RF溅射的Fe-N薄膜的磁导率研究

RF溅射的Fe-N薄膜的磁导率研究
顾有松;周剑平;李丹;常香荣;田中卓;方光旦;宋庆山
【期刊名称】《真空科学与技术》
【年(卷),期】2001(21)6
【摘要】研究了用ＲＦ溅射法制备的ＦｅＮ薄膜经过2 50℃磁场热处理后高频磁导率的变化情况。

实验结果发现 ,在优化生长条件下生长的ＦｅＮ薄膜样品 ,在1～ 1 0ＭＨｚ的频率范围内 ,易磁化方向的高频磁导率较小 ,但其难磁化方向的相对磁导率可以高达 1 50 0 ,并且基本恒定 ,说明这种Ｆｅ
【总页数】4页(P434-436)
【关键词】磁导率;Fe-N薄膜;磁场热处理;RF溅射法;铁-氮薄膜;磁记录介质;磁场;热处理
【作者】顾有松;周剑平;李丹;常香荣;田中卓;方光旦;宋庆山
【作者单位】北京科技大学材料物理系;中国科学院计算所
【正文语种】中文
【中图分类】TQ584;O484.43
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