一种基于B样条密度法的自支撑结构拓扑优化设计方法[发明专利]

专利名称：一种基于B样条密度法的自支撑结构拓扑优化设计方法
专利类型：发明专利
发明人：王彻,张卫红,周璐,高彤
申请号：CN202010726695.7
申请日：20200725
公开号：CN111814383A
公开日：
20201023
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明提供了一种基于B样条密度法的自支撑结构拓扑优化设计方法。

首先采用B样条函数表示结构的密度场，通过求导得到密度场的梯度，并根据梯度模以及曲率半径的大小确定结构的边界区域。

在边界区域内通过梯度方向计算出边界的倾斜角，并且构造倾角约束，从而控制边界处倾斜角大于设备规定的临界角度。

此外，根据不同的成型方向，构造包含结构域的矩形区域，在区域内布置若干均匀分布的检测点，并通过控制这些检测点处密度值之间的关系实现结构内V型区的消除。

通过以上两个约束实现结构的自支撑设计。

申请人：西北工业大学
地址：710072 陕西省西安市友谊西路127号
国籍：CN
代理机构：西北工业大学专利中心
代理人：陈星
更多信息请下载全文后查看。