一种T1-T2双模态超高场磁共振造影剂及其制备方法和应用[发明专利]
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专利名称:一种T1-T2双模态超高场磁共振造影剂及其制备方法和应用
专利类型:发明专利
发明人:凌代舜,李方园,白瑞良,汪瑾
申请号:CN202010982219.1
申请日:20200917
公开号:CN112274657B
公开日:
20220401
专利内容由知识产权出版社提供
摘要:本发明涉及一种T1‑T2双模态超高场磁共振造影剂,包括磁性纳米粒子,修饰在其表面的水溶性配体以及通过化学偶联修饰在其表面的水溶性高分子。该造影剂在体内呈现良好的超高场磁共振造影效果,可以通过T1‑T2双模态磁共振成像对肿瘤血管通透性进行准确、灵敏度高的评估。本发明还涉及T1‑T2双模态超高场磁共振造影剂的制备方法及其在制备磁共振纳米造影剂中的应用。其制备方法的反应条件可控,产物尺寸均一,形貌良好,产物生物安全性高,具有良好的临床转化可能性。
申请人:浙江大学
地址:310013 浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号
国籍:CN
代理机构:杭州天勤知识产权代理有限公司
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