩埚被打穿（更换坩埚）
3、高压电极密封处被击穿（更换胶圈）
4、工转动密封处胶圈损坏（更换胶圈）
5、预阀突然关闭可能是二位五通阀损坏（更换二位五通阀）
6、高阀突然关闭可能是二位五通阀损坏（更换二位五通阀）
7、机械泵停机可能是继电器断开（检查继电器是否正常）
8、烘烤引入线电极密封处被击穿（更换胶圈）
9、挡板动密封处胶圈损坏（更换胶圈）
10、玻璃观察视镜出现裂纹、炸裂（更换玻璃）
二、长期的镀膜机抽真空的时间很长且达不到真空、恢复真空、极限真空、保真空：
1、蒸发室有很多粉尘（应清冼）
2、扩散泵很久未换油（应清冼换油）
3、前级泵反压强太大机械泵真空度太低（应清冼换油）
4、各动密封胶圈损坏（更换胶圈）
5、由于蒸发室长期温度过高使其各密封胶圈老化（更换胶圈）
6、蒸发室各引入水路密封处是否有胶圈损坏（更换胶圈）
7、各引入座螺钉、螺母有无松动现象（重新压紧）
8、高低预阀是否密封可靠（注油）
常见的真空镀膜机维修办法就先分享到这里了。

真空热蒸发镀膜的故障原因和处理方法

真空热蒸发镀膜的故障原因和处理方法关键词：真空,故障,处理1．镀铝层阳极氧化故障的排除氧化层表面有点状痕迹(1)预熔时电流过高或未加挡板。

应适当降低预熔电流及加设挡板。

(2)蒸发电流过高。

应适当降低氧化层表面有流痕印迹(1)镀件表面清洁不良。

应加强清洁处理。

(2)擦拭镀件时蘸用乙醇过多。

应减少乙醇的蘸用量。

(3)手指接触镀件表面后留下指印。

应禁止手指接触镀件表面。

(4)唾液喷溅到镀件表面，使镀层表面产生圈状印迹。

操作者应带上口罩氧化层表面有灰点(1)真空室底盘或室壁太脏。

应使用乙醇擦拭干净。

(2)夹具太脏。

应按工艺规程定期清洗夹具氧化层表面发红(1)阳极氧化电压偏低，氧化层厚度不够。

应将电压提高到120V左右。

(2)氧化时间太短，导致阳极氧化后表面发红。

应适当延长氧化时间氧化层表面发花(1)氧化电压太高，氧化层部分发蓝。

应适当降低电压。

(2)各氧化点的电压或氧化时间不相同。

应使各氧化点的电压和氧化时间保持一致。

(3)电解液温度太高。

应适当降低氧化层表面发黄(1)氧化电压太高，氧化层太厚。

应适当降低电压。

(2)氧化时间太长。

应适当缩短。

(3)氧化点太多。

应适当减少氧化层表面有灰白细点(1)溶液中铝含量增加。

应更换部分溶液。

(2)电解液温度太高。

应适当降低。

(3)镀件水洗不足，表面残留电解液，在水分或潮湿气体作用下形成灰白色的氢氧化铝细点。

应加强脱脂处理。

(2>真空度太低。

应适当提高蒸发时的真空度。

由于铝是易氧化的金属，又容易吸收氧，在低真空度下蒸发，会因吸收剩余气体而形成茶褐色的氧化膜，导致反射率降低，镀层易起泡脱落。

真空镀膜膜层脱落原因

真空镀膜膜层脱落原因
真空镀膜的膜层脱落常见的原因有以下几种：
1.基材表面处理不当。

在真空镀膜之前，基材表面必须经过充分
清洗、去污、除油等处理工序，以保证膜层与基材之间的附着力。

如
果基材表面没有得到足够的清洁和处理，且未与薄膜材料良好结合，
则会导致膜层脱落。

2.薄膜材料本身质量差。

薄膜材料的选择也是影响膜层质量和脱
落的重要因素。

如果使用的薄膜材料质量差且与基材表面亲和力不强，则膜层易脱落或者在使用过程中容易受损。

3.运行条件控制不当。

真空镀膜在运行过程中需要控制承载基材
的温度、真空度、镀膜速度及镀膜气氛等多个参数，如果这些参数控
制不当，也会造成膜层脱落。

4.机器设备及工艺流程不足。

真空镀膜设备和工艺流程的选择和
控制，对于膜层质量和脱落问题也有很大影响。

如果设备和流程不足，可能会影响膜层粘附力和均匀性，造成膜层脱落的问题。

真空镀膜过程中常见问题分析精选文档

因
染料的相溶性不好
检查染料与面漆的相溶性，更换染料
面漆中加入的稀释剂过多
减少稀释剂的用量，或提高涂料本身的固体含量
空气气压过低或过高
调整气压，涂料雾化充分，调整喷枪合适的距离
涂料的喷涂量过多
在遮盖的情况下尽量喷薄
真空镀膜底漆常见问题分析
底漆常见问题分析
?
1、干燥不良：涂料固化不充分出现发白或发彩现象
1.底漆附着不佳
2.面漆咬底
1．调整或更换底漆
2．面漆与底漆不配套，使用同一厂家的配套涂料
颗粒,麻点
1.空气中较多灰尘、杂质
2.涂料受污染
1．净化空气
2．用500目滤网过滤涂料
硬度不好
1．能量太低，固化不完全
பைடு நூலகம்2．油漆不配套
3．油漆本身硬度稍差
1．调整固化能量
2．使用配套涂料产品
3．调整涂料配方
起缩孔,火山口
3.稀料挥发慢
4.出漆量大
5.涂料光泽高
1.降低喷涂黏度
2.控制膜厚
3.调整喷枪
4.补加消光剂
颗粒
1.底材未处理干净
2.涂料中有颗粒
3.空气杂质多
1.处理好底材
2.用相应的过滤网过滤涂料
3.空气过滤
掉漆
1.底材未处理干净
2.施工黏度太高
3.稀料溶解力太弱
4.涂料本身附着差
1.处理好底材
2.调整施工黏度
3.换用溶解力强的稀料
4.调整涂料配方
机壳UV面漆常见问题分析
机壳UV面漆常见问题分析
出现问题
原因分析
解决办法
附着力不良掉面漆
1.溶剂挥发不完全
2.底漆被污染

卷绕真空镀膜厚度不均匀的原因

卷绕真空镀膜厚度不均匀的原因
卷绕真空镀膜厚度不均匀的原因可能有以下几个方面：
1. 不同工作区的尺寸差异：如果待镀膜的产品尺寸差异较大，可能会影响镀膜的均匀性。

例如，面积较小的产品电流密度大，镀层就会较厚，而面积较大的产品电流密度小，镀层就会较薄。

2. 机架接触不良：如果机架的接触不良，实际电流密度会降低，导致镀层变薄。

3. 真空度和磁场强度不均匀：在磁控溅射镀膜过程中，真空度和磁场强度的不均匀会影响膜层的均匀性。

4. 氩气供应不均匀：氩气供应的不均匀会导致真空室内压强变化，从而影响膜层的均匀性。

为了解决这些问题，可以采取以下措施：
1. 尽量保持待镀膜产品的尺寸一致，避免过大或过小的尺寸差异导致电流密度不均。

2. 定期检查和维护机架，确保接触良好，电流能够顺畅通过。

3. 控制好真空度和磁场强度，确保其在所需范围内，以保证膜层的均匀性。

4. 优化氩气供应系统，使氩气供应更加均匀，以控制好真空室内压强变化。

此外，熟练操作真空镀膜机，控制好各项参数，也能提高真空镀膜的均匀性。

ITO镀膜常见问题

ITO镀膜常见问题总汇现在的企业中，工业化的ITO镀膜生产，多是运用真空磁控溅射技术来完成的。

真空镀膜技术无论从时间上，还是从生产运用上说，都还是一种新型的镀膜工艺。

在我们ITO镀膜生产过程中，或多或少都会遇到各种各样的，人为的或者设备方面的问题。

而且很多问题往往不是单一的，而是几个问题相互作用相互影响形成的。

下面就根据以前ITO生产工作中的经历，总结出的一些ITO镀膜可能会遇到的问题。

一、镀膜过程中设备传输速度不平稳在这种情况下，会导致镀在基片上的ITO膜，厚度不均匀，用四探针进行测量时，会发现同时镀出来的基片，膜面各点方块电阻不一致，从而导致生产出来的镀膜产品，工艺达不到相应的要求。

这种情况，可以通过改进设备，或者通过调节传动中提供动力的伺服电机的转速，来逐渐的改变膜的均匀。

二、膜面放电镀膜在真空室里放电现象在实际的生产中会时常遇到的现象主要原因如下1、基片距离靶材过于接近。

靶材和基片距离大于15cm基本就没有问题。

2、靶面、真空室、基片不清洁，具有尖端放电现象。

这需要在每次的生产前和生产结束后，分别对箱体、靶材进行彻底的清理，并且在每次生产的时候，基片进镀膜室前必须保证清洗干净。

3、反应气体过多，溅射气体较少，使得箱体内化学反应过于强烈而溅射达不到要求。

由于现在用于ITO生产的靶材都是陶瓷靶，其中氧化铟锡中的比例已达到要求，在具体的生产中，可以根据工艺情况，少通或者不通反应气体氧气，只对溅射的箱体提供溅射气体氩气。

三、ITO靶材中毒1、靶材在空气中长期放置，导致表面生成氧化物。

2、冷却水失效，导致靶材温度过高。

这种情况下问题严重的可能导致熔靶，使靶材从基板脱落。

定期对冷却水道进行清理疏通。

3、箱体密封不严，有漏气现象，导致有杂质气体，另外箱体的气流也不平稳，所镀膜的工艺个达不到要求。

每次抽气后都要进行严格的检漏，保证箱体密封完好。

4、处置不当。

刚刚工作过的靶，在没有充分冷却就放气，也可能导致靶中毒。