ITO薄膜的透射谱的建模及解谱(1)

书山有路勤为径，学海无涯苦作舟
ITO 薄膜的透射谱的建模及解谱(1)
本文研究了在低温下制备的非晶态和空气中退火后的多晶
1、实验
1.1、样品制备
用JGP560 型超高真空多功能磁控溅射仪,采用直流磁控溅射工艺在室温下制备了
1.2、测量
采用MAC M18XHF 全自动转靶型X 射线衍射仪测量了
1.3、数据处理
椭偏解谱的基本原理是利用式(1) 椭偏方程通过回归算法把椭偏测量仪输出的一组椭偏参数ψ、Δ进行数据拟合,从而得到薄膜厚度d 及折射率nF(若膜有吸收, 则nF 为复折射率, 可用nF = n + ik 表示) 。

在解谱软件中椭偏测量仪输出的一组椭偏参数ψ、Δ 就是目标(target) 文件,利用计算机编程将透射谱数据转换成椭偏解谱软件中的目标(tar2get) 文件,解谱程序即自动转换为有关透射率和光学常数以及厚度等参数的运算关系。

然后建立适当的模型
对实验数据进行拟合。

当拟合数据和实验数据的差值、均方根误差(RMSE) 以及各变量间的影响因子都达到满意的结果时,就得到了光学常数、厚度以及其他相关的参数值。

其中n0 为入射介质折射率、d 和nF 为薄膜厚度及折射率、ns 为基片折射率、φ0 和λ为椭偏光束的入射角和波长。

2、结果与分析。