硅片清洗机开题报告
硅片碱液清洗机技术方案
硅片碱液清洗机技术方案硅片碱液清洗机技术方案一、项目背景硅片是半导体行业的核心材料，其质量和精度直接影响着芯片的性能和成本。
硅片生产中，需要进行多次的清洗工艺，以去除表面的有机和无机污染物，保证硅片的质量。
其中之一就是碱液清洗，碱液清洗是一种常规的硅片清洗工艺。
目前，硅片碱液清洗主要采用的是手工清洗和人工操作设备清洗两种方式。
手工清洗效率低，操作复杂，易受人员技术水平和误操作影响；人工操作设备清洗虽然提高了清洗效率，但设备复杂，成本高昂。
因此，研发一套高效、自动化程度高、操作简单、使用成本低的硅片碱液清洗机就显得尤为重要。
二、设备介绍硅片碱液清洗机主要由清洗池、机械手、排液池、液位控制器、负压泵等组成。
1. 清洗池：根据需要，清洗池可配备不同浓度的碱液，以便于进行不同程度的清洗。
2. 机械手：机械手用于把硅片放入清洗池中，并在清洗完成后将其取出。
机械手通过电机驱动，动作精度高，操作简单。
3. 排液池：排液池用于收集清洗后的废液，通过泵抽走。
4. 液位控制器：液位控制器通过传感器控制清洗池内溶液的液位高度，以确保清洗效果和清洗时间的稳定性。
5. 负压泵：负压泵用于押送清洗池中的碱液，确保其能够流过硅片的表面。
同时，负压泵还可以用于排除空气，保证清洗效果。
三、设备原理硅片碱液清洗机采用的是静态清洗法，即硅片放在清洗池中，通过负压泵押送碱液，在静止状态下进行清洗。
具体步骤如下：1. 制备碱液：按要求配制碱液，将其灌入清洗池。
2. 将硅片放入清洗池中，启动机械手，使其位置准确无误。
3. 启动负压泵，押送碱液。
4. 在设定的时间内进行清洗，清洗时间根据加工程度和要求设定合适的值。
5. 清洗完成后，关闭负压泵，将硅片从池内拿出，放置在初步处理工位。
四、设备特点1. 设备自动化程度高，操作简单，减少人工干预，提高清洗效率。
2. 清洗质量稳定，清洗效果可控，清洗后硅片质量好。
3. 操作过程安全可靠，设备故障率低，维护成本低。
硅片清洗机的结构设计及电气控制
硅片清洗机的结构设计及电气控制摘要：一、硅片清洗机的概述二、硅片清洗机的结构设计1.清洗腔2.清洗液循环系统3.喷淋系统4.控制系统三、硅片清洗机的电气控制1.电气控制系统的组成2.电气控制系统的工作原理四、硅片清洗机的维护与保养正文：一、硅片清洗机的概述硅片清洗机是一种用于清洗硅片的设备，其主要目的是去除硅片表面的污垢和氧化物，以保证硅片表面的光洁度和洁净度，从而为后续的加工工艺提供良好的基础。
硅片清洗机在光伏行业、半导体行业等领域有着广泛的应用。
二、硅片清洗机的结构设计1.清洗腔清洗腔是硅片清洗机的主要工作部分，硅片在这里进行清洗。
清洗腔通常由不锈钢材料制成，具有良好的耐腐蚀性和耐高温性能。
清洗腔内部设有喷淋系统和清洗液循环系统，以保证硅片表面被充分清洗。
2.清洗液循环系统清洗液循环系统负责清洗液的循环和加热。
循环系统通常由泵、加热器和管道等组成，泵负责将清洗液从清洗腔内抽出，经过加热器加热后，再流回清洗腔内。
这样，可以保证清洗液的温度保持在设定范围内，有利于提高清洗效果。
3.喷淋系统喷淋系统负责将清洗液喷淋到硅片表面，以实现对硅片表面的清洗。
喷淋系统通常由喷淋头、喷淋管道和清洗液储存罐等组成。
喷淋头通常设有多个喷嘴，以保证清洗液能均匀地喷淋到硅片表面。
4.控制系统控制系统负责对整个清洗过程进行控制，包括清洗时间、清洗液温度、喷淋压力等参数的控制。
控制系统通常由PLC、触摸屏等人机界面设备组成，操作人员可以通过触摸屏设置清洗参数，并实时监控清洗过程。
三、硅片清洗机的电气控制1.电气控制系统的组成电气控制系统主要由电源系统、电机控制系统、传感器系统、人机界面系统等组成。
电源系统负责为整个设备提供电力，电机控制系统负责控制清洗腔、清洗液循环系统、喷淋系统等部分的电机，传感器系统负责实时监测设备运行状态，人机界面系统负责与操作人员进行交互。
2.电气控制系统的工作原理电气控制系统的工作原理如下：首先，操作人员通过人机界面系统设置清洗参数，包括清洗时间、清洗液温度、喷淋压力等；然后，人机界面系统将设置的参数转换为电信号，发送给PLC；接着，PLC 根据接收到的电信号，控制电机控制系统对各个电机进行调速、启停等操作，从而实现对整个清洗过程的控制；最后，传感器系统实时监测设备运行状态，将监测到的数据发送给PLC，以便PLC 根据实际情况对电机进行调整。
硅材料清洗市场分析报告
硅材料清洗市场分析报告1.引言1.1 概述概述部分：硅材料清洗市场是指针对硅材料表面进行清洗和处理的市场，主要包括硅片清洗、硅晶圆清洗以及硅材料表面处理等内容。
随着半导体行业和光伏行业的不断发展，对硅材料的清洗需求也在不断增加。
本文将对硅材料清洗市场进行深入分析，了解市场的发展趋势和竞争现状，为相关企业和投资者提供参考和建议。
1.2 文章结构文章结构部分内容：本报告将围绕硅材料清洗市场展开深入分析，主要包括以下三个部分：市场概况、市场需求分析和竞争对手分析。
在市场概况部分，将对硅材料清洗市场的整体情况进行概述，包括市场规模、发展历程、主要应用领域等方面的介绍。
在市场需求分析部分，将对市场需求的特点、趋势和影响因素进行详细分析，以便更好地把握市场动态。
在竞争对手分析部分，将对市场上的主要竞争对手进行调查和研究，分析其市场份额、产品特点、营销策略等，为我们深入了解市场格局提供重要参考。
通过对这三个方面的综合分析，我们将能够更清晰地把握硅材料清洗市场的现状和未来发展趋势，为行业从业者和投资者提供决策参考。
1.3 目的目的：本报告的目的是分析硅材料清洗市场的现状和发展趋势，了解市场需求和竞争对手情况，为相关企业制定市场营销策略提供参考，同时为投资者提供决策依据。
通过深入分析市场状况和发展趋势，可以帮助各方更好地把握市场机遇，做出明智的决策。
1.4 总结通过对硅材料清洗市场的深入分析，我们发现该市场具有巨大的潜力和发展空间。
随着各行业对硅材料清洗需求的不断增加，市场规模不断扩大，成为了一个备受关注的热门领域。
同时，在竞争对手分析中我们也发现，市场存在着激烈的竞争，各企业需要不断提升自身实力和服务质量，以抢占更多市场份额。
在未来，随着科技的不断进步和行业的不断发展，硅材料清洗市场将迎来更多的机遇和挑战。
我们建议企业应密切关注市场发展趋势，不断创新产品和服务，以满足客户的多样化需求。
同时，积极开拓国际市场，加强合作与交流，提高自身竞争力。
硅片化学清洗
半导体工艺化学实验报告实验名称：硅片的清洗实验目的：1.熟悉清洗设备2.掌握清洗流程以及清洗前预准备实验设备：1.半导体兆声清洗机（SFQ-1006T）2.SC-1；SC-2实验背景及原理：清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。
这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。
有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。
无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等，严重影响少数载流子寿命和表面电导；碱金属如钠等，引起严重漏电；颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等，会导致各种缺陷。
清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。
我们这里所用的的是化学清洗。
清洗对于微米及深亚微米超大规模集成电路的良率有着极大的影响。
SC-1及SC-2对于清除颗粒及金属颗粒有着显著的作用。
实验步骤：1.清洗前准备工作：仪器准备：①烧杯的清洗、干燥②清洗机的预准备：开总闸门、开空气压缩机；开旋转总电源（清洗设备照明自动开启）；将急停按钮旋转拉出，按下旁边电源键；缓慢开启超纯水开关，角度小于45o；根据需要给1#、2#槽加热，正式试验前提前一小时加热，加热上限为200o。
本次实验中选用了80℃为反应温度。
③SC-1及SC-2的配置：我们配制体积比例是1:2:5，所以选取溶液体积为160ml，对SC-1 NH4OH：H2O2：H2O=20:40:100ml，对SC-2 HCl：H2O2：H2O=20:40:100ml。
2.清洗实际步骤：①1#号槽中放入装入1号液的烧杯，待温度与槽中一样后，放入硅片，加热10min,然后超纯水清洗。
②2#号槽中放入装入2号液的烧杯，待温度与槽中一样后，放入硅片，加热10min,然后超纯水清洗。
③兆声清洗10分钟，去除颗粒④利用相似相溶原理，使用乙醇去除有机物，然后超纯水清洗并吹干。
实验结果：利用显微镜观察清洗前后硅片图像表面清洗前硅片照片清洗后的硅片照片实验总结：清洗过后明显地发现硅片表面不像原来那样油腻，小颗粒明显减少。
清洗机毕业设计开题报告
清洗机毕业设计开题报告一、项目背景随着现代人生活水平的提高，人们对生活品质的要求也越来越高。
清洁和卫生是每个家庭重视的问题，尤其是对于衣物的清洗。
然而，传统的手洗方式及家用洗衣机在某些场景下并不能满足需求，比如对于大型家具布艺、地毯等的清洗。
因此，设计一款高效且方便的清洗机成为了迫切的需求。
二、项目目标本毕业设计的目标是设计一款清洗机，能够满足以下要求： - 高效：能够快速而彻底地清洗各类衣物、布艺和地毯等。
- 方便：操作简单，清洗过程自动化，用户只需要将物品放入机器中，设定清洗参数即可。
- 高质量：能够保证物品的清洁度和整体品质，避免损坏和变形。
三、项目内容1.清洗机结构设计：设计清洗机的整体结构，包括外壳、清洗舱、过滤装置等。
需要考虑结构稳定性、材料选择和装配方便性等因素。
2.清洗机工作原理：研究清洗机的工作原理，包括水流循环系统、清洗剂喷洒装置、清洗机控制系统等。
保证清洗过程中的高效性和清洁度。
3.清洗机控制系统设计：设计清洗机的控制系统，包括自动洗涤程序的编写、运行状态的监测与控制等。
确保清洗过程的稳定性和安全性。
4.清洗机优化改进：通过不断对清洗机进行试验和改进，提升清洗效果和用户体验。
包括清洗剂选择、喷洒效果、洗涤时间等参数的优化调整。
四、项目计划本项目将按照以下计划进行推进：时间任务第1-2周调研现有清洗机市场及技术现状第3-4周设计清洗机的整体结构第5-6周研究清洗机的工作原理第7-8周设计清洗机的控制系统第9-10周进行清洗机的实验和优化改进第11-12周撰写毕业设计论文第13-14周进行论文的修改和完善五、项目预期成果该毕业设计预期将完成以下成果： 1. 清洗机的结构设计图纸和样机。
2. 清洗机的工作原理模型及相应理论分析。
3. 清洗机的控制系统设计方案和示例程序。
4. 清洗机的试验数据和改进方案。
5. 毕业设计论文的撰写。
六、项目意义设计一款高效且方便的清洗机，对于提高人们的生活质量和节约时间具有重要意义。
硅片清洗机的结构设计及电气控制
硅片清洗机的结构设计及电气控制
硅片清洗机的结构设计主要包括以下几个部分：
1. 清洗槽：用于容纳清洗液的容器，一般采用优质不锈钢材料制作，并具有一定的尺寸和深度，以容纳待清洗的硅片。
2. 洗涤系统：包括清洗喷嘴、喷洒系统和水循环系统。
清洗喷嘴负责将清洗液均匀地喷洒在硅片上，喷洒系统负责提供稳定的喷洒压力和流量，水循环系统则负责将用过的清洗液重新回收并过滤，以保持清洗液的清洁度。
3. 硅片输送系统：用于将待清洗的硅片从进料口输送至清洗槽，并在清洗完毕后将硅片从出料口输送出去。
输送系统一般采用传送带或者机械臂等方式，以确保硅片能够平稳地进出清洗槽。
4. 硅片定位系统：用于确保硅片在清洗过程中的位置准确稳定，防止硅片移位或倾斜，一般采用夹具或者真空吸附等方式进行定位。
至于电气控制部分，主要包括以下几个方面：
1. 传感器和探测器：用于检测清洗槽中的液位、温度、浓度等参数，并将检测结果传输给控制系统。
2. 控制系统：包括硬件电路和软件程序，根据传感器和探测器提供的信息，对清洗机的运行过程进行控制和调节。
控制系统一般采用PLC（可编程控制器）或者单片机等。
3. 电机和执行器：用于驱动输送系统、喷洒系统和其他运动部件的电机和执行器，根据控制系统的指令进行相应的动作。
4. 电源和电气保护装置：为清洗机的供电系统提供电源，并配置相应的保护装置，包括过载保护、短路保护和漏电保护等。
以上是硅片清洗机的基本结构设计及电气控制部分的简要介绍，具体的设计和控制方案还需要根据实际情况进一步细化和调整。
硅片清洗技术及其应用与发展的开题报告
硅片清洗技术及其应用与发展的开题报告1. 研究背景硅片是微电子元件的重要组成部分，其表面质量对器件性能和生产效率有着至关重要的影响。
硅片在制备过程中，会因为生产和加工现场的污染、操作者的指纹、化学辅助剂残留等原因，表面上往往存在各种有机物、无机盐等杂质，在不彻底清洗的情况下，这些杂质会降低器件工作可靠性, 加剧始终呈现的电脑屏幕的毛刺现象, 使设备成本增加，并使设备的性能发挥不出来。
硅片清洗则是解决这些问题的核心技术之一。
随着微电子技术的发展和应用领域的不断扩大，对硅片清洗技术的要求也越来越高，已经成为微电子技术研究和发展的重要方向之一。
2. 研究目的和意义本文要研究的是硅片清洗技术及其应用与发展。
具体的研究目的如下：（1）分析传统硅片清洗技术的优缺点，探讨现有技术存在的问题和瓶颈。
（2）介绍现代硅片清洗技术，包括化学、物理和生物等清洗方法，以及各种清洗设备和清洗剂的优缺点。
（3）探究硅片清洗技术的应用及其在微电子生产中的作用。
（4）展望硅片清洗技术未来的发展方向，探索如何提高清洗技术的效率和质量。
本研究的意义在于：通过对硅片清洗技术的分析和理解，可以为加快我国微电子技术的发展提供有效的技术支持和帮助，在国家经济发展、国防、信息技术等领域发挥重要的作用。
3. 研究内容和方法本文将从以下几个方面进行研究：1. 传统硅片清洗技术：介绍传统的硅片清洗技术，如微电子制造工艺中的氧化去除、酸洗、碱洗等，这些技术的优缺点以及存在的问题和瓶颈。
2. 现代硅片清洗技术：介绍现代硅片清洗技术，包括化学、物理和生物等清洗方法，以及各种清洗设备和清洗剂的优缺点，探讨这些技术的适应性和优越性。
3. 硅片清洗技术的应用及其作用：分析硅片清洗技术在微电子制造过程中的应用和意义，如提高产品的质量、提高生产效率、降低成本等。
4. 硅片清洗技术的未来发展方向：展望硅片清洗技术未来的发展方向，探索如何提高清洗技术的效率和质量，为微电子行业的发展做出贡献。
硅片清洗机试验方法)
硅片清洗机试验方法在半导体材料的制备过程中，每一道工序都涉及到清洗，而且清洗的好坏直接影响下一道工序，甚至影响器件的成品率和可靠性。
由于ULSI集成度的迅速提高和器件尺寸的减小，对于晶片表面沾污的要求更加严格，ULSI工艺要求在提供的衬底片上吸附物不多于500个/m2×0.12um，金属污染小于 1010atom/cm2。
晶片生产中每一道工序存在的潜在污染，都可导致缺陷的产生和器件的失效。
因此，硅片的清洗引起了专业人士的重视。
以前很多厂家都用手洗的方法，这种方法人为的因素较多，一方面容易产生碎片，经济效益下降，另一方面手洗的硅片表面洁净度差，污染严重，使下道工序化抛腐蚀过程中的合格率较低。
所以，硅片的清洗技术引起了人们的重视，找到一种简单有效的清洗方法是当务之急。
本文介绍了一种超声波清洗技术，其清洗硅片的效果显著，是一种值得推广的硅片清洗技术。
硅片表面污染的原因晶片表面层原子因垂直切片方向的化学键被破坏而成为悬空键，形成表面附近的自由力场，尤其切磨片是在铸铁磨盘上进行，所以铁离子的污染就更加严重。
同时，由于磨料中的金刚砂粒径较大，造成切磨片后的硅片破损层较大，悬挂键数目增多，极易吸附各种杂质，如颗粒、有机杂质、无机杂质、金属离子、硅粉粉尘等，造成切磨片后的硅片易发生变花、发蓝、发黑等现象，使切磨片不合格。
硅片清洗的目的就是要除去各类污染物，清洗的洁净程度直接决定着ULSI向更高集成度、可靠性、成品率发展，这涉及到高净化的环境、水、化学试剂和相应的设备及配套工艺，难度越来越大，可见半导体行业中清洗工艺的重要性。
实验及结果分析1.实验设备和试剂实验设备：XT-07L硅片清洗机实验使用的试剂：有机碱、清洗剂、活性剂、去离子水、助磨剂2.实验过程（1）超声波清洗的基本原理利用28KHz以上的电能，经超声波换能器转换成高频机械振荡而传入到清洗液中。
超声波在清洗液中疏密相间地向前辐射，使液体流动，并不停地产生数以万计的微小气泡。
清洗机开题报告
武汉东湖学院本科生毕业论文（设计）开题报告
注：①开题报告用A4纸打印装订在毕业论文（设计）任务书后，学生可根据开题报告的长度加页。
②开题报告应根据毕业论文（设计）任务书，在教师指导下，有学生本人独立撰写，在毕业论文（设计）开始后三个星期内完成。
③指导教师意见包括以下内容：学生的调研是否充分；研究内容和技术方案是否明确；是否已经具备开始论文（设计）的条件；能否达到预期目标；是否同意进入论文（设计）阶段。
（注：可编辑下载，若有不当之处，请指正，谢谢!）。
太阳能硅片酸洗池温度控制系统设计开题报告
主要参考文献
[1] 瑞山，韩全立主编 .单片机控制技术及应用[M]. 北京：高等教育出版社，2003 [2] 谭浩强.C 语言设计教程[M] .北京：清华大学出版社，2007 [3] 鹿玉红，戴彦，江培蕾.基于 PROTEUS 的 DS18B20 数字温度计的仿真实现.福建电脑，2010 [4] 刘春恰.北京数字温度传感器 DS18B20 测温的应用.电器时代，2010 [5] 张培仁，孙占辉，张欣，张村峰.基于 C 语言编程 MCS-51 单片机原理与应用.北京：清华大学出 版社，2002 [6] 常敏，王涵，范红波.51 单片机应用程序开发与实践. 北京：电子工业出版社，2009 [7] 李平，杜涛，罗和平.单片机应用开发与实践.北京：机械工程出版社，2008 [8] 刘娟，梁卫文，程莉，廖银萍.单片机 C 语言与 PROTUES 仿真技能实训.北京：中国电力出版社， 2010 [9] L Dubois ,V.C.T.V.Sozanski JP, M.Chive . Temperature control by microwave radiometry with narrow band width [J].EurPhys.J.App.lPhys.2000，Vol. 9: 63 - 68. [10] Semiconductor. DS18B20 programmable resolution1- wire digital thermometer[R].Dallas Semiconductor Corporation, 2002:1-26.
2．准备情况（查阅过的文献资料及调研情况、现有设备、实验条件等） 研究概况及发展趋势
（1）温度控制系统的研究概况 温度控制系统由被控对象、测量装置、调节器和执行机构等部分构成。被控对象是 一个装置或一个过程，它的温度是被控制量。测量装置对被控温度进行测量，并将测量 值与给定值比较， 若存在偏差便由调节器对偏差信号进行处理，再输送给执行机构来增 加或减少供给被控对象的热量， 使被控温度调节到整定值。测量装置的精度直接影响温 度控制系统的精度，因此在高精度温度控制系统中必须采用高精度的温度测量装置。 目前测量温度可分为两类：接触式测量方式、非接触式测量方式。接触式测温方法 是使温度敏感元件直接与被测对象相接触，当被测温度与感温元件达到热平衡时，温度 敏感元件与被测对象的温度相等。这类温度传感器具有结构简单、工作可靠、精度高、 稳定性好、 价格低廉等优点。 使用这类测温方法的温度传感器主要有膨胀式温度传感器、 电阻式温度传感器、 热电偶温度传感器。非接触式测温方法是应用物体的热辐射能量随 温度的变化而变化的原理。 物体辐射能量的大小与温度有关，并且以电磁波形式向四周 辐射。 当选择合适的接收检测装置时，便可测得被测对象发出的热辐射能量并且转换成 可测量和显示的各种信号， 实现温度的测量。非接触式温度传感器理论上不存在热接触 式温度传感器的测量滞后和在温度范围上的限制，可测高温、腐蚀、有毒、运动物体及 固体、液体表面的温度，不干扰被测温度场，但精度较低，使用不太方便。 （2）国内外的发展趋势 国外对温度控制技术研究较早，始于 20 世纪 70 年代。先是采用模拟式的合仪表， 采集现场信息并进行指示、记录和控制。80 年代末出现了分布式控制系统。目前正开 发和研制计算机数据采集控制系统的多因子综合控制系统。 现在世界各国的温度测控技 术发展很快，一些国家在实现自动化的基础上正向着完全自动化、无人化的方向发展。 我国对于温度测控技术的研究较晚，始于 20 世纪 80 年代。我国工程技术人员在吸收发 达国家温度测控技术的基础上， 才掌握了温度室内微机控制技术，该技术仅限于对温度 的单项环境因子的控制。我国温度测控设施以及计算机应用，在总体上正从消化吸收、 简单应用阶段向实用化、综合性应用阶段过渡和发展。在技术上，以单片机控制的单参 数单回路系统居多，尚无真正意义上的多参数综合控制系统，与发达国家相比，存在较 大差距。 我国温度测量控制现状还没有达到工厂全自动化的程度，生产实际中仍然有许 多问题困扰着我们，存在着装备配套能力差，产业化程度低，环境控制水平落后，软硬 件资源不能共享和可靠性差等缺点。 在今后的温控系统的研究中会趋于智能化， 集成化， 系统的各项性能指标更准确，更加稳定可靠。
基于PLC的硅片清洗机电气控制系统设计题目说明及任务
基于PLC的硅片清洗机电气控制系统设计题目说明及任务太阳能光伏产业的迅速发展，使得我国太阳能硅片清洗设备的发展举世瞩目，并呈现稳定增长势头。
伴随着硅片的大直径化,器件结构的超微小化、高集成化,对硅片的洁净程度、表面的化学态、微粗糙度等表面状态的要求越来越高，主流工艺已经在从90nm向65nm过渡。
太阳能电池板铝边框冲孔模设计高集成化的器件要求硅片清洗必须减少给硅片表面带来的破坏和损伤,减少溶液本身或工艺过程中带来的玷污。
而太阳能清洗设备也正向着小型化、非盒式化及一次完成化方向发展,以减少工艺过程中的玷污,满足90nm乃至65nm级器件工艺的要求。
这无论对清洗工艺还是对清洗设备都是一个极大的挑战,传统的清洗方法已不能满足要求。
江苏林洋新能源有限公司采用的是深圳捷佳创精密设备有限公司的硅片清洗设备，本设备是一个全自动的处理设备，清洗过程由欧姆龙的CPIL-M40DR-A系列PLC控制，操作员通过10.4英寸彩色触摸屏控制生产。
随着自动清洗机的出现，操作人员不在需要手动清洗，可以不再直接接触到酸碱性液体，减少了被这些腐蚀性液体伤害到的可能性，大大的提高了工作安全；同时硅片清洗机又是集触摸屏于PLC控制为一体的清洗设备，使设备运行更灵活，更方便；在经济方面，清洗机的全自动处理，使原来的清洗周期更加缩短，提高了生产效率，从而增加了企业的经济效益一、硅片清洗机的结构及主要工艺概述该硅片清洗机名称为CSE-CS-NO55,型号为CSE-SC09-N51,重量为1000Kg，其结构图见图1-1所示。
图 1-1硅片清洗机的结构图硅片清洗机的操作台面如图1-2所示，其操作高度为850mm,适合于身高为1.5m到1.8m 的人员操作，且其两侧具有透明活动玻璃门，可以防止门外的不洁净空气进入门内影响硅片的洁净度，和防止门内的酸碱气体溢流出门外而影响周围的工作人员。
且其各槽的材料都具有耐酸耐碱性，各主要参数见表1所示。
图1-2台面布局图表1 各槽位主要技术参数二、系统的动作过程及对自动控制的要求1、动作过程及控制要求（1）整机PLC/OUCH SCREEN 带有安全保护装置，设备地步配有，防漏盘，电控箱正压装置。
全自动太阳能硅片清洗机的研制
Hale Waihona Puke Ｔｈｅ Ｄｅ ｖ ｅ ｌ ｏ ｐ ｍｅ ｎｔ ａ ｎｄ Ｒｅ ｓ ｅ ａ ｒ ｃ ｈ ｏ ｆ Ａｕ ｔ ｏ ｍａ ｔ ｉ ｃ Ｓｏ ｌ ａ ｒ Ｗ ａ ｆ ｅ ｒ ｓ Ｃｌ ｅ ａ ｎ ｉ ｎｇ Ｅｑ ｕｉ ｐｍ ｅ ｎ ｔ
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遣 茎 鱼
星 蚕 秦 昌
团
全 自动太 阳能硅 片清 洗机 的研 制
孟 超， 胡 子卿 ， 常 志， 时 璇， 申璐 青
（ 中 国 电子 科 技 集 团公 司第 二研 究 所 ， 山西 太 原 ０ ３ ０ ０ ２ ４ ）
摘 要 ： 全 自动 太 阳能硅 片清 洗机 是 对脱 胶 预 清洗之 后 的硅 片进 行进 一 步 的 清洗 。 为 了保 证得 到 洁 净 的硅 片 ， 除 了采 用碱 溶 液 清洗 之 外 ， 清洗 设 备还 增 加 了浸 泡 、 超 声 清洗 、 抛动 、 鼓 泡等 清洗 工艺． 提 高 了硅 片的 清洗 质 量和 可 靠性 ， 保证 了硅 片的 清洗合 格 率 。 采 用先进 的 自动控 制 系统 ， 不
光伏硅片清洗机工作原理
光伏硅片清洗机工作原理光伏硅片清洗机是一种专门用于清洗光伏硅片的设备，其工作原理是通过一系列的步骤对光伏硅片进行清洗，以提高光伏发电系统的效率和稳定性。
光伏硅片清洗机的工作原理主要包括以下几个步骤：1. 预处理：在清洗之前，光伏硅片需要经过预处理。
预处理的目的是去除硅片表面的污垢和杂质，以便后续的清洗工作更加彻底。
预处理通常包括使用溶液对硅片进行浸泡，以软化和溶解表面的污垢。
预处理的时间和溶液的浓度可以根据实际情况进行调整。
2. 清洗：在预处理之后，光伏硅片进入清洗阶段。
清洗通常使用喷淋或浸泡的方式进行。
喷淋清洗是指将清洗液通过喷嘴均匀地喷洒在硅片表面，以去除表面的污垢。
浸泡清洗是指将硅片浸泡在清洗液中，使清洗液能够充分接触到硅片表面，以去除污垢。
清洗液通常是一种具有较强清洁能力的溶液，可以有效去除表面的污垢和杂质。
3. 冲洗：清洗完毕后，光伏硅片需要进行冲洗，以去除清洗液和残留的污垢。
冲洗通常使用高压喷水的方式进行，可以将硅片表面的残余物质冲洗干净。
冲洗时需要注意控制喷水的压力和角度，以避免对硅片造成损害。
4. 干燥：冲洗完毕后，光伏硅片需要进行干燥以去除表面的水分。
干燥通常使用热风或真空的方式进行。
热风干燥是指利用热风将硅片表面的水分蒸发掉，真空干燥是指将硅片置于真空环境中，利用真空吸附和蒸发的方式去除水分。
干燥的时间和温度可以根据实际情况进行调整，以确保硅片表面完全干燥。
光伏硅片清洗机的工作原理简单明了，通过预处理、清洗、冲洗和干燥等步骤，能够有效地清洗光伏硅片表面的污垢和杂质，提高光伏发电系统的效率和稳定性。
同时，光伏硅片清洗机还具有自动化、高效率和节能环保等特点，能够满足光伏发电系统对清洗设备的要求。
光伏硅片清洗机的工作原理是通过预处理、清洗、冲洗和干燥等步骤对光伏硅片进行清洗，以提高光伏发电系统的效率和稳定性。
其工作原理简单明了，操作方便，能够满足光伏发电系统对清洗设备的要求。
光伏硅片清洗机在光伏发电系统中的应用前景广阔，对于推动光伏发电技术的发展具有重要意义。
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附件1：
XXX大学
2、采用机械手，可以灵活调节清洗工艺。
3、采用超声波清洗，鼓泡冲洗等工艺。
4、采用多频段超声波清洗。
5、全封闭系统，干净美观。
6、设备内部简单，方便维修。
7、上下料有专用机构，方便员工操作[7]。
图1 超声波清洗机工作示意图
这种硅片清洗机的原理为是利用超声波渗透力强的机械振动冲击硅片表面及产生的空化作用并结合清洗剂的化学去污作用达到对硅片表面附着的碳化硅、硅粉、金属粉末、油污、悬浮液、等杂质的去除，从而获得表面清洁的硅片[3]。
硅片清洗机在国内外虽然应用广泛，但也存在不少问题，例如：当超声波振动较大时，由于振动摩擦，可能会使硅片表面产生划痕，还有化学试剂的使用，会产生大量的废水，从而污染环境[5]。
所以，社会迫切需要一种新的太阳能硅片清洗机，来解决上面的问题。
经过我的调查，目前行业人员比较青眛的是一种利用激光瞬时热膨胀机理原理的清洗机来清洗硅片，其主要优点有：1对于死角等难清洗部位能做到有效的清洗。
2不会损害材料的内部结构及化学物理性能。
3不用化学试剂，环境污染少。
4设备运行效率高，运行成本低，维护方便，还便于联网来实现机械的自动化控制。
总体上来说，国内外的生产厂家所生产的太阳能硅片清洗机逐步向着综合化、集成化、自动化、智能化等方向发展[6]，并且要求清洗设备要尽量做到绿色环保，无污染。
三、主要参考文献.
[1].侯倩萍.分析太阳能多晶硅片表面污染物去除技术[J].山东工业技术,2018(21):57
[2].陈志磊.硅片清洗及最新发展[J].科技与企业.2013（12）
[3].孟超，胡子卿，常志，时璇，申璐青全自动太阳能硅片清洗机的研制[J].电子工业专用设
备，2013,42（05）。