NCVM技术宝典

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NCVM工艺简介ppt课件

NCVM工艺简介ppt课件


高 效
3
PVD 與 NCVM 製程介紹
VM:
Vacuum Metallization 真空金屬化

C-VM:

Conductive VM 導電真空鍍膜
诚 信
NC-VM: Non-conductive VM 非導電真空鍍膜
TNCVM:

Tinted-NCVM 染色非導電真空鍍膜

4
1、蒸鍍


Evaporation
诚 信
高 效
PVD 與 NCVM 製程介紹
Substrate Cloud Material
Vacuum chamber
Heater
5
PVD 與 NCVM 製程介紹
2、濺鍍
专 业

Target

高 效 Argon
Gas
Coating Atoms/ Molecule
Substrate
Cathode (-) Secondary Electrons Plasma
转序
真空电镀
面漆喷涂
中漆喷涂
三涂产品生产工艺流程
極負極 Sn絲蒸發
源(鎢絲)
電極銅棒
﹢ ﹣﹢
17
NCVM工艺原理
真空电镀结构 专 业
诚 信
表面涂层

中间涂层

真空电镀层
底部涂层
基材
(PC+ABS /PC/ABS/PA+GF)
产品是否需要中涂,视产品性能要求而定。一般产品直接在面涂中上色即可
18
NCVM工艺原理
专 业

清洗除尘

高 效

NCVM制程介绍

NCVM制程介绍
2008/06 14
NCVM的开发 的开发
如果成型素材的的VM面是 镜面, 特别是insertmolding件,在产品成型后 就会出现有很多的成型问 题(如:应力痕, 熔结痕,缩 水,麻点等问题), 到VM后 会将所有的缺陷放大,导致 良率很底, 所以我们可以 建议客户将模具的镜面改 成VDI-09的表面处理形式 (目前Lido 的front housing就是采用这种做 法).
2008/06 15
NCVM的开发 的开发
C.有的侧壁需要VM,但是下表面又不能VM到的状况,在设计VM 治具时可以在治具上加上一个大的倒角,利用VM金属的反弹 到侧壁上;
2008/06
16
NCVM的开发 的开发
此超声波线 不能做VM
此面是斜面 侧壁是VM面 由于客户要求此产品侧避进行VM,而且所以需要将绿色的遮蔽治具倒一个大 斜(如图红色面),这样才能喷到侧壁的VM面.
2008/06 24
2008/06
25
波形在设定值的上下限之间 测试结果OK 测试结果
2008/06 22
NCVM的性能检测 的性能检测
2.皓石针探测仪测试原理
首先通过Network Analyzer测试临界NG和OK的 产品来校正Stud Scanner,得出测试允收范围, 然后产线才通过Stud Scanner全检产品,品管则 通过Network Analyzer抽检35pcs/shift,如果 , 出现异常,以Network Analyzer测试结果为准.
TNCVM= Tinted NCVM
2008/06
7
NCVM工艺原理 工艺原理
电阻加热蒸发式真空镀膜机
2008/06 8
NCVM工艺原理 工艺原理

真空镀膜(ncvm)工艺培训教材PPT课件

真空镀膜(ncvm)工艺培训教材PPT课件

颜色不纯
由于反应不完全或杂质污染,膜层可能呈 现出不纯或斑驳的颜色。
分析方法
X射线衍射(XRD)
能谱分析(EDS)
分析膜层的晶体结构和相组成。
附着力测试
对膜层进行元素分析,了解各元 素的分布和比例。
通过划痕、拉拔等试验测定膜层 与基材之间的附着力。
显微观察
通过金相显微镜观察膜层的微观 结构,了解其均匀性、孔隙和缺 陷。
05
真空镀膜(NCVM)问题与 解决方案
常见问题
表面粗糙度大
镀膜后的表面粗糙,影响外观和使用性能 。
膜层不均匀
镀膜过程中,由于气体流动、温度分布不 均或反应物供应问题,可能导致膜层在表 面分布不均。
附着力差
镀膜层与基材之间可能存在弱附着力,导 致镀膜容易剥落。
孔隙率过高
膜层中存在过多的孔隙,影响其防护和装 饰效果。
04
真空镀膜(NCVM)技术参 数与优化
工艺参数
真空度
真空镀膜过程中,需要控制真空室的 真空度,以确保膜层的均匀性和附着 力。
温度
镀膜过程中,基材的温度对膜层的附 着力和性能有影响,需根据不同材料 和镀膜要求进行温度控制。
镀膜时间
镀膜时间的长短直接影响膜层的厚度 和均匀性,需根据工艺要求进行精确 控制。
防护眼镜
保护操作人员的眼睛免受镀膜过程中产生的 有害物质和紫外线的伤害。
夹具
用于固定基材,确保其在镀膜过程中位置稳 定。
手套
保护操作人员的手部免受镀膜过程中产生的 有害物质和高温的伤害。
03
真空镀膜(NCVM)工艺流 程
前处理
表面清洗
使用有机溶剂和超声波清洗技术去除 工件表面的污垢、油脂和杂质,以确 保镀膜层的附着力。

NCV5-基础框架技术红皮书

NCV5-基础框架技术红皮书

第3章 开发模型
(图5-1)开发模型 系统前端为UI代码,UI代码通过远程组件与服务器端进行交互,中 间传递的数据模型为VO,远程组件调用底层的业务实现代码,完成整个 交互逻辑。通过JDBCFramework,系统提供了一套良好的数据持续机 制,解决数据库交互的复杂问题。
针对上面的卡法模式,我们规范一下代码的包结构: nc.itf.<模块>: 表示该模块定义的接口 nc.impl.<模块>:表示该模块定义的接口实现 nc.vo<模块>: 表示VO的实现 nc.bs.<模块>: 普通的后台应用 nc.ui.<模块>.*: 客户端代码 表示包模块的部分在包的第三个部分,如 nc.bs.schedule,中的schedule,在
package nc.itf.sample.service; public class IHelloWorld { String sayHello(String toName); }
2. 实现该接口:
package nc.impl.sample.service; public class HelloWorldImpl implements IHelloWorld { public String sayHello(String toName) { String retValue = "Welcome " + toName + " explore V5"; System.out.println(retValue); return retValue; }
第4章 开发远程组件
V5.0版本的远程组件开发是基于接口,因此远程组件的开发按照下面两 个步骤开发: 1) 定义远程接口,注意这里的远程接口不用实现java.rmi.Remote接 口,普通接口就可以了 2) 对该接口进行实现 3) 把该组件部署为远程组件 下面以HelloWord为例子:

Summary of NCVM

Summary  of   NCVM

Summary of NCVM从2005年开始,市面上著名的品牌手机在外壳用到了一种新的金属镀层,但又不导电,可以处理好静电和射频的问题;英文缩写为NCVM: No contact V acuum Material;目前技术上也趋于成熟,为了便于今后在项目上的应用,在此作一下简单工艺介绍.真空镀:就是指在真空状态下的物理气象沉积。

包括真空蒸镀(Evaporation);;真空溅镀(Supttering);真空离子镀(ion plating).真空镀并不是真空电镀。

因真空镀的方式不同对基础材料的要求也不同。

(涉及的材料的耐热变形)。

而手机上目前使用较为普遍的是塑料外壳,而此类材料的变形温度是有限的,能满足在这类材料上的真空镀目前也就两种:1:蒸镀(Evaporation);2:离子溅镀(Supttering);下面就这两种工艺简单叙述一下其工作原理及镀膜性能:一: 蒸镀(Evaporation);真空蒸镀金属薄膜是在真空条件下,将金属通过不同的加热方式(如电阻加热,高频加热等)蒸发,然后沉积基材的表面而形成一层薄膜的一种新工艺。

基材既可以是金属也可以是非金属;被镀金属材料可以是金、银、铜、锌、铬、铝等,其中在手机外壳上用的最多的是铝和铬。

1、镀膜基材真空蒸镀工艺对被镀基材有以下几点要求:1)耐热性好,基材必须能耐受蒸发源的辐射热和蒸发物的冷凝潜热。

2)从基材上产生的挥发性物质要少;吸湿性大的基材,应在镀膜前进行处理。

3)基材应具有一定的强度和表面平滑度。

4)对蒸镀层的粘接性良好;对于PP、PE等非极性材料,蒸镀前应进行表面处理、以提高与镀层的粘接性。

常用的手机基材PC;PC+ABS;ABS都能用做基材2.真空蒸镀原理。

将被镀基材装在真空蒸镀机中,用真空泵抽真空,使蒸镀机中的真空度达到1.3×10-2~1.3×10-3Pa,根据设备或成膜材料的特点使用不同的加热方式使高纯度的金属在一定温度下溶化并蒸发成气态金属。

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应用密码学(协议算法与C源程序-----------Bruce Schneier
网络信息安全的真相-----------Bruce Schneier
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C++编程思想(第2版)第2卷:实用编程技术 --------Bruce Eckel
C++程序设计--------------------------谭浩强
C++ 程序设计教程(第2版)--------------钱能

NCVM不导电电镀技术

NCVM不导电电镀技术
NCVM即Non-Conductive Vacuum Metallization 之缩写,
也就是所谓的不连续电镀,不导电电镀。
1. 此工艺打破传统,使用塑料基材来达到表面金属化(金属感)让产品外 观看起来更有强烈的金属质感,且不会造成电子干扰不仅颜色多样 化,且大大降低使用金属件,使客户改用塑料制品让成本更具竟争力, 并且符合市场环保要求,渐渐成为市场上的一个新趋势。
2. NCVM多使用在手Notbook,手机,蓝芽 耳 机….等电子通讯产品。
3.NCVM 通常使用< SI硅> < SN锡> <锡铟合金 >等不导电的材料进行镀膜用.
7
NCVM Process Flow
成形品(Raw Material) 素材清洁(cleaning) 烘烤(heating) 底 涂(Under Coat) 蒸 着(NCVM)
送入真空腔体内
启动抽气系统 至设定真空值 (冷冻机自动开启)
镀膜开始
启动蒸镀开关 (蜂鸣器响)
蒸镀条件确认
开启蒸发源电流 (蒸镀作动)
关蒸发源电流 抽气阀门开启 冷冻机除霜 破真空取
蒸镀中观察窗
6
What Is Non-Conductive Vacuum Metallization?
产能评估: 16 K/20 H/1 Day/1 Line 25 Days/1 Month 400 K/1 Month/ 1 Line可能作成 400*80%=320K 推估良率 (以右则样品为例)
48mm
11
NCVM Equipments (Photo)
12
THE END
13
面 涂 (Top Coat) 成品(products)

NCVM制程 简介

NCVM制程 简介

Ncvm Quality Control
Ite m Inspection method 2H pencil 2H铅笔 2H铅笔 Drawing dim. Nominal surface hardness (10N/50mm) 表面硬度(10N/5 (10N/5条 表面硬度(10N/5条) cross test 百格測試 (175g/250cycles) 耐磨耗性(175g/250 (175g/250回 耐磨耗性(175g/250回) abrasive resistance(175g/1000cycles) 耐磨耗性(175g/1000 (175g/1000回 耐磨耗性(175g/1000回) ethanol resistance(dip in2H) 耐酒精測試(浸泡2H) 耐酒精測試(浸泡2H) high temp.resistance( 90% 65℃ 96H) 耐高溫測試( 90% 65℃ 96H) low temp. resistance( -40℃ 96H) 耐低溫測試( -40℃ 96H)
NCVM 概論
(Non Conductive Vaccum Metalization) In Brief
Contents
Evaporation& Sputter What is Non-Conductive Vacuum Metallization (NCVM)? NCVM Process Flow NCVM Production Line Layout Coxon’s NCVM Production Capacity
蒸鍍(Evaporation)原理 蒸鍍(Evaporation)原理 (Evaporation)
表面蒸著即是真空蒸鍍, 表面蒸著即是真空蒸鍍,其原理是在 真空中把製造薄膜的物質加熱蒸發並 使其蒸氣附著在部品適當的表面的過 程。蒸發的過程就是熱交換的過程, 蒸發的過程就是熱交換的過程, 用這種方法製作的薄膜稱爲真空蒸鍍 薄膜。 薄膜。

真空镀技术-NCVMPPT课件

真空镀技术-NCVMPPT课件

生产效率低
由于需要抽真空和加热等前期 准备和后处理工作,导致生产
效率相对较低。
对环境要求高
真空镀技术需要在高度洁净的 环境中进行,对环境要求较高

操作难度大
真空镀技术需要专业人员进行 操作和维护,操作难度较大。
真空镀技术的改进方向
提高效率
通过改进工艺和设备, 提高生产效率和降低成
本。
扩大应用范围
研究新的镀膜材料和工 艺,以扩大真空镀技术
真空镀技术的发展趋势与未来展望
01
02
03
智能化与自动化
随着科技的发展,真空镀 技术将趋向于智能化和自 动化,提高生产效率和产 品质量。
新材料与新工艺
未来真空镀技术将不断探 索和应用新材料、新工艺, 以满足更广泛的应用需求。
绿色环保
随着环保意识的提高,真 空镀技术将更加注重绿色 环保,减少对环境的负面 影响。
加热的方式有多种,如电阻加热、高频感应加热等,根据不同的材料和需求选择合 适的加热方式。
需要控制加热温度和时间,以获得最佳的镀膜效果。
镀膜
在镀膜阶段,蒸气分子在待镀 表面凝结并形成固态薄膜。
控制镀膜的厚度和均匀性是关 键,可以通过调节蒸气流速、 温度和时间等参数来实现。
镀膜过程中需要注意防止杂质 和污染物的引入,以保证镀膜 的质量和性能。
镀后处理
镀后处理包括冷却、退火、清洗等环节,以优化镀膜的机械性能和稳定性。
冷却过程需缓慢进行,以减少热应力对镀膜的影响。退火处理则可以提高镀膜的 晶格结构和致密度。清洗环节则主要是去除残留物和污染物,提高镀膜表面的清 洁度。
04
真空镀技术的设备与装 置
真空泵
01
02
03

NCV5-公式技术红皮书

NCV5-公式技术红皮书

NCV5-公式技术红皮书-------------精选文档-----------------公式技术红皮书NC-UAP 5.0用友NC-UAP2020-05-06目录第一章新版公式使用手册 (1)1.公式主要功能 (1)2.公式的基本使用方法 (3)2.1创建公式执行器 (3)2.2设置公式执行器环境 (4)2.3设置公式的值 (4)2.4对公式进行语法检查 (5)2.5提取公式变量 (6)2.6给公式变量赋值 (7)2.7取得公式的值 (8)3.数值型计算结果小数位的控制 (8)4.自定义变量的使用 (10)5.如何从公式中提取变量 (13)6.空值””,NULL值及Zero值的处理 (15)7.如何进行列操作 (18)8.利用自定义函数扩展公式功能 (19)9.外接函数的使用 (21)10.运算符重载 (22)11.公式简单调试 (24)附录1公式解析器内置变量列表 (26)附录2公式解析器内置公式列表 (26)1.数学运算函数 (26)2.条件判断函数 (32)3.数据库查询函数 (35)4.字符串相关函数 (38)5.日期函数 (40)6.类型转换函数 (41)7.货币金额函数 (42)8.多语言翻译函数 (46)9.其他函数 (47)第一章新版公式使用手册1. 公式主要功能1. 支持一般的算术运算+,-,*,/,?,%例如: sin(1.35)*a/b + cos(3.4)/c其中a,b,c均为变量2. 支持对数值型计算结果小数位的控制3. 支持逻辑运算符&&(兼容老版&),||(兼容老版|),!例如: iif((a&b)||(c&&d),"right","wrong")其中a,b,c,d均为变量4. 支持比较运算符>,>=,<,<=,==,!=等,支持null值的处理。

例如: iif((a>b && a != null)||(c<=d),"right","wrong")其中a,b,c,d均为变量5. 支持自定义变量,变量可按Object和String两种方式传入例如: col1->var1+var2其中var1,var2均为自定义变量,可以为String型,也可以为任意类型6. 公式除了支持String,Number型数据运算,还支持自定义类型例如: combine(vo1,vo2)其中vo1,vo2可为自定义的数据类型,具体用法参考后面的说明7. 支持操作符(+,-,*,/,>,>=,<,<=,==)重载(通过实现相应的接口)例如: iif((car1>car2)||(factory1<=factory2),"right","wrong") 其中car1,car2,factory1,factory2的运算符通过实现相应的接口进行重载。

NCV5-外部交换平台技术红皮书

NCV5-外部交换平台技术红皮书

NCV5-外部交换平台技术红皮书此文件受到UFIDA的保护, 并已在保护中心注册, 外泄必纠! UFIDAGUID1{9B556DBC-1AC6-8F37-3BF6-71C56F13F30F} UFIDA GUID1{A4D3866A-8E0A-C39D-50D4-050B0F9DB068}外部交换平台实施技术红皮书NC-UAP 5.0用友NC-UAP 2021-08-18目录第一章1. 2. 3.第二章1.1.11.22. 3.3.1 3.2 3.34.4.1 4.25.5.1 5.2 5.3 5.4 5.5 5.6 5.7 5.86.6.1 6.2第三章1.1.1 1.2 1.32.2.1 2.2 2.3总体概述 ........................................................................... . (1)外部交换平台总体结构...........................................................................1 外部交换平台功能特点...........................................................................1 外部交换平台V50版新增功能 (2)实施简介及相关注意点 (4)实施方法简介............................................................................ (4)外系统数据导入的一般步骤 ........................................................................... ........ 4 外部交换平台服务器端文件目录结构 (5)Servlet的URL地址参数与XML交换文档头属性的关系 ................. 7 向NC 系统发送数据方式 (8)手动界面发送 ........................................................................... ................................ 8 后台预警发送 ........................................................................... ................................ 9 自定义程序发送 ........................................................................... .. (11)回执及异常出错信息 (12)回执格式 ........................................................................... ...................................... 12 异常和错误编码 ........................................................................... .. (12)外部交换平台总体参数设置 (13)单据导入方式 ........................................................................... .............................. 13 单篇最大传输上限 ........................................................................... ...................... 14 导入过程是否记录中间文件 ........................................................................... ...... 14 外部系统默认帐套 ........................................................................... ...................... 14 设置客户端IP范围 ........................................................................... .................... 14 接收公司匹配规则 ........................................................................... ...................... 15 回执文件后台备份 ........................................................................... ...................... 15 回执和导出文件编码格式 ........................................................................... . (15)单据流水号和单据并发控制 (15)单据流水号的概念和作用 ........................................................................... .......... 15 单据并发控制 ........................................................................... (16)单据交换规则定义 (17)基础篇―简单单据配置 (17)表头记录的配置 ........................................................................... .......................... 19 表体记录的配置 ........................................................................... .......................... 20 字段属性项的配置 ........................................................................... . (21)高级篇―复杂字段配置 (29)VO记录的配置规则 ........................................................................... ................... 29 简单数组记录的配置规则 ........................................................................... .......... 31 VO数组记录的配置规则 ........................................................................... .. (33)第 2 页2.4 2.5 简单集合记录的配置规则 ........................................................................... .......... 35 VO集合记录的配置规则 ........................................................................... .. (37)第四章1. 2. 3. 4.基于外部交换平台的单据集成开发 (43)注册单据相关信息............................................................................ ..... 43 生成&配置交换规则定义文件............................................................. 46 辅助信息项设置............................................................................ ......... 49 插件代码维护............................................................................ . (50)第 3 页第一章总体概述1. 外部交换平台总体结构日志和中间文件整理服务基础数据对照表辅助信息配置外系统自动发送数据手动加载数据XML数据包XML数据包ServletXML数据包接收外系统的文档XML数据包XML处理器解析数据并翻译转换NC业务模块适配器NC财务业务模块NC供应链业务模块自动加载代理外系统接收代理NC基础数据模块外部交换平台数据高速缓存外部系统注册转换规则定义图 1.1.1 外部交换平台总体结构图外部数据交换平台主要用于外部系统和NC系统进行集成。

NCV5-轻量级组件技术红皮书

NCV5-轻量级组件技术红皮书

NC Rich Client 轻量级组件技术红皮书NC-UAP 5.0用友NC-UAP2015-10-28目录第一章前言 (1)1.文档介绍 (1)2.概述 (1)3.组件整体继承关系介绍 (1)第二章各组件详细设计与使用方法介绍 (3)1.BaseComponent (3)2. ModalDialogComp…………………………………………………………………2.ConfirmDialogComp (8)3.MessageDialogComp (11)4.WarningDialogComp (13)5.ErrorDialogComp (15)6.ProgressDialogComp (16)7.PanelComp (18)8.TabComp (23)9.ButtonComp (26)boComp (28)11.ListToListComp (31)12.StringTextComp (33)13.IntegerTextComp (35)14.DateTextComp (36)15.FloatTextComp (38)16.TreeViewComp (39)17.OutLookBarComp (43)18.SliderbarComp (44)19.GridComp (46)第一章前言1. 文档介绍✓文档目的该文档主要面向NC Rich Client的开发和使用人员,通过系统介绍每个组件的构成,外观定制(css),使开发人员具体了解每个组件的结构,使使用人员了解每个组件的使用方法,能够轻松自如的使用每个组件。

✓文档范围NC Rich Client的维护,作用于组件的开发阶段和维护阶段。

✓读者对象NC Rich Client轻量级组件的开发人员、维护人员、项目负责人、项目核查人员及使用人员。

2. 概述在为传统的web应用编写HTML页面的时候,页面编写者只有非常有限的一套预定义GUI组件,即HTML表单元素。

NCVM

NCVM

电镀技术作为一种功能精饰技术,其合金镀层具有优异的耐磨性、耐蚀性、镀层厚度均匀性、致密度高等特点,已在电子产品中获得大量应用。

随着电子工业的迅猛发展,对电镀技术的要求越来越高,新技术、新产品、新工艺层出不穷。

NCVM又称不连续镀膜技术或不导电电镀技术,是一种起缘普通真空电镀的高新技术。

真空电镀,简称VM,是vacuum metalization的缩写。

它是指金属材料在真空条件下,运用化学、物理等特定手段进行有机转换,使金属转换成粒子,沉积或吸附在塑胶材料的表面,形成膜,也就是我们所谓的镀膜。

真空不导电电镀,又称NCVM,是英文Non conductive vacuum metalization的缩写。

它的加工工艺高于普通真空电镀,其加工制程比普通制程要复杂得多。

编辑本段特点NCVM是采用镀出金属及绝缘化合物等薄膜,利用各相不连续之特性,得到最终外观有金属质感且不影响到无线通讯传输之效果。

首先要实现不导电,满足无线通讯产品的正常使用;其次要保证“金属质感”这一重要的外观要求;最后通过UV涂料与镀膜层结合,最终保证产品的物性和耐候性,满足客户需求。

NCVM可应用于各种塑料材料,如PC、PC+ABS、ABS、PMMA、NYLON、工程塑料等,它更符合制作工艺的绿色环保要求,是无铬(Non-Chrome)电镀制品的替代技术,适用于所有需要表面处理的塑料类产品,特别适用于有讯号收发的3C产品,尤其是在天线盖附近区域,如MobilePhone、PDA、Smart Phone、GPS卫星导航、蓝芽耳机等。

NCVM的主要特征是结合了传统真空镀膜技术的特性,采用新的镀膜技术、新的材料,做出普通真空电镀的不同颜色的金属外观效果,起到美化工件表面之功用。

采用NCVM技术制出的成品可以通过高压电表几万伏特的高压测试,不导通或不被击穿。

正是因为它的不导电性,当手机或蓝牙耳机收讯或是发射讯号时,产生的电磁场不被导电的镀层所屯积,从而不影响手机的RF(射频)性能以及ESD(静电放电)性能,也就是说使得无线产品达到更好的收讯效果,无杂音,更不会对人体产生任何影响。

真空镀膜(ncvm)工艺培训教材教案资料

真空镀膜(ncvm)工艺培训教材教案资料
• 生产工序:
• 素材前处理->底涂UV ->镀膜->中涂UV ->面涂UV
• 1. 产品镀膜过程为真空环境,真空度极高。镀膜机内真空度1-5X10-
4T0RR(1TORR=1毫米水银柱高的压力,大气压为760TORR。我司镀膜机内真 空度1.3X10-3Pa)。 • * 镀膜机内气压极低, 产品中的添加剂、油脂、水分均会溢出, 所以产品注 塑时不可打脱模剂, 不可添加真空镀膜技术1805年开始探索研究,19世纪一直处于探索,预研阶段。 20世纪后50年(1950年后)获得腾飞,其发展历程摘要如下:
• 1805年 开始研究接触角与表面能的关系。 • 1817年 透镜上形成减反射膜。 • 1904年 圆筒上溅射镀银获得专利。 • 1946年 用X射线吸收法测量薄膜的厚度,英国Good Fellow公司成立,紧接着1947年200英寸
望远镜镜面镀铝成功。 • 1947年 美国国家光学实验室(DCLI)建立,用光透过率来控制薄膜的厚度。 • 1950年 溅射理论开始建立,半导体工业开始起步,各种微电子工业开始起步,塑料装饰膜开始出
现。 • 1953年 美国真空学会成立,以卷绕镀膜的方法制成抗反射的薄膜材料(3M公司)。 • 1954年 开始研制新型真空蒸发式卷绕镀膜机(德国Leybold莱宝公司)。 • 1956年 美国第一台表面镀有金属膜的汽车问世(Ford 汽车公司)。 • 1957年 美国真空镀膜学会成立,真空镀镉方法被航空工业所接受。 • 1959年 磁带镀膜设备研制成功(Temescal公司)。 • 1963年 开始研制部分暴露大气的连续镀膜设备,离子镀膜工艺研制成功, • 20世纪70年代 (1970年后)各种真空镀膜技术的应用全面实现产业化,薄膜技术的发展进入

JVM原理速记复习Java虚拟机总结思维导图面试必备

JVM原理速记复习Java虚拟机总结思维导图面试必备

JVM原理速记复习Java虚拟机总结思维导图⾯试必备良⼼制作,右键另存为保存JVM喜欢可以点个赞哦Java虚拟机⼀、运⾏时数据区域线程私有程序计数器记录正在执⾏的虚拟机字节码指令的地址(如果正在执⾏的是Native⽅法则为空),是唯⼀⼀个没有规定OOM(OutOfMemoryError)的区域。

Java虚拟机栈每个Java⽅法在执⾏的同时会创建⼀个栈桢⽤于存储局部变量表、操作数栈、动态链接、⽅法出⼝等信息。

从⽅法调⽤直到执⾏完成的过程,对应着⼀个栈桢在Java虚拟机栈中⼊栈和出栈的过程。

(局部变量包含基本数据类型、对象引⽤reference和returnAddress类型)本地⽅法栈本地⽅法栈与Java虚拟机栈类似,它们之间的区别只不过是本地⽅法栈为Native⽅法服务。

线程公有Java堆(GC区)(Java Head)⼏乎所有的对象实例都在这⾥分配内存,是垃圾收集器管理的主要区域。

分为新⽣代和⽼年代。

对于新⽣代⼜分为Eden空间、FromSurvivor空间、To Survivor空间。

JDK1.7 ⽅法区(永久代)⽤于存放已被加载的类信息、常量、静态变量、即时编译器编译后的代码等数据。

对这块区域进⾏垃圾回收的主要⽬的是对常量池的回收和对类的卸载,但是⼀般难以实现。

HotSpot虚拟机把它当做永久代来进⾏垃圾回收。

但很难确定永久代的⼤⼩,因为它受到很多因素的影响,并且每次Full GC之后永久代的⼤⼩都会改变,所以经常抛出OOM异常。

从JDK1.8开始,移除永久代,并把⽅法区移⾄元空间。

运⾏时常量池是⽅法区的⼀部分Class⽂件中的常量池(编译器⽣成的字⾯量和符号引⽤)会在类加载后被放⼊这个区域。

允许动态⽣成,例如String类的intern()JDK1.8 元空间原本存在⽅法区(永久代)的数据,⼀部分移到了Java堆⾥⾯,⼀部分移到了本地内存⾥⾯(即元空间)。

元空间存储类的元信息,静态变量和常量池等放⼊堆中。

ncvm工艺流程

ncvm工艺流程

ncvm工艺流程《NCVM 工艺流程指南》嘿,朋友们!今天咱来聊聊 NCVM 工艺流程,这可是个很有意思的玩意儿呢!NCVM 啊,它就像是一位神奇的魔法师,能给各种产品披上一层独特的外衣。

你看那些亮晶晶、有着金属质感却又不导电的东西,很多就是它的杰作啦!想象一下,就好像是在给物品化妆,让它们一下子变得与众不同,更加吸引人的眼球。

它能让手机后盖变得酷炫无比,让你拿着手机就感觉自己是这条街最靓的仔;它也能让一些小饰品变得更加精致,仿佛每一个都有着自己的故事。

那这个魔法是怎么施展的呢?首先啊,得有非常精细的准备工作。

就像厨师做菜前要准备好食材一样,NCVM 也需要各种材料和设备都妥妥当当的。

然后呢,就开始进入正题啦!通过一系列复杂又神奇的步骤,让那层特殊的“外衣”慢慢附着上去。

在这个过程中,每一个环节都得特别用心。

就好比你走路,一步没走好可能就摔个大跟头。

这里也是一样,如果哪个步骤出了点小差错,可能最后出来的效果就大打折扣了。

所以啊,那些操作的师傅们可得瞪大眼睛,丝毫不能马虎。

而且啊,NCVM 工艺流程还特别讲究火候。

可不是做饭的火候哦,而是各种条件的把握。

温度啦、时间啦、压力啦等等,都得恰到好处。

多一点少一点都不行,这可真是个技术活呢!我记得有一次去参观一个工厂,看到那些师傅们全神贯注地操作着机器,那认真的样子,真的让人佩服。

他们就像是一群艺术家,在用心雕琢着自己的作品。

每一个产品从他们手中诞生,都仿佛带着他们的心血和汗水。

说起来,NCVM 工艺流程虽然很神奇,但也不是没有挑战。

有时候会遇到一些难题,比如材料的选择啦,或者是工艺的优化啦。

但这也正是它的魅力所在呀,不断地去挑战,不断地去改进,才能让它变得越来越好。

总之呢,NCVM 工艺流程是个非常有趣且充满挑战的领域。

它能让我们的生活变得更加丰富多彩,让那些原本普通的物品变得熠熠生辉。

我相信,随着技术的不断进步,它还会给我们带来更多的惊喜和奇迹。

所以呀,让我们一起期待它未来的精彩表现吧!。

VxVM培训

VxVM培训
Volume Manager 对象包括: 磁盘组 VM 磁盘 卷 plex (镜像) 子磁盘
2021/9/26
9
Volume Manager 磁盘
2021/9/26
10
磁盘组
磁盘组是共享公用配置的VM 磁盘的集 合。
磁盘组配置是包含有关相关的 VolumeManager 对象及其属性和联系的 详细信息的记录集。默认磁盘组为 rootdg (根磁盘组)。
在磁盘可以受Volume Manager 控制之 前,该磁盘必须可通过操作系统设备接 口进行存取。
2021/9/26
25
Volume Manager 用户界面
Volume Manager 将数据管理的物理部 分与逻辑部分分开,从而提供了增强数 据存储服务。
2021/9/26
26
2021/9/26
(sparc) 2.5.4
9 VRTSvmsa VERITAS Volume Manager Storage Administrator
(sparc) 1.0.2
10 VRTSvxfs VERITAS File System
(sparc) 3.2.5 Advanced for Solaris 2.5.1 and 2.6
2021/9/26
41
第三章
VxVM系统的安装
2021/9/26
42
安装前的准备(VxVM3.2)
安装SUN最新的补丁 安装SUNWsan 安装109529-06 安装111413-08 下载VxVM最新的patch
vxvm32p2+vmsa32p2_247308.tar.Z
2021/9/26
(sparc) 2.5.4
2021/9/26

NCVM流程简介说明-图文

NCVM流程简介说明-图文

NCVM流程简介说明-图文一、何謂NCVM?NCVM為英文之縮寫簡稱,其全名為(NonContinueVacuumMade)。

中文學名為(不導電電鍍、不連續電鍍)。

此乃真空電鍍近年來之新工藝,一般多用於有接收頻率訊號的電子產品(如手機、藍牙耳機等塑膠配件上),它不僅能使塑膠底材(ABS、PC等)表面金屬化,讓產品外觀看起來更有強烈的金屬質感,且不會造成電子干擾,如手機收訊不好或常當機等問題,更與傳統噴涂外觀有截然不同的風格,也是塑膠電鍍表面處理工藝上的一大突破,此工藝製品也成為目前世界知名大廠所趨之若鶩的產物。

二、需要設備:一涂一烤自動噴涂線一條底漆專用一涂一烤自動噴涂線一條面漆專用超真空鍍膜機一台NCVM專用需在無塵空間十萬級以上且自動噴涂線內需達到一萬級無塵等級。

三、需要涂料:真空電鍍專用UV涂料(底漆)真空電鍍專用UV涂料(面漆)四、適用素材:塑膠材質(ABS、PC、ABS+PC、PC+玻纖)等五、製成時間:從素材前置準備至成品出來,需約花四個小時左右。

要依自動線長及超真空鍍膜機的配備而定。

流程簡述:步驟(一)將素材浸入超音波清洗機中,第一槽以純水清潔,第二槽再以酒精或碳氫脫脂劑,浸泡十五分鐘,可把素材上之油漬去除掉,增加噴涂良率。

步驟(二)將清洗好之素材,放入立式烤箱中,以70℃烘烤十分鐘,可把素材上之水氣及脫脂劑揮發完全。

步驟(三)將裝好治具之素材,裝入自動噴涂線上之治具竿,準備進入自動涂裝噴涂真空電鍍專用UV底漆。

因金屬鍍膜層無法直接附著於素材表面上,故需上一層底漆做為素材與金屬層之間的附著介面。

步驟(四)待上料後,作業員手持手動靜電除塵槍對素材進行噴氣,降低素材表面上的靜電,並可把塵粒噴掉,保持素材表面在進入封閉式涂裝線內是清潔的。

超音波清洗機立式烤箱上料區手動靜電除塵槍步驟(五)此時素材已進入封閉式涂裝線內,第一階段為自動靜電除塵,裡面有八支除塵槍,槍口有高壓發生器,會釋放負離子,可去除素材上之靜電,因為靜電會吸附塵粒,故去除靜電後,槍也會同時噴氣,吹掉塵粒。

NCV61-协同配置技术红皮书

NCV61-协同配置技术红皮书

协同配置第一章简介基础配置包括组织权限、基础数据、用印、模板等产品模块,提供了平台级档案等基础数据的访问接口。

第二章基础服务器类2.1持久化上图是持久化服务现有的组件结构,抽象服务中提供了基本的数据持久化功能(如增删改),但是校验、事件分发等业务应用没有,需要继承组件自行实现。

目前,在协同持久化服务层面,实现了校验器、事件分发等机制。

如果想直接利用NC 现有机制,可以采用OA的持久化方案。

自行实现抽象服务,并调用NC现有的业务锁、事件、校验等机制。

抽象服务类如下:第三章组织权限3.1抽象多组织模型协同组织模型提供了一种抽象的组织模型,该模型是一种弹性的组织架构。

不同的业务产品可以根据自己产品的特性定义自己的产品组织模型。

系统默认提供的是NC组织适配器,也就是说在NC产品中定义了组织之后,会自动同步到协同组织中。

第四章基础数据4.1模板管理4.1.1查询模板查询模版包括新增、编辑、删除、查询条件编辑和模版分配功能;新增:选择某个模版,点击“新增”(包括模版编号、模版名称、节点编码、模版分配节点、元数据主体、是否显示高级搜索);点击“确定”保存。

编辑:选中模版,点击“修改”,修改模版编号、模版名称、节点编码、模版分配节点、元数据主体、是否显示高级搜索;(注:修改了模板名称)点击“确定”更新;删除:选中模版,点击“删除”,弹出删除对话框,点击“确定”,删除选中模板;查询条件编辑:选中模版,点击“查询条件编辑”按钮,打开查询条件编辑窗口,根据添加的元数据主体数据,在左侧树中全部显示元数据结构,通过中间按钮“向右”、“向左”按钮添加、删除查询条件,也可以通过添加系统变量菜单添加自定义变量作为查询条件;点击“确定”,保存选择的查询编辑条件。

模版分配:选择某个模版,点击“模版分配”,可以有角色、用户、组织三个部分;选择角色、用户、组织中一个或多个;点击“确定”保存,分配模版权限;快速查询配置:点击“OK”,引用公共片段pubview_simplequery,在pagemeta.pm中在文件的uimeta.um中添加UI设计通过类SimpleQueryWidgetProvider.java生成控件,通过SimpleQueryWidgetUIProvider.java设计UI,通过SimpleQueryController.java控制该公共片段:点击搜索,触发SimpleQueryController.java中Public void onQryBtOk(MouseEvent<ButtonComp> e){}方法,最后通过触发命令newUifPlugoutCmd(widgetId,”qryout”,Map);PlugoutDesc plugoutDesc = new PlugoutDesc();plugoutDesc.setId("qryout");widget.addPlugoutDescs(plugoutDesc);是动态添加的,因此在引用的view中要添加一个pluginDesc和Connector,如:才能够触发添加的plugin,如:如果不需要直接用拼写的wheresql,也可以通过((FromWhereSQLImpl)keys.get(“wheresql”)).getFieldAndMap()得到查询条件的键值对,用于其它。

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圖片
對MOTO產品建立NCVM測試方法與系統
的流程:
1. Agilent ENA 網絡分析儀:
根據客戶要求 確定產品NCVM
測試區域
一般來說,產品NCVM測試區域為天線附近 的位置
設計開發測試
NG
治具
OK
對測試治具及
測試儀器做
NG
GR&R
OK
在設計測試治具時要考慮其材質對測試 的影響及定位效果,不可造成擦碰傷等
二.NCVM鍍膜技術要點
基本內容: 1.NCVM鍍膜設備介紹 2.NCVM的量測方式與系統 3.VM Chamber的均勻性 4.VM Chamber的穩定性 5.非導與高溫高濕後產品變色的平衡 6.NCVM的開發
1.NCVM鍍膜設備介紹
電阻加熱蒸發式真空鍍膜機
VM設備主要組成系統: A)真空系統 B)加熱系統 C)動力系統
C)動力系統
驅使被鍍物做規律性運動,從而達到均勻 鍍層的目的.
2.NCVM的量測方式與系統
客戶
MOTOROLA
NOKIA
檢驗方式
隨線測試
品管抽檢
隨線測試
量測儀器/系 統
Stud Scanner 測試儀
Agilent ENA 網絡分析儀 (E5071B)
Agilent ENA 網絡分析儀及
測試系統
改善歷程: 1.真空度的確定:
找出真空度檢測儀檢測數據與機台真空計顯示數據 之間的關聯,並記錄抽真空時間(一個機台重複三次)
根據檢測數據和氣體分子平均自由路徑進行分析, 並結合抽真空時間得出改善真空度的點
重複測量改善後的真空度及抽真空時間,並將其改善 結果copy到其他機台,確定其設定真空度
機台號
取同一片素材,GR&R%≧90%
接上頁 根據MOTO測試 規格製做NCVM OK&NG樣品,並 送客戶簽認
對測試測試人 員做GR&R
NG
執行測試
臨界OK樣品2PCS,臨界NG樣品2PCS OK樣品13PCS,NG樣品13PCS
用客戶簽認的樣品,GR&R%≧90%
首件,品管抽檢及Stud Scanner測試NG產 品必須通過網絡分析儀的測試
或合金 或其化合物)通過直接或間接加熱﹐使之熔 解﹐然后蒸發(或直接由固體升華為氣體)﹐獲得足 夠能量的原子或分子飛向并沉積在工件表面﹐沉積 一定厚度的膜層。
NCVM= Non-conductive Vacuum Metalization
1-3.真空镀膜方法比较
PVD三种镀膜方法比较
项目
真空蒸镀
b.縮短VM Chamber每爐的生 產時間.
a.提升VM Chamber每爐產品的數量:
改善方案一:將VM機挂具由五層改為六層如 此一來能提升產能比例為:(6-5)/ 5 * 100% = 20%
現狀:
每個挂具只有五層,每層挂 一個Spindle
改善方案一:
在總高度不變的前提下,每 個挂具增加到六層
2.周/季/年保養
5.非導與高溫高濕後產品變色的平衡
高溫高 濕變色


非導NG

耙材量減少
耙材量增加
尋找平衡點(實例說明):
平衡點
說明:採用不同的素材,不同的機台,驗證結果 均會不一樣!
6.目前NCVM的開發
1.提升VM產能 2.VM鍍層的膜厚監控
1.提升VM產能:
方向:a.提升VM Chamber每爐產品 的數量;
半 光 泽 ~无 光 泽 高
镀层孔隙度



界面
界面清晰
很清晰
有扩散
附着性
不太好
较好
非常好
膜的纯度
取决材料纯度 取决靶材纯度 取决材料纯度
基片镀膜
仅面对蒸发源 面对靶材表面 所有表面完全
情况
表面被镀膜 被镀膜
被镀膜
表面处理 常 用 压 强 Torr 厚度均匀性 机理
脱气辉光放电 10-5~10-6 不太均匀
上挂
除塵
底漆
流平&預烤
包裝
下挂&檢驗
面漆
VM
1-5.VM使用材料
適用底材: 塑膠、玻璃、金屬 靶 材: 常用的是 Al,Cr,Sn,Ni,Si,SiO等材料 加熱材料: 鎢、鉬、鉭材料制成的絲狀、舟狀 物 或用電子槍直接蒸發
1-6.NCVM的用途
應用在手機上﹕ 1.增強信號(外殼不導電) 2.外殼有金屬感 3.解決涂裝方面的高光問題 4.可代替塑膠件的水電鍍
2.每爐生產完畢要用無塵紙將爐底擦乾 淨並用工業吸塵器吸乾淨,保證爐底無耙材顆 粒和其他雜誌
3.每爐生產前須檢查真空膠圈,不能有雜 質且真空膠圈要保持溼潤.
5.設備運轉狀況:
1.日常維護: 1.檢查冷卻水循環是否正常,各分流水管是否有
水流. 2.清潔桶身上的大膠圈. 3.清潔桶門法蘭面. 4.簡單的清潔桶內. 5.油回轉泵洩水一次. 6.Polycold裝置則須除霜一次. 7.真空計穩定狀況
3.檢查整個薄片的鍍膜狀況,找出薄 片異常點對應的電極棒,對電極棒進行微 調(或上移或下移)
4.最上層和最底層電極棒用於解決產 品頂部和底部的均勻性,一般為加長的電 極棒


2.耙材量:
在調電極棒位置能將VM Chamber均勻性 調好的情況下,一般不建議來通過調整耙材量 來解決均勻性的問題.
一般來說,若爐內各層產品正面外觀一致, 只是上層和底層產品的頂部或底部出現明顯 薄鍍時,我們可以通過增加最上層和最下層的 電極棒的耙材量(注意:增加耙材量的同時,要 確保非導測試OK)
改善方案方案二:在由五層改為六層的基礎上, 增加一個支架支撐座,挂具每層可放置兩個spindle 的產品。靠近VM機內部立柱的六個挂具不變,其余 8個挂具均按此方式作改善。
效率提升=(8*12+6*6-5*14)/(5*14)=90%
新增的支撐架,原治具 支架放置處由紅色中心 處向兩邊偏移
挂具
此方案需驗証挂具之間的距離是否足夠,避免兩挂 產品互相碰撞。
6層,每層1挂
6層,每層4挂
b.縮短VM Chamber每爐的生產時間:
改善方案:降低真空度,縮短抽真空時間 改善思路:1.各Chamber所配置的真空計不一 樣,其誤差極高,導致所顯示的真空度數值差異 極大,為統一其真空度必須用真空度檢測儀修正 各Chamber的真空度設定值
2.根據真空檢測儀檢測到的真空度 顯示偏高.根據真空環境下氣體分子的自由路徑 與真空度的關係,目前所設定的真空度可以降低
改善方案方案三:基於將挂具改善為6層的理念, 將購入的Chamber將挂具設計成“冰糖葫蘆”式挂法, 每層可挂4個spindle,考慮到機體內部的空間,挂具 由14個減少為9個。如此方案可行,則預計效率較現 狀提升(未考慮VM C/T是否會因此改變而延長): (9*6*4-14*5)/(14*5)*100%=209%
後兩角的長度約為1.5mm為宜.
耙材稱量
稱量耙材合格人員執行並用精度為0.001g 的電子稱
耙材包裝
將稱量合格的耙材進行真空包裝,並標示; 同時要送品管確認並加蓋品管印章
3.耙材的殘留:
耙材殘留的主要原因: 耙材蒸發不完全,造成耙材殘留于鎢絲或滴
落爐底 可以採取的措施: 1.檢查鎢絲鎢絲狀況(是否變形,固定螺絲的
送客戶做整機 測試,簽認OK NG /NG的樣品
OK
根據客戶簽認 的樣品開發系 統測試程序,並 確定測試規格
測試程序由專門的系統測試部門完成
接上頁
對測試系統做 GR&R
製做OK/NG樣品 和測試系統的 操作規範,並送
客戶簽認
對測試人
NG
員做GR&R
OK
執行測試
取同一片素材,GR&R%≧90%
用客戶簽認的樣品,GR&R%≧90% 每測試30MIN後需用客戶簽認的樣品進行 校正
鬆緊度) 2.檢查外部電壓有無變化 3.檢查蒸鍍各段耙材的變化情況 原則:預熱---鎢絲變紅,耙材無變化 熔解---耙材完全熔解且全部趴在鎢
絲上且不能有耙材滴落 蒸發---耙材完全蒸發
4.空鍍
4.爐體的清潔:
爐體的清潔至關重要,必須嚴格按照SOP 作業,但仍需注意以下:
1.每班生產前要空鍍一爐;
2.有通入惰性氣體的情況下,注意氣體流 量計的數值變化,出現不穩定情況,需檢查供 氣瓶及其管道,閥門等.
4.VM Chamber穩定性
VM Chamber穩定性影響因素主要有: 1.耙材的質量 2.耙材的重量 3.耙材的殘留 4.爐體的清潔 5.設備的運轉等
1.耙材的質量:
1.耙材的儲存條件: (1)溫度﹕ 5 ~ 35℃ (2)濕度﹕ 30 ~ 60%RH
對測試測試人
NG
員做GR&R
OK
執行測試
用客戶簽認的樣品,GR&R%≧90%
測試NG的樣品須經網絡分析儀確認,每測 試15MIN後需重新校正
對NOKIA產品建立NCVM測試方法與系
統的流程:
根據客戶提供 觀OK的前提下完成,且樣品 必須有明顯的等級
A)真空系統
真空系统是由 真空泵、真空测量装 置、真空阀门、连接 导管以及捕集器、除 尘器、真空继电器规 头等元件,经过精心 组装而成的。它能在 人们所期望的时间内 将被抽容器内的压力 降低到所要求的真空 度。
B)加熱系統
加熱系統的主要功能就是利用電阻絲 加熱,將欲鍍物質加熱,達到蒸發(或直接由固 體升華為氣體)﹐從而達到使原子或分子飛向 并沉積在工件表面的目的.
2. Stud Scanner測試儀:
設計開發測試
NG
治具
在設計測試治具時要考慮其材質對測試 的影響及定位效果,不可造成擦碰傷等
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