激光驱动气相反应制备纳米级Si3N4超细粉末
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激光驱动气相反应制备纳米级Si3N4超细粉末
张其士;肖涤凡
【期刊名称】《现代技术陶瓷》
【年(卷),期】1994(015)003
【摘要】本文利用CW—CO_2激光驱动气相化学反应的方法,以SiN_4和NH_3作为原料气体合成了纳米级Si_3N_4超细粉末。
本工艺过程的产率达95％。
由化学分析表明产物的纯度为含Si_3N_493.75wt％,杂质主要是氧,其含量为1.86wt％,另外还存在总含量为500ppm的Ca、Mg等杂质。
由X射线衍射和透射电子显微镜等的分析表明,产物的颗粒近似于球形、不团聚,粒径分布范围为10um～30nm,平均粒径为17um,而其结晶性状呈现非晶态结构。
【总页数】4页(P19-22)
【作者】张其士;肖涤凡
【作者单位】不详;不详
【正文语种】中文
【中图分类】TQ174.758
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