化学镀Ni—P合金镀层孔隙率的影响因素

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卢旭东，邵忠财
（阳理工大学环境与化学工程学院，宁沈阳沈辽１０６）１１８
摘要：钕铁硼化学镀Ｎｉ — Ｐ合金层的孔隙率与镀层的耐蚀性有很大的关系。以铁氰化钾为指示剂采
用贴滤纸法测定钕铁硼化学镀Ｎｉ — Ｐ合金层的孔隙率，究了镀液ｐ温度、研Ｈ、主盐、原剂及络合剂还浓度对化学镀Ｎｉ — Ｐ合金层孔隙率的影响，确定最佳的镀液参数，并通过扫描电镜验证实验结果。结果表明：隙率随着镀液组成、Ｈ及温度的增加而先减小后增加。孔ｐ关键词：钕铁硼；学镀；隙率；耐蚀性； — 化孔ＮｉＰ合金
１０１８，Ｃｈｎａ１６ｉ）
Ａｂｔａｔ：ｒｏｓｏｅｉｔｎｃｆｔｅｅｅｔｏｅｓｐａｉｏｔｎｇｉｉｅｔｙｒｌｔｄｗｉｈｔｏｏｉｓｒｃＣｏｒｉｎｒｓｓａｅｏｈｌｃｒｌｓｌｔｎｇｃａｉｓｄｒｃｌｅａｅｔｈｅｐｒｓ—
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中图分类号：ＴＱ１３２５．文献标识码：Ａ
ＦａｔｒｆｃｉｇＰｏｏｉｙｏｈｅＥｌｃｒｌｓｃｏｓＡｆｅｔｎｒｓｔｆｔｅｔｏｅｓ
ＮｉＰｌｙＣｏｔｎ — Ａｌｏａｉｇ
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维普资讯
２０年１月０７１
电镀与精饰
第２卷第６总１７９期（７期）
文章编号：０１３４（０７０ — ０１０１０ — ８９２０）６００ —３
化学镀Ｎｉ — Ｐ合金镀层孑隙率的影响因素Ｌ
适合当今电子设备向小型、轻量、携、可靠性等便高
方向发展的趋势，在电子工业、车制造、正汽冶金工
在钕铁硼表面采用化学镀的方法可以得到耐蚀性能良好的Ｎｉ — Ｐ合金镀层。但是，由于在化及微特电机等方面获得越来越广泛仪
目
的应用ｌ］】。但钕铁硼非常活泼，表面极易氧化和腐蚀，环境稳定性差，的晶界富钕相易氧化及吸氢粉它化是导致磁体耐蚀性差的主要原因［。３］
由于钕铁硼永磁体具有显著的高性价比，型成加工方便且精度高、性好、易破坏等特点，韧不非常