反应磁控溅射制备五氧化二铌光学薄膜

反应磁控溅射制备五氧化二铌光学薄膜
赖发春;瞿燕;盖荣权
【期刊名称】《福建师范大学学报：自然科学版》
【年(卷),期】2004(20)4
【摘要】利用低频反应磁控溅射制备五氧化二铌光学薄膜.薄膜的微结构、表面形貌和光学性质等分别采用X射线衍射、场发射扫描电子显微镜、原子力显微镜和紫外可见近红外分光光度计等观察和测量.测量发现溅射制备的光学薄膜为非晶结构,具有很好的表面平整度,厚度为515nm,光学波长为550nm处的折射率为2.264,可见光波段的消光系数小于10-3,光学带隙为3.49eV.结果表明制备的五氧化二铌膜是性能良好的光学薄膜.
【总页数】4页(P46-49)
【关键词】五氧化二铌;光学薄膜;特性
【作者】赖发春;瞿燕;盖荣权
【作者单位】福建师范大学物理与光电信息科技学院
【正文语种】中文
【中图分类】O484
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